[發明專利]光刻設備和器件制造方法有效
| 申請號: | 201380043945.5 | 申請日: | 2013-08-15 |
| 公開(公告)號: | CN104769500B | 公開(公告)日: | 2018-07-31 |
| 發明(設計)人: | H·H·M·考克斯;M·M·G·希倫;P·M·S·M·海杰曼斯;J·J·韋爾滕;J·H·A·范德里杰特;G·K·H·F·格倫;A·凱克勞德 | 申請(專利權)人: | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務所 11256 | 代理人: | 王茂華;呂世磊 |
| 地址: | 荷蘭維*** | 國省代碼: | 荷蘭;NL |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光刻 設備 器件 制造 方法 | ||
描述了一種電磁致動器,該致動器包括:線圈組件(350),包括線圈(355);磁體組件,包括第一磁體單元和第二磁體單元(360、370),每個磁體單元包括磁軛(365、375)和被安裝至磁軛的多個永磁體(366、376),第一磁體單元和第二磁體單元形成用于接收線圈組件的磁路,并且在激勵線圈時,產生在第一方向上的力;以及保持器(600),用于保持磁體單元,其中磁體組件相對于線圈組件的重量比小于在力相對于電功率的比被最大化時磁體組件相對于線圈組件的重量比。
本申請要求享有2012年8月21日提交的美國臨時申請61/691,718的優先權,并且將其通過整體引用并入本文。
技術領域
本發明涉及電磁致動器、用于光刻設備的支撐件、用于光刻設備的支撐件的制造方法、以及光刻設備。
背景技術
光刻設備是將所需圖案施加至襯底上(通常施加至襯底的目標部分上)的機器。光刻設備例如可以用在集成電路(IC)的制造中。在該情形下,備選地稱作掩模或掩模版的圖案形成裝置可以用于產生將要形成在IC的單個層上的電路圖案。該圖案可以轉移至襯底(例如硅晶片)上的目標部分(例如包括一個或數個裸片的一部分)上。圖案的轉移通常是經由向輻射敏感材料(抗蝕劑)的層上成像而被提供在襯底上。通常,單個襯底將包含連續圖案化的相鄰目標部分的網絡。常規的光刻設備包括其中通過一次將整個圖案曝光至目標部分上而照射每個目標部分的、所謂的步進機,以及其中通過沿給定方向(“掃描”方向)通過輻射束掃描圖案、同時與該方向平行或反平行同步掃描襯底而照射每個目標部分的、所謂掃描機。也可以通過將圖案壓印至襯底上而將圖案從圖案形成裝置轉移至襯底。
為了精確定位襯底和圖案形成裝置,通常應用包括電磁致動器和線性電動機的定位裝置。作為示例,這樣的定位裝置可以包括致動器組件以及用于在相當大的距離之上布置襯底(例如被安裝至支撐件)平面電動機或線性電動機組件(諸如H驅動裝置),該致動器組件包括用于在相當小的距離之上精確定位襯底和支撐件的多個電磁致動器,諸如洛倫茲致動器。通常,關于每單位電功率產生的力來優化這樣的電動機和/或致動器。然而,當關于加速度的需求增加時,因此優化的致動器可以本身變成限制因素。因此,存在重新查看和重新設計用于襯底或圖案形成裝置的已知致動器和支撐件的需要,以便解決關于加速度或者大體上階段性能的增加的需求。
發明內容
希望提供能夠滿足針對光刻設備中的支撐件的增加的加速度需求的電磁致動器。
根據本發明的一個實施例,提供了一種電磁致動器,包括:
線圈組件,包括至少一個線圈;
磁體組件,包括第一磁體單元和第二磁體單元,每個磁體單元包括磁軛和被安裝至磁軛的多個永磁體,第一磁體單元和第二磁體單元形成用于接收線圈組件的磁路,并且在激勵所述線圈時產生在第一方向上的力;以及
保持器,用于保持磁體單元;其中磁體組件相對于線圈組件的重量比小于在力相對于電功率的比被最大化時磁體組件相對于線圈組件的重量比。
根據本發明的另一實施例,提供了一種用于支撐光刻設備中的物體或者物體保持器的支撐件,支撐件包括一個或多個致動器,該一個或多個致動器包括:
線圈組件,包括至少一個線圈;
磁體組件,包括第一磁體單元和第二磁體單元,每個磁體單元包括磁軛和被安裝至磁軛的多個永磁體,第一磁體單元和第二磁體單元形成用于接收線圈組件的磁路,并且在激勵所述線圈時產生在第一方向上的力;以及
保持器,用于保持磁體單元;其中一個或多個致動器的保持器被剛性安裝至支撐件。
根據本發明的另一實施例,提供了一種用于支撐光刻設備中的物體或者物體保持器的支撐件,支撐件包括成對的致動器,每個致動器包括:
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