[發明專利]光定向調制顯示器有效
| 申請號: | 201380043756.8 | 申請日: | 2013-08-05 |
| 公開(公告)號: | CN104583844B | 公開(公告)日: | 2019-04-30 |
| 發明(設計)人: | A·尼南 | 申請(專利權)人: | 杜比實驗室特許公司 |
| 主分類號: | G02F1/01 | 分類號: | G02F1/01;G09G3/34;G02F1/13357 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038 | 代理人: | 宋巖 |
| 地址: | 美國加*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光反射體 調制器 像素光 調制 反射表面 接收表面 透射狀態 圖像數據 光定向 照射光 漫射 像素 光源 顯示器 包圍 | ||
一種光源,包括光反射體和多像素光調制器。光反射體被反射表面包圍。光可以注入到光反射體中并在整個光反射體中漫射。基于調制照射光接收表面的多像素部分的光的圖像數據,多像素光調制器具有各自的透射狀態。
相關申請的交叉引用
本申請要求于2012年8月10日提交的美國臨時專利申請No.61/681,870的優先權,該美國臨時專利申請的全部內容通過引用被結合于此。
技術領域
本發明一般地涉及顯示系統,并且更具體而言,涉及顯示系統中包括兩級或更多級光調制的光源。
背景技術
雙調制顯示器提供了增大的局部峰值亮度和降低的整體亮度。顯示器的每個像素可以具有高峰值亮度,例如400-1000尼特(nit)或甚至更多。但是,顯示器工作期間大部分像素可能只需要以低得多的亮度,例如100尼特或甚至更低,呈現。能夠跨全屏生成400-1000尼特的顯示器不必要地對每個像素采用昂貴的部件來實現高局部峰值亮度,并且由于利用不足、過度供應的光能而生成過多的熱量。
諸如移動設備的小顯示系統可能沒有足夠的空間來安裝大量的有源發光元件。但是,能夠提供相對均勻的全屏照明的低填充因子單板對于制作或安裝會是昂貴的,尤其是在其中空間可用性非常珍貴的小形式因子的設備當中。另外,組裝到一起用于全屏照明的多個低填充因子的照明模塊常常呈現不期望的視覺假象,諸如多個照明模塊的邊界區域中和/或諸如被板上電路系統占用的其它區域中在視覺上可察覺到的線條、陰影和不均勻??梢园惭b諸如光漫射器的附加部件,以改善或減少不期望的視覺假象,由此導致移動設備更大和更重的形式因子。
這部分中所描述的方法是可以被探究的方法,但不一定是之前已經被其他人設想或探究的方法。因此,除非另外指出,否則不應當僅憑其在這部分中的包括就假設在這部分中描述的任何方法有資格被當作現有技術。類似地,除非另外指出,否則關于一種或多種方法確定出的問題不應當基于這部分就假設已經在任何現有技術中被確定出。
附圖說明
本發明是作為例子而不是作為限制在附圖的圖示中示出的,并且其中類似的標號指類似的元件,并且其中:
圖1A至1D圖示出根據一實施例的示例光源配置;
圖2A和圖2B圖示出根據一實施例的示例多像素光調制器;
圖3圖示出根據一實施例的包括快門狀態和透射級別的各種組合的示例透射狀態;
圖4圖示出根據一實施例的配置為把光引導到多像素調制器中的示例凹面鏡;
圖5圖示出根據一實施例的示例光定向調制區塊(tile);
圖6圖示出根據一實施例的包括光源控制器和光定向調制光源的示例顯示系統;
圖7圖示出根據本發明一實施例的示例處理流程;及
圖8圖示出根據一實施例的如本文所述的計算機或計算設備可以在其上實現的示例硬件平臺。
具體實施方式
本文描述關于光定向調制技術的示例實施例。在以下描述中,為了解釋而闡述各種具體的細節,以便提供對本發明的透徹理解。但是,清楚的是,本發明沒有這些具體細節也可以實踐。在其它情況下,眾所周知的結構和設備沒有詳盡地描述,以避免不必要地包括、模糊或混淆本發明。
示例實施例是根據以下提綱在本文描述的:
1.一般性概述
2.示例光源
3.多像素光調制器
4.透射狀態
5.光定向調制
6.填充因子
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