[發(fā)明專利]光定向調(diào)制顯示器有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201380043756.8 | 申請日: | 2013-08-05 |
| 公開(公告)號: | CN104583844B | 公開(公告)日: | 2019-04-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | A·尼南 | 申請(專利權(quán))人: | 杜比實驗室特許公司 |
| 主分類號: | G02F1/01 | 分類號: | G02F1/01;G09G3/34;G02F1/13357 |
| 代理公司: | 中國國際貿(mào)易促進委員會專利商標(biāo)事務(wù)所 11038 | 代理人: | 宋巖 |
| 地址: | 美國加*** | 國省代碼: | 美國;US |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光反射體 調(diào)制器 像素光 調(diào)制 反射表面 接收表面 透射狀態(tài) 圖像數(shù)據(jù) 光定向 照射光 漫射 像素 光源 顯示器 包圍 | ||
1.一種光源,包括:
光反射體,被一個或更多個光反射表面包圍,該光反射體配置為在該光反射體內(nèi)再循環(huán)入射到所述一個或更多個光反射表面上的光;及
多個多像素光調(diào)制器,配置為基于圖像數(shù)據(jù)設(shè)置成各自的透射狀態(tài)以便調(diào)制(a)從光反射體射出并且(b)照射光接收表面的各自的多像素部分的光,其中所述多個多像素光調(diào)制器空間地嵌入到所述一個或更多個光反射表面當(dāng)中的至少一個光反射表面中,
其中至少兩個相鄰的多像素部分共享對應(yīng)于顯示面板的一個或更多個共用像素的共用部分,
其中所述一個或更多個光反射表面中的光反射表面包括多個凹面鏡。
2.如權(quán)利要求1所述的光源,其中光接收表面的多像素部分對應(yīng)于顯示面板上的一組像素,并且其中光接收表面的每個多像素部分對應(yīng)于顯示面板上的兩個或更多個像素。
3.如權(quán)利要求1所述的光源,其中光反射體包括在該光反射體的一個或更多個部件中的量子點。
4.如權(quán)利要求1所述的光源,其中所述多個多像素光調(diào)制器當(dāng)中的至少一個多像素光調(diào)制器包括以下中的至少一個:透鏡、快門、光圈、液晶光閥、機械閥、光導(dǎo)、凹面鏡或者量子點。
5.如權(quán)利要求1所述的光源,其中提供給光反射體的光是從以下中的至少一個發(fā)射的:側(cè)光式有源光發(fā)射器或直射式有源光發(fā)射器。
6.如權(quán)利要求1所述的光源,其中提供給光反射體的光是從以下中的至少一個發(fā)射的:發(fā)光二極管(LED)、冷陰極熒光燈(CCFL)、基于量子點的光轉(zhuǎn)換器、有機發(fā)光二極管(OLED)、熒光燈、白熾燈或者氣體放電燈。
7.如權(quán)利要求1所述的光源,其中所述多個多像素光調(diào)制器當(dāng)中的至少兩個多像素光調(diào)制器配置為利用不同顏色的光照射光接收表面的各自的多像素部分中的多像素部分。
8.如權(quán)利要求1所述的光源,其中所述多個多像素光調(diào)制器當(dāng)中的至少一個多像素光調(diào)制器配置為利用一個或更多個選定光譜范圍的光波長照射光接收表面的各自的多像素部分中的多像素部分。
9.如權(quán)利要求1所述的光源,其中在圖像幀時間內(nèi)照射在光接收表面的一部分上的光的最大強度與在該圖像幀時間內(nèi)同時照射該一部分的多像素光調(diào)制器的個數(shù)成比例。
10.如權(quán)利要求1所述的光源,其中光接收表面包括以下中的至少一個:矩形形狀、多邊形形狀、彎曲形狀、球形形狀、凹形狀、凸形狀、不規(guī)則形狀或者不相交的形狀。
11.如權(quán)利要求1所述的光源,其中所述多個多像素光調(diào)制器被劃分成一個或更多個單獨可安裝的模塊。
12.如權(quán)利要求1所述的光源,其中在圖像幀時間內(nèi)照射在光接收表面的第一部分上的光不超過30尼特,并且其中在相同的圖像幀時間內(nèi)照射在光接收表面的第二不同部分上的光超過30尼特、100尼特、500尼特或1000尼特中的一者。
13.如權(quán)利要求1所述的光源,其中光接收表面的一部分配置為在圖像幀時間內(nèi)同時被由一個或更多個多像素光調(diào)制器引導(dǎo)的光照射,并且其中該一部分上的光強度配置為利用以下中的至少一個控制:調(diào)節(jié)這一個或更多個多像素光調(diào)制器的光透射狀態(tài),調(diào)節(jié)處于非暗透射狀態(tài)的這一個或更多個多像素光調(diào)制器的空間密度,調(diào)節(jié)來自這一個或更多個多像素光調(diào)制器的照射的持續(xù)時間,或者調(diào)節(jié)這一個或更多個多像素光調(diào)制器的光方向。
14.如權(quán)利要求1所述的光源,其中所述一個或更多個光反射表面中的至少一個光反射表面包括多個光照射模塊,并且其中每個光照射模塊包括所述多個多像素光調(diào)制器當(dāng)中的一個或更多個多像素光調(diào)制器。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
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