[發(fā)明專利]用于對壓板進(jìn)行等離子體涂覆的裝置的應(yīng)用及相應(yīng)方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201380042267.0 | 申請日: | 2013-08-06 |
| 公開(公告)號: | CN104755653B | 公開(公告)日: | 2017-09-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | A·格貝舒伯;D·黑姆;J·萊默;T·米勒;M·普羅舍克;O·施塔德勒;H·施托里 | 申請(專利權(quán))人: | 貝恩多夫許克鏈帶與壓板技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/50 | 分類號: | C23C16/50;B30B15/06;C23C16/52;H01J37/32 |
| 代理公司: | 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會專利商標(biāo)事務(wù)所11038 | 代理人: | 張立國 |
| 地址: | 奧地利*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 特別是 壓板 進(jìn)行 等離子體 裝置 方法 | ||
1.用于對壓板(2)進(jìn)行等離子體涂覆的裝置(100..103)的應(yīng)用,所述裝置包括真空腔(3)以及設(shè)置在其中的電極(400..409),所述電極在運(yùn)行中基本上與所述壓板(2)平行并且與所述壓板的要涂覆的側(cè)面相對地定位,其中,對電極(400..409)進(jìn)行分割并且電極區(qū)段(500..512)中的每一個電極區(qū)段具有一個自己的用于電能量源(700..702)的連接端(6),所述電極區(qū)段(500..512)的大小選擇為,使得該電極區(qū)段(500..512)內(nèi)的電能不再足以引起電弧,并且其中,電極(400..409)具有缺口(10)或者格柵狀地構(gòu)成,并且通過所述缺口(10)或者通過格柵可引導(dǎo)工藝氣體。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的應(yīng)用,其特征在于:所述裝置(100..103)的各個電極區(qū)段(501、504、505)彼此絕緣。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的應(yīng)用,其特征在于:所述裝置(100..103)的各個電極區(qū)段(502、503)相互間通過狹長的板條(9)或者經(jīng)定義的歐姆電阻連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的應(yīng)用,其特征在于:所述裝置(100..103)的各個電極區(qū)段(510)通過狹長的板條或者經(jīng)定義的歐姆電阻與至少一個能量源(700)連接。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的應(yīng)用,其特征在于:所述裝置(100..103)包括多個能彼此無關(guān)地控制/調(diào)節(jié)的能量源(701、702),所述能量源經(jīng)由所述連接端(6)與電極區(qū)段(500..512)連接。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的應(yīng)用,其特征在于:所述裝置(100..103)的每一個電極區(qū)段(510)都與各一個能量源(701..706)連接,所述能量源能與其余能量源(701..706)無關(guān)地控制/調(diào)節(jié)。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的應(yīng)用,其特征在于:所述裝置(100..103)包括控制器件(1101),所述控制器件設(shè)置為用于將能量源(701、702)交替地接通到一組(1301、1302)電極區(qū)段(508)中的各一個電極區(qū)段(508)上,而所述組(1301、1302)的其余電極區(qū)段(508)的各連接端(6)切換到與前述的電極區(qū)段(508)相絕緣的打開狀態(tài)中。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項所述的應(yīng)用,其特征在于:所述裝置(100..103)的一個電極區(qū)段(500..512)的面積小于等于1㎡。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項所述的應(yīng)用,其特征在于:所述裝置(100..103)的所述能量源(701..706)構(gòu)成為電流源。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的應(yīng)用,其特征在于:每個電極區(qū)段(500..512)的最大電流強(qiáng)度小于等于150A。
11.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項所述的應(yīng)用,其特征在于:所述裝置(100..103)的所述電極區(qū)段(503)格柵狀地構(gòu)成。
12.根據(jù)上述權(quán)利要求1至7中任一項所述的應(yīng)用,其特征在于:所述裝置(100..103)的電極(405)在其邊緣區(qū)域中朝著要涂覆的壓板(2)彎曲。
13.用于對壓板(2)進(jìn)行等離子體涂覆的方法,其特征在于以下步驟:
a)將要涂覆的壓板(2)與設(shè)置在真空腔(3)中的經(jīng)分割的電極(400..409)相對地并且基本上與所述電極平行定位地設(shè)置在真空腔(3)中,所述電極區(qū)段(500..512)的大小選擇為,使得該電極區(qū)段(500..512)內(nèi)的電能不再足以引起電弧;
b)激活至少一個配設(shè)給電極(400..409)的電極區(qū)段(500..512)的能量源(700..706);以及
c)通過在電極(400..409)中的缺口(10)或者通過格柵狀的電極(400..409)引入氣體,其中,所述氣體在壓板坯(2)上引起等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法,其特征在于:為每個電極區(qū)段(500..512)激活各一個能量源(701..706)并且所述能量源與其余能量源(701..706)無關(guān)地控制/調(diào)節(jié)。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機(jī)材料為特征的





