[發(fā)明專利]曝光裝置的除塵裝置和除塵方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201380040503.5
• 申請日: 2013-09-05
• 公開（公告）號: CN104508561A
• 公開（公告）日: 2015-04-08
• 發(fā)明（設計）人: 松田政昭;森田亮
• 申請（專利權）人: 株式會社ORC制作所
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;B08B1/04;H01L21/027;H01L21/304
• 代理公司: 北京三友知識產(chǎn)權代理有限公司 11127
• 代理人: 李輝;黃綸偉

技術領域

本發(fā)明涉及在感光性基板上曝光出圖案的曝光裝置，特別涉及其除塵裝置以及除塵方法。

背景技術

在印刷基板、半導體基板等各種基板的制造中，使用了如下光刻技術的曝光裝置被廣泛使用：在涂敷了光致抗蝕劑(感光材料)的工件(感光性基板)上曝光成規(guī)定的圖案并進行烘焙，然后，通過蝕刻工序在工件上形成圖案。在這樣的曝光裝置中，公知有使掩模與工件貼緊而進行曝光的接觸曝光方式、掩模與工件不接觸的接近間隙(proximity?gap)方式和投影(projection)方式、不具有掩模的直接曝光方式等各種方式。此外，還公知有對工件的兩個面進行曝光的兩面曝光方式以及只在單面進行曝光的單面曝光方式。

在任意方式的曝光裝置中，當將在外部環(huán)境中被灰塵、污物或者異物等(以下，適當將它們統(tǒng)稱為“灰塵”)污染的工件放入曝光裝置內時，被污染的工件自身會產(chǎn)生曝光缺陷、顯影缺陷。此外，在載置工件的曝光臺和使用掩模的裝置中，灰塵有可能會被轉印在掩模上而同樣成為引起曝光缺陷、顯影缺陷的原因。此外，來自工件的光致抗蝕劑的起塵也會產(chǎn)生相同的問題。

現(xiàn)有專利文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2002-162749號公報

專利文獻2：日本特開2007-25436號公報

專利文獻3：日本特開2009-157249號公報

發(fā)明內容

發(fā)明要解決的課題

專利文獻1、2、3提出了如下除塵裝置：為了對這樣的曝光裝置的除塵對象物(工件、曝光臺或掩模)進行除塵，使在周面上具有粘著材料的除塵輥(粘著輥)在除塵對象物表面上滾動。

然而，在專利文獻1的除塵裝置中，當除塵輥在掩模與曝光臺上滾動時，暫時附著于除塵輥的灰塵有可能會再次移動(再次附著)到掩模或曝光臺上。在專利文獻2的除塵裝置中，分別設置掩模除塵用的除塵輥與曝光臺除塵用的除塵輥，但是同樣地，暫時附著于除塵輥的灰塵有可能再次移動(再次附著)到掩模或曝光臺上。在專利文獻3的除塵裝置中，由于在1個清潔單元上設置有分別對工件、曝光臺和掩模進行除塵的除塵輥，因此會使裝置大型化、高重量化。此外，與專利文獻1、2的除塵裝置不同，存在無法實現(xiàn)與工件的輸送裝置之間的兼用化的問題。

本發(fā)明的目的在于，基于意識到與現(xiàn)有裝置有關的以上問題，得到一種曝光裝置的除塵裝置和除塵方法，該曝光裝置的除塵裝置和除塵方法使得在除塵中暫時附著于除塵輥而被去除的灰塵、污物或異物等不會再次附著到除塵對象物上。

用于解決課題的手段

本發(fā)明的曝光裝置的除塵裝置，所述曝光裝置在感光性基板上曝光出圖案，其特征在于，所述曝光裝置的除塵裝置具有：除塵輥，其能夠通過周面與所述曝光裝置內的除塵對象物的除塵表面接觸/分離；以及移動機構，其以在使所述除塵輥的周面與所述除塵對象物的除塵表面接觸的同時使所述除塵輥旋轉的方式，使所述除塵輥與除塵對象物相對移動，所述除塵輥的周長被設定為比由所述移動機構控制的、所述除塵輥的周面與所述除塵對象物的除塵表面的接觸移動距離長。

作為所述除塵輥，可以設置多個除塵輥，這多個除塵輥在將單一的除塵對象物的除塵表面分割成多個部分而得到的分割除塵表面上滾動，各除塵輥的周長被設定為比各除塵輥的周面與各分割除塵表面的接觸移動距離長。

作為所述除塵輥，可以設置第1、第2除塵輥，該第1、第2除塵輥在將單一的除塵對象物的除塵表面分割成2部分而得到的第1、第2分割除塵表面上滾動，將所述第1除塵輥的周長設定為比所述第1除塵輥的周面與所述第1分割除塵表面的接觸移動距離長，將所述第2除塵輥的周長設定為比所述第2除塵輥的周面與所述第2分割除塵表面的接觸移動距離長。

優(yōu)選的是，本發(fā)明的曝光裝置的除塵裝置還具有控制部，該控制部交替進行所述第1除塵輥在所述第1分割除塵表面上的滾動和所述第2除塵輥在所述第2分割除塵表面上的滾動。

所述除塵輥也可以由在單一的除塵對象物的整個除塵表面上滾動的單一輥構成。

所述移動機構還可以兼用作保持感光性基板并使其移動的工件移動機構。

所述除塵對象物可以包含感光性基板、曝光臺以及掩模中的1個以上。

優(yōu)選的是，本發(fā)明的曝光裝置的除塵裝置還具有集塵裝置，該集塵裝置對附著于所述除塵輥的灰塵進行集塵。