[發明專利]曝光裝置的除塵裝置和除塵方法

有效

• 申請號: 201380040503.5
• 申請日: 2013-09-05
• 公開（公告）號: CN104508561A
• 公開（公告）日: 2015-04-08
• 發明（設計）人: 松田政昭;森田亮
• 申請（專利權）人: 株式會社ORC制作所
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;B08B1/04;H01L21/027;H01L21/304
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 李輝;黃綸偉

1.一種曝光裝置的除塵裝置，所述曝光裝置在感光性基板上曝光出圖案，其特征在于，所述曝光裝置的除塵裝置具有：

除塵輥，其能夠通過周面與所述曝光裝置內的除塵對象物的除塵表面接觸/分離；以及

移動機構，其以在使所述除塵輥的周面與所述除塵對象物的除塵表面接觸的同時使所述除塵輥旋轉的方式，使所述除塵輥與除塵對象物相對移動，

所述除塵輥的周長被設定為比由所述移動機構控制的所述除塵輥的周面與所述除塵對象物的除塵表面的接觸移動距離長。

2.根據權利要求1所述的曝光裝置的除塵裝置，其中，

所述曝光裝置的除塵裝置具有多個所述除塵輥，多個所述除塵輥在將單一的除塵對象物的除塵表面分割成多個部分而得到的分割除塵表面上滾動，

各除塵輥的周長被設定為比各除塵輥的周面與各分割除塵表面的接觸移動距離長。

3.根據權利要求2所述的曝光裝置的除塵裝置，其中，

所述除塵輥具有第1除塵輥和第2除塵輥，所述第1除塵輥和所述第2除塵輥在將單一的除塵對象物的除塵表面分割成2部分而得到的第1分割除塵表面和第2分割除塵表面上滾動，

所述第1除塵輥的周長被設定為比所述第1除塵輥的周面與所述第1分割除塵表面的接觸移動距離長，

所述第2除塵輥的周長被設定為比所述第2除塵輥的周面與所述第2分割除塵表面的接觸移動距離長。

4.根據權利要求3所述的曝光裝置的除塵裝置，其中，

所述曝光裝置的除塵裝置還具有控制部，該控制部交替進行所述第1除塵輥在所述第1分割除塵表面上的滾動以及所述第2除塵輥在所述第2分割除塵表面上的滾動。

5.根據權利要求1所述的曝光裝置的除塵裝置，其中，

所述除塵輥由在單一的除塵對象物的整個除塵表面上滾動的單一輥構成。

6.根據權利要求1至5中的任意一項所述的曝光裝置的除塵裝置，其中，

所述移動機構兼用作工件移動機構，該工件移動機構保持感光性基板并使其移動。

7.根據權利要求1至6中的任意一項所述的曝光裝置的除塵裝置，其中，

所述除塵對象物包含感光性基板、曝光臺以及掩模中的1個以上。

8.根據權利要求1至7中的任意一項所述的曝光裝置的除塵裝置，其中，

所述曝光裝置的除塵裝置還具有集塵裝置，該集塵裝置對附著于所述除塵輥的灰塵進行集塵。

9.一種曝光裝置的除塵方法，其特征在于，

該曝光裝置的除塵方法交替執行如下工序：

除塵工序，在使除塵輥的周面與曝光裝置內的除塵對象物的除塵表面接觸的同時使除塵輥滾動，來進行除塵；以及

清掃工序，對除塵工序結束后的所述除塵輥的周面進行清掃，

其特征在于，在1次除塵工序中，以不使所述除塵輥的周面上的同一部分與所述除塵對象物的除塵表面接觸兩次的方式來進行除塵。