[發(fā)明專利]合金濺射靶材、制造方法及軟磁性薄膜層、垂直磁記錄介質(zhì)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201380039755.6
• 申請(qǐng)日: 2013-08-12
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN104508167B
• 公開(kāi)（公告）日: 2017-08-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 長(zhǎng)谷川浩之;澤田俊之;松原慶明
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 山陽(yáng)特殊制鋼株式會(huì)社
• 主分類號(hào): C22C38/00
• 分類號(hào): C22C38/00;C22C1/04;C22C19/07;C22C30/00;C22C33/02;C23C14/34;G11B5/667;G11B5/851;H01F10/16;H01F41/18
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司11021
• 代理人: 張玉玲

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及Fe-Co系合金濺射靶材及其制造方法和軟磁性薄膜層及使用了它的垂直磁記錄介質(zhì)。

背景技術(shù)

近年來(lái)，磁記錄技術(shù)的進(jìn)步顯著，因?yàn)轵?qū)動(dòng)器的大容量化，磁記錄介質(zhì)的高記錄密度化推進(jìn)，能夠?qū)崿F(xiàn)比以往普及的面內(nèi)磁記錄介質(zhì)更高的記錄密度的垂直磁記錄方式得以實(shí)用化。所謂垂直磁記錄方式，就是對(duì)于垂直磁記錄介質(zhì)的磁性膜中的介質(zhì)面以沿著垂直方向取向的方式形成易磁化軸，是適于高記錄密度的方法。另外，在垂直磁記錄方式中，開(kāi)發(fā)出提高了記錄靈敏度的具有磁記錄膜層和軟磁性膜層的雙層記錄介質(zhì)。該磁記錄膜層一般使用的是CoCrPt-SiO₂系合金。

另一方面，在軟磁性膜層中，如日本特開(kāi)2006-294090號(hào)公報(bào)(專利文獻(xiàn)1)所公開(kāi)那樣提出有Fe-Co系合金膜。在此專利文獻(xiàn)1中，為了使膜結(jié)構(gòu)為非晶或微晶，在Fe和Co中添加20原子％以上的Si、Ni、Ta、Nb、Zr、Ti、Cr和/或Mo。

另外，在日本特開(kāi)2010-18884號(hào)公報(bào)(專利文獻(xiàn)2)中，提出有一種Fe-Co系合金系的濺射靶材，其特征在于，具有(Fe-20～80Co)-4～25Nb或Ta的組成，金屬間化合物相的尺寸以最大內(nèi)切圓計(jì)在10μm以下并具有共晶組織。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本特開(kāi)2006-294090號(hào)公報(bào)

專利文獻(xiàn)2：日本特開(kāi)2010-18884號(hào)公報(bào)

為了形成上述這樣的Fe-Co系合金膜，需要與之對(duì)應(yīng)的Fe-Co系濺射靶材。但是，實(shí)現(xiàn)上述這樣的膜組成的濺射靶材有在濺射中開(kāi)裂這樣的問(wèn)題。特別是專利文獻(xiàn)2所公開(kāi)的(Fe-20～80Co)-4～25Nb或Ta的組成的濺射靶材中具有共晶組織時(shí)，存在濺射時(shí)靶開(kāi)裂這樣的問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容

為了消除上述這樣的問(wèn)題，本發(fā)明者們進(jìn)行銳意開(kāi)發(fā)，其結(jié)果發(fā)現(xiàn)，通過(guò)調(diào)整濺射靶材的顯微組織，能夠防止濺射中的濺射靶材的裂紋而達(dá)成本發(fā)明。更具體地說(shuō)，是得出如下結(jié)論，即通過(guò)使全體顯微組織中共晶組織所占的面積在30％以下，能夠提供濺射中沒(méi)有裂紋的Fe-Co系合金濺射靶材。

因此，本發(fā)明的目的在于，提供一種濺射中沒(méi)有裂紋的Fe-Co系合金濺射靶材。

根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方式，提供一種Fe-Co系合金濺射靶材，是由下式(1)：

(Fe_X-Co_100-X)_100-YM_Y…(1)

(式中，原子比為0≤X≤100，4≤Y≤28，M元素含有Nb、Ta、Mo、W、Cr和V中的一種或兩種以上)

所表示的Fe-Co-M系合金構(gòu)成的Fe-Co系合金濺射靶材，

該濺射靶材的顯微組織具有以Fe和Co為主體的相、和由Fe與Co的中一種或兩種及M元素所構(gòu)成的金屬間化合物相，在全體顯微組織中共晶組織所占的面積為30％以下。

根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方式，提供一種方法，是本發(fā)明的Fe-Co-M系合金濺射靶材的制造方法，其包括通過(guò)熱等靜壓(HIP)，使該合金的熔液經(jīng)氣體霧化而制作的合金粉固化成形的工序。

根據(jù)本發(fā)明的又一個(gè)方式，提供一種由本發(fā)明的Fe-Co-M系合金濺射靶材成膜而成的軟磁性薄膜層。

根據(jù)本發(fā)明的再一個(gè)方式，提供一種具有本發(fā)明的軟磁性薄膜層的垂直磁記錄介質(zhì)。

附圖說(shuō)明

圖1是表示本發(fā)明的共晶組織的模式圖。圖中，s是金屬間化合物的橫寬方向的尺寸，d表示金屬間化合物之間最接近的部位的距離。

圖2是表1的No.1的反射電子像的電子顯微鏡照片。

具體實(shí)施方式

對(duì)于本發(fā)明的Fe-Co系合金濺射靶材，以下具體加以說(shuō)明。還有，除非特別的明示，否則含量(％)意思是at.％。

本發(fā)明的Fe-Co系合金濺射靶材，由下式(1)：

(Fe_X-Co_100-X)_100-YM_Y…(1)

(式中，原子比是0≤X≤100，4≤Y≤28，M元素含有Nb、Ta、Mo、W、Cr和V中的一種或兩種以上)所表示的Fe-Co-M系合金構(gòu)成。濺射靶材的顯微組織具有以Fe和Co為主體的相、和由Fe與Co的一種或兩種及M元素所構(gòu)成的金屬間化合物相。另外，全體顯微組織中共晶組織所占的面積為30％以下。