[發明專利]合金濺射靶材、制造方法及軟磁性薄膜層、垂直磁記錄介質有效
| 申請號： | 201380039755.6 | 申請日： | 2013-08-12 |
| 公開（公告）號： | CN104508167B | 公開（公告）日： | 2017-08-04 |
| 發明（設計）人： | 長谷川浩之;澤田俊之;松原慶明 | 申請（專利權）人： | 山陽特殊制鋼株式會社 |
| 主分類號： | C22C38/00 | 分類號： | C22C38/00;C22C1/04;C22C19/07;C22C30/00;C22C33/02;C23C14/34;G11B5/667;G11B5/851;H01F10/16;H01F41/18 |
| 代理公司： | 中科專利商標代理有限責任公司11021 | 代理人： | 張玉玲 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | fe co 合金 濺射 及其 制造 方法 磁性 薄膜 使用 垂直 記錄 介質 | ||
【權利要求書】：
1.一種合金濺射靶材，其是由下式(1)所表示的合金構成，
(FeX－Co100－X)100－YMY… (1)
式中，原子比是0≤X≤100，4≤Y≤28，M元素含有Nb、Ta、Mo、W、Cr和V中的一種或兩種以上，
其中，該濺射靶材的顯微組織具有以Fe和/或Co為主體的相、和由Fe與Co中的一種或兩種及M元素所構成的金屬間化合物相，全體顯微組織中共晶組織所占的面積為30％以下。
2.根據權利要求1所述的合金濺射靶材，其中，X是20～80，Y是10～25。
3.根據權利要求1所述的合金濺射靶材，其中，X是25～75，Y是15～23。
4.根據權利要求1所述的合金濺射靶材，其中，所述全體顯微組織中共晶組織所占的面積為15％以下。
5.根據權利要求1所述的合金濺射靶材，其中，所述全體顯微組織中共晶組織所占的面積為8％以下。
6.一種權利要求1～5中任一項所述的合金濺射靶材的制造方法，其中，所述方法包括將該合金的熔液經氣體霧化而制作而成的合金粉末通過熱等靜壓即HIP進行固化成形的工序。
7.一種軟磁性薄膜層，其由權利要求1～5中任一項所述的合金濺射靶材成膜而成。
8.一種垂直磁記錄介質，其具有權利要求7所述的軟磁性薄膜層。
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