[發明專利]磁盤用玻璃基板的制造方法和磁盤的制造方法、以及磁盤用玻璃基板的清洗液

有效

• 申請號: 201380038866.5
• 申請日: 2013-09-30
• 公開（公告）號: CN104508742B
• 公開（公告）日: 2017-07-28
• 發明（設計）人: 山口智行;江藤伸行;飯泉京介;德光秀造
• 申請（專利權）人: HOYA株式會社
• 主分類號: G11B5/84
• 分類號: G11B5/84
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司11127
• 代理人: 丁香蘭,龐東成

技術領域

本發明涉及搭載于硬盤驅動器(HDD)等磁盤裝置的磁盤用玻璃基板的制造方法和磁盤的制造方法、以及磁盤用玻璃基板的清洗液。

背景技術

作為搭載于硬盤驅動器(HDD)等磁盤裝置的一種信息記錄介質，存在磁盤。磁盤是在基板上形成磁性層等薄膜而構成的，作為該基板過去一直使用鋁基板。但是，最近，隨著記錄的高密度化的要求，與鋁基板相比玻璃基板能夠使磁頭和磁盤之間的間隔變得更窄，因此玻璃基板所占有的比例逐漸升高。另外，對玻璃基板表面高精度地進行研磨以使磁頭的懸浮高度盡量下降，由此實現記錄的高密度化。近年來，對HDD越來越多地要求更大的存儲容量化，為了實現這樣的目的，磁盤用玻璃基板也需要進一步的高品質化，要求為更平滑且潔凈的玻璃基板表面。

如上所述，為了對于記錄的高密度化所必須的低飛行高度(懸浮量)化，磁盤表面必須具有高平滑性。為了得到磁盤表面的高平滑性，結果要求具有高平滑性的基板表面，因此需要對玻璃基板表面進行高精度的研磨，但僅僅如此是不夠的，還需要通過研磨后的清洗去除基板表面的附著異物，得到潔凈的基板表面。

作為現有的方法，例如，專利文獻1中公開了一種在利用含有多元胺的研磨液進行研磨后對基板進行堿(pH8～13)清洗的方法。另外，專利文獻2中公開了一種在研磨后用含有堿性試劑、醛糖酸類的pH10以上的堿性清洗劑對基板進行清洗的方法。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2012-107226號公報

專利文獻2：日本特開2010-86563號公報

發明內容

發明要解決的課題

現在的HDD能夠實現一平方英寸500千兆比特程度的記錄密度，例如，1枚2.5英寸型(直徑65mm)的磁盤能夠存儲320千兆字節程度的信息，但是要求實現記錄的更高密度化、例如375～500千兆字節、進而1百萬兆字節。伴隨著這種近年來的HDD的大容量化的要求，提高基板表面品質的要求也比迄今為止更加嚴格。在面向上述那樣的例如375～500千兆字節的磁盤的下一代基板中，由于基板對介質特性所產生的影響變大，因此不僅是基板表面的粗糙度，而且在不存在異物附著等導致的表面缺陷的方面也要求對現有產品進行進一步的改善。

在下一代基板中基板對介質特性所產生的影響變大是基于下述理由。

可以舉出磁頭的懸浮量(磁頭與介質(磁盤)表面的間隙)的大幅降低(低懸浮量化)。這樣一來，磁頭與介質的磁性層的距離接近，因此能夠拾取更小的磁性顆粒的信號，能夠實現記錄的高密度化。近年來，為了實現現有以上的低懸浮量化，使磁頭搭載了被稱為DFH(Dynamic Flying Height，動態飛高)的功能。該功能是在磁頭的記錄再生元件部的附近設置極小的加熱器等加熱部，僅使記錄再生元件部周邊向介質表面方向突出。可以預計：今后，通過該DFH功能，磁頭的元件部與介質表面的間隙變得極小，小于2nm或小于1nm。在這種狀況下，使基板表面的平均粗糙度變得極小，結果可知：若存在以往未成為問題的極小的異物(例如小的物質，在主表面的面內方向的長度為10nm～40nm左右)的附著等所引起的略呈凸狀的程度的表面缺陷，則直接在介質表面形成凸狀缺陷，因而磁頭碰撞的危險性提高。

另外，根據本發明人的研究，可知：即便使用以上述專利文獻中公開的方法為代表的現有的各種精密研磨技術、精密清洗技術，或者單純對它們進行組合使用，也無法兼顧清洗后的低粗糙度和高潔凈度。

伴隨著近年來的HDD的大容量化的要求，提高基板表面品質的要求也比迄今為止更加嚴格，通過現有的改善方法來實現基板表面品質的進一步提高存在極限。

本發明是為了解決這樣的現有問題而進行的，其第一目的在于提供一種磁盤用玻璃基板的制造方法，該制造方法能夠盡可能不使通過精密研磨得到的平滑的表面粗糙度惡化而進行清洗處理，其結果，可以實現低粗糙度(高平滑性)；第二目的在于提供一種適合用于上述清洗處理的清洗液；第三目的在于提供一種能夠實施高度潔凈的清洗的磁盤用玻璃基板的制造方法。

用于解決課題的方案