[發明專利]磁盤用玻璃基板的制造方法和磁盤的制造方法、以及磁盤用玻璃基板的清洗液

有效

• 申請號: 201380038866.5
• 申請日: 2013-09-30
• 公開（公告）號: CN104508742B
• 公開（公告）日: 2017-07-28
• 發明（設計）人: 山口智行;江藤伸行;飯泉京介;德光秀造
• 申請（專利權）人: HOYA株式會社
• 主分類號: G11B5/84
• 分類號: G11B5/84
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司11127
• 代理人: 丁香蘭,龐東成

1.一種磁盤用玻璃基板的制造方法，其為包含玻璃基板的清洗處理的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，

所述玻璃基板在玻璃成分中含有鈉和鉀中的至少一種成分，

使用含有堿性試劑的清洗液，該堿性試劑不包含鈉和鉀，

一邊維持所述清洗液中的鈉離子和鉀離子的總濃度為4.00×10^-3mol/L以下的條件，一邊進行主表面經鏡面研磨的兩個以上的所述玻璃基板的清洗處理。

2.如權利要求1所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述鏡面是指所述玻璃基板的主表面的表面粗糙度Ra為0.15nm以下。

3.如權利要求1或2所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述清洗處理后的玻璃基板主表面的表面粗糙度(Ra)與即將進行所述清洗處理前的玻璃基板主表面的表面粗糙度(Ra)之差為0.06nm以內。

4.如權利要求1或2所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，使所述清洗液中的鈉離子和鉀離子的總濃度為2.00×10^-3mol/L以下。

5.如權利要求1或2所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述堿性試劑為四烷基氫氧化銨。

6.如權利要求1或2所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述清洗液進一步含有不包含鈉和鉀的表面活性劑。

7.如權利要求1或2所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，構成所述玻璃基板的玻璃為至少包含Na₂O或K₂O中的任一種的鋁硅酸鹽玻璃。

8.一種磁盤用玻璃基板的制造方法，其為包含玻璃基板的清洗處理的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，

預先求出所述清洗處理后的玻璃基板相對于所述清洗處理前的玻璃基板的主表面的表面粗糙度(Ra)的增大量、與所述清洗處理中使用的清洗液中的鈉離子和鉀離子的總濃度的關系，

基于所求出的所述關系，決定所述表面粗糙度(Ra)的增大量為0.06nm以下的所述清洗液中的鈉離子和鉀離子的總濃度，

一邊維持所述清洗液中的鈉離子和鉀離子的總濃度為所述決定的濃度以下的條件，一邊進行主表面經鏡面研磨的所述玻璃基板的清洗處理。

9.一種磁盤用玻璃基板的制造方法，其為包含玻璃基板的清洗處理的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，

所述玻璃基板在玻璃成分中含有鈉和鉀中的至少一種成分，

使用含有堿性試劑的清洗液，該堿性試劑不包含鈉和鉀，

若所述清洗液中的鈉離子和鉀離子的總濃度超過4.00×10^-3mol/L，則一邊進行液體更換，一邊進行主表面經鏡面研磨的所述玻璃基板的清洗處理。

10.一種磁盤用玻璃基板的制造方法，其為包含玻璃基板的清洗處理的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，

所述清洗處理包含使所述玻璃基板與含有四甲基銨離子的清洗液接觸的處理，

一邊抑制所述清洗液中的鈉離子和鉀離子的總量小于200ppm，一邊進行所述清洗處理。

11.如權利要求10所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述玻璃基板在玻璃成分中含有鈉和鉀中的至少一種成分。

12.如權利要求10或11所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述清洗液進一步含有表面活性劑、螯合劑以及分散劑中的至少一種物質，

一邊抑制所述清洗液中的鈉離子和鉀離子的總量小于200ppm，一邊進行所述清洗處理。

13.如權利要求10或11所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述清洗處理后的玻璃基板主表面的表面粗糙度(Ra)與即將進行所述清洗處理前的玻璃基板主表面的表面粗糙度(Ra)之差為0.06nm以內。

14.如權利要求10或11所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，即將進行所述清洗處理前的玻璃基板主表面的表面粗糙度(Ra)為0.13nm以下。

15.如權利要求10或11所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述清洗液的pH為10以上。