[發(fā)明專利]液浸構(gòu)件及曝光裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201380038451.8
• 申請日: 2013-07-16
• 公開（公告）號: CN104487897B
• 公開（公告）日: 2017-08-29
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 佐藤真路
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11127
• 代理人: 李景輝

背景技術(shù)

本發(fā)明是關(guān)于液浸構(gòu)件、曝光裝置、曝光方法、元件制造方法、程序及記錄媒體。

本申請案主張2012年7月20日申請的美國專利暫時申請61/674,078及2013年3月15日申請的美國專利暫時申請61/790,328的優(yōu)先權(quán)，并將其內(nèi)容援用于此。

微影制程所使用的曝光裝置中，已知例如美國專利第7864292號所揭示的通過液體以曝光用光使基板曝光的液浸曝光裝置。

發(fā)明內(nèi)容

液浸曝光裝置中，例如當(dāng)液體從既定空間流出、或殘留在基板等物體上時，即有可能發(fā)生曝光不良。其結(jié)果，有可能產(chǎn)生不良元件。

本發(fā)明態(tài)樣的目的，在提供一種能抑制曝光不良的發(fā)生的液浸構(gòu)件、曝光裝置、及曝光方法。又，本發(fā)明態(tài)樣的另一目的，在提供一種能抑制不良元件的產(chǎn)生的元件制造方法、程序、及記錄媒體。

本發(fā)明第1態(tài)樣提供一種液浸構(gòu)件，是用于通過在光學(xué)構(gòu)件的射出面與基板之間的液體以曝光用光使該基板曝光的液浸曝光裝置，在能于該光學(xué)構(gòu)件下方移動的物體上形成液浸空間，具備：第1構(gòu)件，配置在該光學(xué)構(gòu)件周圍的至少一部分，具有第1下面：以及第2構(gòu)件，于該第1構(gòu)件的下方，配置在該曝光用光的光路周圍的至少一部分，能相對該第1構(gòu)件移動；該第2構(gòu)件，具有與該第1構(gòu)件的該第1下面通過間隙相對的第2上面、該物體可相對的第2下面、以及配置在該第2下面周圍至少一部分的流體回收部。

本發(fā)明第2態(tài)樣提供一種液浸構(gòu)件，是用于通過光學(xué)構(gòu)件的射出面與基板間的液體以曝光用光使該基板曝光的液浸曝光裝置，在能于該光學(xué)構(gòu)件下方移動的物體上形成液浸空間，具備：第1構(gòu)件，配置在該光學(xué)構(gòu)件周圍的至少一部分，具有第1下面；液體回收部；以及第2構(gòu)件，配置在該曝光用光的光路周圍的至少一部分，能相對該第1構(gòu)件移動；該第2構(gòu)件具有通過間隙與該第1構(gòu)件的該第1下面相對的第2上面、該物體相對的第2下面、以及配置在該第2下面周圍至少一部分的流體回收部；該液體回收部能回收來自該第1下面與該第2上面間的第1空間的液體；該流體回收部能回收來自該第2下面與該物體間的第2空間的流體。

本發(fā)明第3態(tài)樣的曝光裝置，是通過液體以曝光用光使基板曝光，具備第1態(tài)樣的液浸構(gòu)件、或第2態(tài)樣的液浸構(gòu)件。

本發(fā)明第4態(tài)樣提供一種元件制造方法，其包含：使用第3態(tài)樣的曝光裝置使基板曝光的動作、以及使曝光后的基板顯影的動作。

本發(fā)明第5態(tài)樣提供一種曝光方法，是通過光學(xué)構(gòu)件的射出面與基板間的液體以曝光用光使該基板曝光，包含：使用液浸構(gòu)件在能于該光學(xué)構(gòu)件下方移動的該基板上形成該液體的液浸空間的動作，該液浸構(gòu)件包含配置在該光學(xué)構(gòu)件周圍至少一部分的第1構(gòu)件以及于該第1構(gòu)件的下方配置在該曝光用光的光路周圍至少一部分、包含通過間隙與該第1構(gòu)件的第1下面相對的第2上面、該基板可相對的第2下面、配置在該第2下面周圍至少一部分的流體回收部的第2構(gòu)件；通過該液浸空間的該液體以從該射出面射出的該曝光用光使該基板曝光的動作；以及于該基板的曝光的至少一部分中，相對該第1構(gòu)件移動該第2構(gòu)件的動作。

本發(fā)明第6態(tài)樣提供一種元件制造方法，其包含使用第4態(tài)樣的曝光方法使基板曝光的動作、以及使曝光后的基板顯影的動作。

本發(fā)明第7態(tài)樣提供一種程序，是使電腦實施通過光學(xué)構(gòu)件的射出面與基板間的液體以曝光用光使該基板曝光的液浸曝光裝置的控制，其使之實施：使用液浸構(gòu)件在能于該光學(xué)構(gòu)件下方移動的該基板上形成該液體的液浸空間的動作，該液浸構(gòu)件包含配置在該光學(xué)構(gòu)件周圍至少一部分的第1構(gòu)件以及于該第1構(gòu)件的下方配置在該曝光用光的光路周圍至少一部分、包含通過間隙與該第1構(gòu)件的第1下面相對的第2上面、該基板可相對的第2下面、配置在該第2下面周圍至少一部分的流體回收部的第2構(gòu)件；通過該液浸空間的該液體以從該射出面射出的該曝光用光使該基板曝光的動作；以及于該基板的曝光的至少一部分中，相對該第1構(gòu)件移動該第2構(gòu)件的動作。

本發(fā)明第8態(tài)樣提供一種電腦可讀取的記錄媒體，其記錄有第7態(tài)樣的程序。

根據(jù)本發(fā)明的態(tài)樣，可抑制曝光不良的發(fā)生。又，根據(jù)本發(fā)明的態(tài)樣，可抑制不良元件的產(chǎn)生。

附圖說明

以下附圖僅旨在于對本發(fā)明做示意性說明和解釋，并不限定本發(fā)明的范圍。其中：

圖1是顯示第1實施形態(tài)的曝光裝置的一例的圖。

圖2是顯示第1實施形態(tài)的液浸構(gòu)件的一例的側(cè)視剖面圖。

圖3是顯示第1實施形態(tài)的液浸構(gòu)件的一部分的側(cè)視剖面圖。

圖4是顯示第1實施形態(tài)的液浸構(gòu)件的一動作例的圖。