[發明專利]制備含有泵出管密封技術的真空絕緣玻璃VIG窗單元的方法及裝置

有效

• 申請號: 201380037838.1
• 申請日: 2013-05-10
• 公開（公告）號: CN104471172A
• 公開（公告）日: 2015-03-25
• 發明（設計）人: 蒂莫西·A.·丹尼斯;安德魯·W.·潘特克
• 申請（專利權）人: 葛迪恩實業公司
• 主分類號: E06B3/66
• 分類號: E06B3/66
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 劉培培;黎艷

相關申請的相互參照

本申請涉及同時提交的共同委任未決的美國專利申請Nos.13/474,835和13/474,850，其全部內容被納入此處作為參考。

技術領域

本發明涉及一種制備真空絕緣玻璃(VIG)窗單元配置及制備VIG窗單元的方法。特別是，本發明涉及一種用于密封泵出管的末端的方法(例如，通過激光)。甚至是涉及一種以控制露出時間和減少激光軌跡直徑，將多相循序可變功率的激光能應用至所述泵出管的露出端，使玻璃管的熔融進一步受到控制，來減少或消除高功率短時間的激光能應用至泵出管的末端來密封管時可能出現的不理想的釋氣。

背景和示例性實施例概述

真空絕緣玻璃VIG單元通常包括至少兩個分離的玻璃基片，其中附有排空或低壓空間/腔。上述基片由外邊緣密封互相連接并通常包括隔離片，位于玻璃基片之間，來保持玻璃基片之間的間距，防止由于基片之間的低壓環境而造成的玻璃基片損毀。一些示例性VIG配置在類似美國專利Nos.5,657,607,5,664,395,5,657,607,5,902,652,6,506,472和6,383,580中被公開，在此其公開的內容被納入此處作為參照。

圖1和圖2示出現有的VIG單元1和用于形成VIG單元1的元件。例如VIG單元1可包括兩個分離的玻璃基片2、3，其中附有排空的低壓空間/腔6。玻璃片或基片2、3由外邊緣密封4互相連接，其可由熔融焊料玻璃被制成。玻璃基片2、3之間可包括一組支承柱/隔離片5，鑒于基片2、3之間存在的低壓空間/間隙，來維持VIG單元1的基片2、3的間距。

泵出管8可通過焊料玻璃9被氣密密封至空穴/孔10，從玻璃基片2的內表面通向玻璃基片2外表面中的凹槽11底部，或選擇性地至玻璃基片2的外表面。真空被連接至泵出管8，將內部腔6排空至低壓，例如，使用連續的泵送操作。在腔6排空后，管8的部分(例如，頂端)被熔化來密封低壓腔/空間6中的真空。凹槽11用來固定密封的泵出管8。選擇性地，凹槽13中可包括化學吸氣劑12，其配置在玻璃基片，例如，玻璃基片2的內表面中。化學吸氣劑12可用來吸收或混合腔6被排空和密封之后剩下的殘余雜質。

通常，具熔融焊料玻璃外邊緣密封4的VIG單元，通過在基片2的外圍沉積溶液狀(例如，熔塊漿)的玻璃熔塊被制造。該玻璃熔塊漿最終形成玻璃焊料邊緣密封4。其他基片(例如基片3)被配置在基片2上，從而將隔離片/支承柱5和玻璃熔塊溶液夾在兩個基片2，3之間。整個組件包括玻璃基片2，3、隔離片/支承柱5、和密封材料(例如，溶液狀或漿狀的玻璃熔塊)，然后加熱到至少約500℃的溫度，此時玻璃熔塊被熔化弄濕玻璃基片2，3的表面，并最終形成氣密密封的外圍/邊緣密封4。

邊緣密封4形成之后，真空通過泵出管8被抽出，在基片2，3之間形成低壓空間/腔6。空間6中的壓力可通過排空處理方式產生且水平低于大氣壓力，例如10-2Torr以下。為了在空間/腔6中維持低壓力，基片2，3被氣密密封。在基片之間提供小的高強度隔離片/支承柱5，以維持基本平行的基片分離來對抗大氣壓力。當基片2，3之間的空間6被排空，泵出管8可被密封，例如，通過激光熔化或類似等來其頂端熔融。

用于將泵出管8裝入空穴或孔10的典型過程包括，將預先形成的玻璃泵出管8插入至玻璃基片2中預先配置的空穴/孔10(例如，通過鉆孔)。在將泵出管8置于在空穴/孔10中之后，將粘合性熔塊漿應用于泵出管8，通常位于接近玻璃基片2外表面的孔10的開口附近區域。如上所述，泵出管可在VIG腔的排空或清洗之后被密封。

在將腔排空至低于大氣壓的壓力之后，可加熱用于將腔排空或清洗的泵出管的末端，來熔融開口并密封VIG窗單元的腔，從而完成泵出管的密封。例如，所述加熱和熔融可通過激光輻射泵出管的頂端被完成。