[發明專利]制備含有泵出管密封技術的真空絕緣玻璃VIG窗單元的方法及裝置

有效

• 申請號: 201380037838.1
• 申請日: 2013-05-10
• 公開（公告）號: CN104471172A
• 公開（公告）日: 2015-03-25
• 發明（設計）人: 蒂莫西·A.·丹尼斯;安德魯·W.·潘特克
• 申請（專利權）人: 葛迪恩實業公司
• 主分類號: E06B3/66
• 分類號: E06B3/66
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 劉培培;黎艷

1.一種制備真空絕緣玻璃窗單元的方法，所述方法包括：

配置具有泵出管的第一基片，所述泵出管被置于所述第一基片中所形成的孔中；第二基片；和邊緣密封，所述第一和第二基片將所述邊緣密封夾在中間并在其中形成腔；

將延伸至所述第一基片外部的所述泵出管的末端密封，所述密封步驟包括：(i)在所述泵出管的頂部執行至少一個預熱處理，并開始加熱所述泵出管的頂部；(ii)在所述預熱之后，執行至少一個核心熱處理來熔融所述泵出管的頂部；(iii)以及通過依次減少激光軌跡直徑來執行多個追蹤處理，從而將所述泵出管密封。

2.如權利要求1所述的方法，進一步包括：在所述密封之前，通過所述泵出管，將所述第一和第二基片之間的所述腔排空至低于大氣壓的壓力。

3.如上述權利要求中任何一項所述的方法，其中，所述密封步驟(i)、(ii)、和(iii)，通過使用激光被執行。

4.如上述權利要求中任何一項所述的方法，其中，所述密封步驟(i)、(ii)、和(iii)，通過YAG激光被執行。

5.如上述權利要求中任何一項所述的方法，其中，所述預熱處理包括：以直徑為0.135mm的圓形軌跡來應用激光束8-12次，且功率為14-18W；

所述核心處理包括：以直徑為0.135mm的軌跡來應用激光60-80次，且功率為10-14W；以及

所述多個追蹤處理包括：第一跟蹤處理，以直徑為0.10-0.14mm的軌跡來應用激光25-35次，且功率為10-14W；第二跟蹤處理，以直徑為0.05-0.2mm的軌跡來應用激光10-30次，且功率為8-12W；和第三跟蹤處理，以直徑為0.06-0.1mm的軌跡來應用激光3-10次，且功率為8-12W。

6.如權利要求5所述的方法，其中，激光移動速度為25英寸/秒。

7.如上述權利要求中任何一項所述的方法，其中，所述預熱處理包括：第一預熱處理，以直徑為0.1-0.2mm且更優選是0.135mm的圓形軌跡來應用激光75-125次，且功率為6-10W；和第二預熱處理，以直徑為0.08-0.150mm且更優選是0.132mm的較小軌跡來應用激光4-10次，且功率為14-18W；

所述核心處理包括：以直徑為0.1-0.2mm且更優選是0.132mm的軌跡來應用激光20-60次，且功率為10-14W；以及

所述多個追蹤處理包括：第一跟蹤處理，以直徑為0.1-0.2mm且更優選是0.12mm的軌跡來應用激光10-30次，且功率為8-12W；第二跟蹤處理，以直徑為0.08-0.15mm且更優選是0.1mm的軌跡來應用激光5-15次，且功率為6-10W；和第三跟蹤處理，以直徑為0.05-0.09mm且更優選是0.08mm的軌跡來應用激光3-10次，且功率為4-8W。

8.如權利要求7所述的方法，其中，激光移動速度為25英寸/秒。

9.如上述權利要求中任何一項所述的方法，其中，所述預熱處理包括：以直徑為0.135mm的圓形軌跡來應用激光束200次，且功率為6W；

所述核心處理包括：以直徑為0.135mm的軌跡來應用激光90次，且功率為10W；以及

所述多個追蹤處理包括：第一跟蹤處理，以直徑為0.12mm的軌跡來應用激光20次，且功率為8W；第二跟蹤處理，以直徑為0.1mm的軌跡來應用激光10次，且功率為7W；和第三跟蹤處理，以直徑為0.08mm的軌跡來應用激光5次，且功率為6W。

10.如權利要求9所述的方法，其中，激光移動速度為25英寸/秒。

11.如上述權利要求中任何一項所述的方法，其中，所述預熱處理包括：以直徑為0.135mm的圓形軌跡來應用激光束200次，且功率為6W；

所述核心處理包括：以直徑為0.135mm的軌跡來應用激光70次，且功率為12W；以及

所述多個追蹤處理包括：第一跟蹤處理，以直徑為0.12mm的軌跡來應用激光20次，且功率為8W；第二跟蹤處理，以直徑為0.1mm的軌跡來應用激光10次，且功率為7W；和第三跟蹤處理，以直徑為0.08mm的軌跡來應用激光5次，且功率為6W。

12.如權利要求11所述的方法，其中，激光移動速度為25英寸/秒。