[發(fā)明專利]掩模單元和蒸鍍裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201380035621.7
• 申請(qǐng)日: 2013-04-15
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN104428439A
• 公開(kāi)（公告）日: 2015-03-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 越智貴志;川戶伸一;大崎智文;二星學(xué);小坂知裕;塚本優(yōu)人;菊池克浩
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 夏普株式會(huì)社
• 主分類號(hào): C23C14/04
• 分類號(hào): C23C14/04;C23C14/24;H01L51/50;H05B33/10
• 代理公司: 北京尚誠(chéng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳

1.一種掩模單元，其特征在于，包括：

具有開(kāi)口部的蒸鍍掩模；和

保持所述蒸鍍掩模的蒸鍍掩模保持部件，

所述蒸鍍掩模保持部件的一部分與所述蒸鍍掩模的下表面接觸，并且，

從與所述蒸鍍掩模的掩模面垂直的方向看時(shí)，在所述蒸鍍掩模的開(kāi)口部中的第一方向的任意位置，與該第一方向正交的第二方向上的沒(méi)有被所述蒸鍍掩模保持部件覆蓋的開(kāi)口部的開(kāi)口長(zhǎng)度總和均相等，并且，所述蒸鍍掩模保持部件在所述蒸鍍掩模的邊緣部以外的部分具有連續(xù)或斷續(xù)地橫切所述第二方向地與所述蒸鍍掩模的下表面接觸的接觸部，另一方面，所述蒸鍍掩模保持部件在所述蒸鍍掩模的邊緣部以外的部分不具有從所述蒸鍍掩模中的所述第二方向的一端至另一端連續(xù)的接觸部。

2.如權(quán)利要求1所述的掩模單元，其特征在于：

所述蒸鍍掩模保持部件包括框部和與該框部連結(jié)且設(shè)置在由該框部圍成的區(qū)域內(nèi)的梁部，所述接觸部是所述梁部的一部分，

所述梁部的與所述蒸鍍掩模接觸的部分，不沿著所述第二方向架在所述框部上，而連續(xù)或斷續(xù)地橫切所述第二方向。

3.如權(quán)利要求2所述的掩模單元，其特征在于：

所述蒸鍍掩模的開(kāi)口部以避開(kāi)所述梁部的與所述蒸鍍掩模接觸的部分的方式設(shè)置，并且，

從與所述蒸鍍掩模的掩模面垂直的方向看時(shí)，在所述蒸鍍掩模的開(kāi)口部中的第一方向的任意位置，所述第二方向上的所述開(kāi)口部的開(kāi)口長(zhǎng)度總和均相等。

4.如權(quán)利要求3所述的掩模單元，其特征在于：

從與所述蒸鍍掩模的掩模面垂直的方向看時(shí)，所述蒸鍍掩模保持部件中的由所述框部圍成的區(qū)域內(nèi)的沒(méi)有設(shè)置所述梁部的開(kāi)口區(qū)域的第二方向的開(kāi)口長(zhǎng)度總和，在第一方向的任意位置均相等。

5.如權(quán)利要求2～4中任一項(xiàng)所述的掩模單元，其特征在于：

所述框部為矩形狀，所述梁部設(shè)置在所述框部的至少一條對(duì)角線上。

6.如權(quán)利要求5所述的掩模單元，其特征在于：

所述梁部分別設(shè)置在所述框部的各對(duì)角線上，

從與所述蒸鍍掩模的掩模面垂直的方向看時(shí)，所述梁部的交叉部的所述梁部的第二方向的寬度，形成為所述梁部的交叉部以外的梁部的第二方向的寬度的2倍的寬度。

7.如權(quán)利要求2所述的掩模單元，其特征在于：

所述框部為矩形狀，所述梁部分別設(shè)置在所述框部的各對(duì)角線上，

從與所述蒸鍍掩模的掩模面垂直的方向看時(shí)，所述梁部均具有均等的寬度，并且，在第一方向上的所述蒸鍍掩模的開(kāi)口部中，在第二方向設(shè)置有所述梁部的交叉部的部分，相比由所述框部圍成的其他區(qū)域，所述蒸鍍掩模的第二方向的開(kāi)口長(zhǎng)度較短，以使得在所述蒸鍍掩模的開(kāi)口部中的第一方向的任意位置，與該第一方向正交的第二方向的沒(méi)有被所述梁部覆蓋的開(kāi)口部的開(kāi)口長(zhǎng)度總和均相等。

8.如權(quán)利要求2～4中任一項(xiàng)所述的掩模單元，其特征在于：

在從與所述蒸鍍掩模的掩模面垂直的方向看時(shí)，所述梁部形成為曲折狀。

9.如權(quán)利要求2～4中任一項(xiàng)所述的掩模單元，其特征在于：

所述梁部由具有形成為交錯(cuò)狀的多個(gè)開(kāi)口區(qū)域的板狀部件構(gòu)成，從與所述蒸鍍掩模的掩模面垂直的方向看時(shí)，所述梁部遍及由所述框部圍成的區(qū)域的整個(gè)面設(shè)置。

10.如權(quán)利要求2～9中任一項(xiàng)所述的掩模單元，其特征在于：

所述梁部的厚度形成得比所述框部的厚度薄。

11.如權(quán)利要求1所述的掩模單元，其特征在于：

所述蒸鍍掩模保持部件由具有形成為交錯(cuò)狀的多個(gè)開(kāi)口區(qū)域的板狀部件構(gòu)成。

12.如權(quán)利要求2或3所述的掩模單元，其特征在于：

所述梁部，從與所述蒸鍍掩模的掩模面垂直的方向看時(shí)，所述梁部的與所述蒸鍍掩模接觸的接觸部形成為島狀，具有以與所述蒸鍍掩模接觸的接觸部為頂點(diǎn)形成為框狀的立體的骨架。

13.如權(quán)利要求12所述的掩模單元，其特征在于：

所述梁部具有以與所述蒸鍍掩模接觸的接觸部為頂點(diǎn)配置成放射狀的縱梁。

14.如權(quán)利要求12或13所述的掩模單元，其特征在于：

在所述梁部的與所述蒸鍍掩模接觸的接觸部設(shè)置有具有緩沖作用的島狀部件。

15.一種蒸鍍裝置，其特征在于，包括：

權(quán)利要求1～14中任一項(xiàng)所述的掩模單元；

蒸鍍?cè)矗渑c所述掩模單元中的蒸鍍掩模相對(duì)配置，且與所述蒸鍍掩模的相對(duì)位置被固定；和

移動(dòng)機(jī)構(gòu)，其在所述掩模單元中的蒸鍍掩模和被成膜基板相對(duì)配置的狀態(tài)下，使所述掩模單元和蒸鍍?cè)磁c所述被成膜基板中的任一方以第二方向?yàn)閽呙璺较虻姆绞较鄬?duì)移動(dòng)，

所述蒸鍍掩模的第二方向的寬度小于第二方向的被成膜基板的寬度，

一邊沿著所述第二方向掃描，一邊使從所述蒸鍍?cè)闯錾涞恼翦冾w粒經(jīng)由所述蒸鍍掩模的開(kāi)口部蒸鍍到所述被成膜基板上。