[發(fā)明專利]谷粒外觀測定裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201380034156.5 | 申請日： | 2013-05-16 |
| 公開（公告）號： | CN104428657B | 公開（公告）日： | 2016-11-09 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 松島秀昭;石突裕樹;竹內(nèi)宏明 | 申請（專利權(quán)）人： | 株式會社佐竹 |
| 主分類號： | G01N21/85 | 分類號： | G01N21/85 |
| 代理公司： | 北京銀龍知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11243 | 代理人： | 曾賢偉;文志 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 谷粒 外觀 測定 裝置 | ||
1.一種谷粒外觀測定裝置，其具備：
拍攝單元，拍攝多個谷粒；
分析單元，以粒為單位分析該拍攝單元拍攝到的谷粒的圖像信息；
加工單元，對所述圖像信息進(jìn)行加工來形成所述谷粒的集合圖像；以及
保存及/或顯示所述集合圖像的單元，
所述谷粒外觀測定裝置的特征在于，
所述加工單元從所述圖像信息中以粒為單位抽取谷粒的圖像，將抽取的以粒為單位的各谷粒的圖像配置成相互密接狀態(tài)，從而形成所述谷粒的圖像的集合圖像。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的谷粒外觀測定裝置，其特征在于，
在所述加工單元設(shè)置面積設(shè)定值輸入部，
從該面積設(shè)定值輸入部輸入用于設(shè)定在所述密接狀態(tài)下谷粒的圖像彼此重疊的部分的面積的大小的設(shè)定值。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的谷粒外觀測定裝置，其特征在于，
所述加工單元通過在所述面積設(shè)定值輸入部輸入所述設(shè)定值的最小值，形成谷粒的圖像彼此不重疊地接觸的狀態(tài)的集合圖像。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中的任意一項所述的谷粒外觀測定裝置，其特征在于，
在所述加工單元，在所述集合圖像中設(shè)置與谷粒鑒定皿的谷粒載置面相同形狀的外框。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至3中的任意一項所述的谷粒外觀測定裝置，其特征在于，
在通過所述加工單元形成的集合圖像中，以特定的顏色表示在各谷粒的圖像之間產(chǎn)生的間隙的部分來進(jìn)行保存及/或表示。
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- 同類專利
- 專利分類
G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段，即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā)，因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng)，測試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
