[發(fā)明專利]納米級空隙的減小

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201380032813.2
• 申請日: 2013-06-13
• 公開（公告）號: CN104684710B
• 公開（公告）日: 2017-04-26
• 發(fā)明（設(shè)計）人: J·J-J·胡;G·高茲納;T·L·格林伯格
• 申請（專利權(quán)）人: 希捷科技有限公司
• 主分類號: B29C59/02
• 分類號: B29C59/02;B82B3/00
• 代理公司: 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司31100
• 代理人: 樂洪詠

技術(shù)領(lǐng)域

根據(jù)本發(fā)明的實施方式通常涉及圖案化媒介的加工。

發(fā)明背景

抗蝕劑墨水分散、壓印和UV曝光為圖案化媒介加工中的平版印刷步驟。抗蝕劑微滴分散使用少量的抗蝕劑材料，由此對不同密度的特征產(chǎn)生一致的殘留層控制。此外，用于形成抗蝕劑膜的抗蝕劑微滴分散可以利用更加簡單的工具設(shè)計來提供相對高的生產(chǎn)量。

在抗蝕劑微滴分散之后的抗蝕劑膜形成工藝包括初始微滴潤濕，隨后在模板/圓盤配合過程中融合微滴陣列。融合的微滴陣列與模板的結(jié)構(gòu)圖案化表面一致。所述模板與圓盤分離，在圓盤上留下結(jié)構(gòu)圖案化的表面。

附圖說明

本發(fā)明將利用附圖來進(jìn)行示例性的而非限制性的說明，其中相同的附圖標(biāo)記表示相同的元件。

圖1為根據(jù)本發(fā)明的一種實施方式，腔室內(nèi)壓印平版印刷操作的簡化橫截面視圖。

圖2為根據(jù)本發(fā)明的一種實施方式，在模板已與抗蝕劑微滴接觸之后，腔室內(nèi)壓印平版印刷操作的簡化橫截面視圖。

圖3為根據(jù)本發(fā)明的一種實施方式，在抗蝕劑層已被固化并與模板分離之后，腔室內(nèi)壓印平版印刷操作的簡化橫截面視圖。

圖4為根據(jù)本發(fā)明的一種實施方式，在移除過程之后腔室內(nèi)壓印平版印刷操作的簡化橫截面視圖。

圖5為在壓印平版印刷操作之后，包括圖案化空隙的媒介圓盤表面的放大部分的簡化視圖，其中氣氛為He或N₂。

圖6為描述了根據(jù)本發(fā)明的某些實施方式，形成媒介圓盤的示例性工藝的流程圖。

發(fā)明詳述

現(xiàn)在將對本發(fā)明的實施方式進(jìn)行詳細(xì)說明，其例子在附圖中描述。雖然本發(fā)明將結(jié)合附圖進(jìn)行討論，但是將會理解的是，它們并不意圖將本發(fā)明僅限制于這些實施方式。與之相反，本發(fā)明意圖覆蓋如在所附的權(quán)利要求中定義的本發(fā)明精神和范圍內(nèi)包括的變形、改進(jìn)和等價形式。此外，在本發(fā)明下文詳細(xì)的說明中，大量的特定細(xì)節(jié)被提出以提供對本發(fā)明完全的理解。然而，本發(fā)明的實施方式可以不利用這些特定的細(xì)節(jié)來實施。在其它例子中，已知的方法、步驟、部件和電路并未被詳細(xì)地描述，其并不會致使本發(fā)明的各個方面不清楚。

本發(fā)明的實施方式提供了用于圖案化媒介抗蝕劑壓印的方法，在記錄媒介的制造中，局部填充不足的空隙基本上被消除。然而，本發(fā)明的實施方式可被應(yīng)用于任何位圖案化媒介(“BPM”)和相關(guān)的制造技術(shù)，以及任何納米壓印相關(guān)半導(dǎo)體設(shè)備制造方法，只要納米壓印是圖案化步驟所需要的。

本發(fā)明的實施方式允許在用于制造圖案化媒介的抗蝕劑壓印過程中，基本上消除空隙，例如模具圖案局部填充不足形成的空隙。通過確定并保持腔室內(nèi)相對更低的壓力，更小體積的氣體會存在于腔室內(nèi)。當(dāng)抗蝕劑融合膜形成在基底上的時候，所述更小體積的氣體有利于將氣體吸收至抗蝕劑微滴內(nèi)。結(jié)果，在抗蝕劑壓印過程之后，生產(chǎn)量被提高并且不會存在納米壓印空隙。降低壓力的腔室利用合適的揮發(fā)性模板釋放劑進(jìn)行凈化，從而使得模板持續(xù)性地充滿脫模劑，從而在每個壓印操作中保持一致的分離性能。抗蝕劑單體和光引發(fā)劑還可以以蒸氣的形式排進(jìn)腔室內(nèi)，如果需要提高腔室真空程度適應(yīng)性的話。

圖1為根據(jù)本發(fā)明的一種實施方式，腔室101內(nèi)壓印平版印刷操作100的簡化橫截面視圖。所述腔室101包括基底102和模板104。在一種實施方式中，所述基底例如可以是鋁或玻璃圓盤(例如65mm直徑，具有20mm孔)，Si或石英晶片，或者其它晶片材料。模板104被置于基底102上方。模板104包括預(yù)定圖案106。在某些實施方式中，預(yù)定圖案106包括多種不同尺寸的條帶孔108。

在不同的實施方式中，腔室101還可以包括一個或多個輸入口，例如腔室泵送端口103和脫模劑進(jìn)料口105。脫模劑進(jìn)料口105還可以作用為抗蝕劑單體/光引發(fā)劑進(jìn)料口。在壓印平版印刷操作100之前，壓印抗蝕劑被分散在圓盤基底102上，并且基底102被轉(zhuǎn)移至腔室101內(nèi)，例如通過抗蝕劑微滴分散過程。脫模劑進(jìn)料口105為可操作的，從而在壓印平版印刷操作100過程中將脫模劑、抗蝕劑單體和/或光引發(fā)劑蒸氣排入腔室101內(nèi)。

抗蝕劑微滴110可被沉積在基底102上，例如通過滴加-分散方法。在某些實施方式中，抗蝕劑微滴110可以pL和低于pL范圍的微滴體積沉積，微滴之間相距約十分之一至百分之一微米。與基底102和模板104一起，抗蝕劑微滴110被用于圖案化步驟中，例如基于滴加-分散UV固化納米壓印平版印刷的步驟(參見下文)。