[發(fā)明專利]射極穿透式太陽(yáng)能電池及其制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201380029649.X | 申請(qǐng)日: | 2013-05-14 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN104380477A | 公開(kāi)(公告)日: | 2015-02-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 鄭堣元;趙在億;李弘九;玄德煥;李龍和 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 韓化石油化學(xué)株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | H01L31/042 | 分類號(hào): | H01L31/042;H01L31/18 |
| 代理公司: | 北京金信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11225 | 代理人: | 朱梅;徐琳 |
| 地址: | 韓國(guó)*** | 國(guó)省代碼: | 韓國(guó);KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 穿透 太陽(yáng)能電池 及其 制備 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種具有射極穿透式結(jié)構(gòu)的背接觸型太陽(yáng)能電池及其制備方法。
背景技術(shù)
通常,太陽(yáng)能電池在半導(dǎo)體基板的前側(cè)和后側(cè)分別具有電極,并且由于在前側(cè)(光接收面)設(shè)置有前電極,光接收面積會(huì)因?yàn)榍半姌O的面積而減小。為了解決光接收面積減少的問(wèn)題,已經(jīng)提出一種背接觸型太陽(yáng)能電池。
根據(jù)結(jié)構(gòu),背接觸型太陽(yáng)能電池分為MWA(敷金屬卷包式(metallization?wrap-around))、MWT(敷金屬穿透式(metallization?wrap-through))、EWT(射極穿透式(emitter?wrap-through))、背結(jié)式(back-junction)等。
圖1顯示了一個(gè)常規(guī)的射極穿透式太陽(yáng)能電池(以下稱為“EWT太陽(yáng)能電池”)后側(cè)(即,與正常運(yùn)行期間面向太陽(yáng)的前側(cè)相對(duì)的一側(cè))的放大部分。根據(jù)圖1,具有不同導(dǎo)電性的基極(15)和射極(25)均位于所述EWT太陽(yáng)能電池的后側(cè),并且射極(25)形成在于基板后側(cè)上形成的溝渠中,用以分離p-n結(jié)。即,常規(guī)EWT太陽(yáng)能電池具有基極(15)和射極(25)之間有高度差的結(jié)構(gòu)(例如,基極高于射極約10至30μm的結(jié)構(gòu))。
同時(shí),當(dāng)對(duì)電池的后側(cè)施加恒壓時(shí),可使EWT太陽(yáng)能電池的能量轉(zhuǎn)換效率測(cè)量誤差最小化,但由于EWT太陽(yáng)能電池的結(jié)構(gòu)特性(特別是,基極和射極之間的高度差),會(huì)產(chǎn)生非恒定的接點(diǎn)壓力,從而產(chǎn)生巨大的能量轉(zhuǎn)換效率測(cè)量誤差。
在常規(guī)EWT太陽(yáng)能電池的制備過(guò)程中,通過(guò)在基板的相應(yīng)區(qū)域印刷或涂布各個(gè)電極形成材料來(lái)形成基極和射極,但在印刷或涂布過(guò)程中,對(duì)定位狀態(tài)的(alignment?state)精確確認(rèn)有限制,也就是確認(rèn)每個(gè)電極是否形成于所期望的精確位置。
進(jìn)一步地,因?yàn)镋WT太陽(yáng)能電池的結(jié)構(gòu)特性,盡管p-n結(jié)分離,但由于基極和射極之間的距離小,可能會(huì)發(fā)生泄漏電流。
發(fā)明內(nèi)容
技術(shù)問(wèn)題
本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種EWT太陽(yáng)能電池,其具有使基極和射極更有效地隔離以使泄漏電流的發(fā)生最小化并且使能量轉(zhuǎn)換效率測(cè)量誤差最小化的結(jié)構(gòu)。
本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供一種所述EWT太陽(yáng)能電池的制備方法,該方法可以以更簡(jiǎn)單的方式確認(rèn)基極和射極的定位狀態(tài)。
技術(shù)方案
根據(jù)一個(gè)實(shí)施方式,提供一種射極穿透式太陽(yáng)能電池,包括:
第一導(dǎo)電型半導(dǎo)體基板(100),該基板具有在正常運(yùn)行期間面向太陽(yáng)的前側(cè)和與所述前側(cè)相對(duì)的后側(cè),其中,第一溝渠(10)和第二溝渠(20)形成在所述后側(cè)同時(shí)被物理分離,并且形成至少一個(gè)通過(guò)所述第二溝渠穿透所述基板的通路孔(30);以及
在所述第一溝渠(10)內(nèi)部形成的第一導(dǎo)電型基極(15),以及在所述第二溝渠(20)和所述通路孔(30)內(nèi)部形成的第二導(dǎo)電型射極。
所述第一溝渠(10)和第二溝渠(20)可彼此物理分離,并相互交錯(cuò)。
所述半導(dǎo)體基板(100)可以為p-型摻雜的硅片,且所述半導(dǎo)體基板(100)的前側(cè)可以構(gòu)造為不平坦結(jié)構(gòu)。
在所述基板的后側(cè),可以各自獨(dú)立地形成寬度為200至700μm且深度為20至60μm的第一溝渠(10)和第二溝渠(20)。
所述通路孔(30)可具有25至100μm的直徑。
根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施方式,提供一種射極穿透式太陽(yáng)能電池的制備方法,包括:
制備第一導(dǎo)電型半導(dǎo)體基板(100),該基板具有在正常運(yùn)行期間面向太陽(yáng)的前側(cè)和與所述前側(cè)相對(duì)的后側(cè);
在所述后側(cè)形成彼此物理分離的第一溝渠(10)和第二溝渠(20),并且形成至少一個(gè)通過(guò)所述第二溝渠穿透所述基板的通路孔;
在所述基板的前側(cè)、在所述第二溝渠(20)的內(nèi)側(cè)和在所述通路孔(30)的內(nèi)側(cè)分別形成第二導(dǎo)電型射極層(40);
在所述基板的后側(cè)和在所述第一溝渠(10)的底側(cè)形成鈍化層(60),并且在所述基板的前側(cè)形成抗反射層(65);以及
在所述第一溝渠(10)的內(nèi)部形成第一導(dǎo)電型基極(15),并且在所述第二溝渠(20)和所述通路孔(30)的內(nèi)部形成第二導(dǎo)電型射極(25)。
所述第一溝渠(10)和第二溝渠(20)可通過(guò)激光刻槽來(lái)形成,并且形成相互交錯(cuò)的形式。
所述通路孔(30)可通過(guò)激光打孔、濕法蝕刻、干法蝕刻、機(jī)械打孔、水注切削或其組合過(guò)程來(lái)形成。
有益效果
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過(guò)這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過(guò)該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場(chǎng)致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的





