[發(fā)明專利]復(fù)合模塊在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201380027321.4 | 申請日: | 2013-05-13 |
| 公開(公告)號: | CN104335344A | 公開(公告)日: | 2015-02-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 北嶋宏通 | 申請(專利權(quán))人: | 株式會社村田制作所 |
| 主分類號: | H01L23/12 | 分類號: | H01L23/12;H04B1/40 |
| 代理公司: | 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100 | 代理人: | 干欣穎 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 復(fù)合 模塊 | ||
1.一種復(fù)合模塊,其特征在于,包括:
外部接地電極,該外部接地電極形成于布線基板的一個主面,用于進(jìn)行外部連接;
布線電極,該布線電極形成于所述布線基板的內(nèi)部;以及
第一接地電極,該第一接地電極形成于與所述布線電極相同的面、或所述布線基板的內(nèi)部,位于所述布線電極與所述外部接地電極之間,
所述布線電極在俯視時與所述第一接地電極和所述外部接地電極中的至少一個相重疊。
2.如權(quán)利要求1所述的復(fù)合模塊,其特征在于,
所述第一接地電極形成于與所述布線電極不同的面,
在所述第一接地電極中,在俯視時與所述布線電極及所述外部接地電極相重疊的區(qū)域的至少一部分形成有第一缺口部。
3.如權(quán)利要求1或2所述的復(fù)合模塊,其特征在于,
還包括第二接地電極,該第二接地電極設(shè)置于所述布線電極與所述布線基板的另一個主面之間,
在所述第二接地電極中,在俯視時與所述布線電極相重疊的區(qū)域的至少一部分形成有第二缺口部。
4.如權(quán)利要求3所述的復(fù)合模塊,其特征在于,
所述第二缺口部以俯視時不與所述第一缺口部重疊的方式進(jìn)行配置。
5.如權(quán)利要求4所述的復(fù)合模塊,其特征在于,
所述第一缺口部及所述第二缺口部中,在所述第一接地電極及所述第二接地電極與所述布線電極之間的距離較近的一側(cè)形成的一個缺口部俯視時的面積大于形成于較遠(yuǎn)一側(cè)的另一個缺口部俯視時的面積。
6.如權(quán)利要求1所述的復(fù)合模塊,其特征在于,
所述第一接地電極形成于與所述布線電極相同的面,
在所述第一接地電極中,在俯視時與所述外部接地電極相重疊的區(qū)域的至少一部分形成第三缺口部,
所述第三缺口部設(shè)置有所述布線電極。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于株式會社村田制作所,未經(jīng)株式會社村田制作所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201380027321.4/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:移動的柔性約束非阻塞阻尼減振降噪裝置
- 下一篇:一種自由拼接電永磁吸盤





