[發(fā)明專利]多層涂膜形成方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201380026789.1 | 申請(qǐng)日: | 2013-03-21 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN104411415A | 公開(kāi)(公告)日: | 2015-03-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 栂井廣和;北村直孝;小島圭介;青木孝昌;小川剛志 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 日本油漆株式會(huì)社;本田技研工業(yè)株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | B05D1/36 | 分類號(hào): | B05D1/36;B05D7/14;C09D5/00;C09D175/02;C09D175/04 |
| 代理公司: | 中國(guó)專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 童春媛;萬(wàn)雪松 |
| 地址: | 日本大阪府大阪*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 多層 形成 方法 | ||
1.?一種多層涂膜形成方法,所述方法包括以下步驟:
(1)?將第一水性基底涂料涂布在其表面具有電沉積涂膜的汽車(chē)車(chē)體上以便具有10~40μm的干燥涂膜厚度,從而形成未固化的第一基底涂膜,
(2)?將第二水性基底涂料涂布在步驟(1)中形成的所述未固化的第一基底涂膜上以便具有5~30μm的干燥涂膜厚度,從而形成未固化的第二基底涂膜,
(3)?加熱干燥步驟(1)和(2)中形成的所述未固化的第一基底涂膜和所述未固化的第二基底涂膜,然后將透明涂料涂布在它們上面以便具有10~70μm的干燥涂膜厚度,從而形成未固化的透明涂膜,和
(4)?將步驟(1)、(2)和(3)中形成的所述未固化的第一基底涂膜、所述未固化的第二基底涂膜和所述未固化的透明涂膜同時(shí)加熱并固化,從而形成由第一基底涂膜、第二基底涂膜和透明涂膜構(gòu)成的多層涂膜;
其中,含有干燥涂膜厚度為25μm的第一基底涂膜、干燥涂膜厚度為10μm的第二基底涂膜和干燥涂膜厚度為30μm的透明涂膜的多層涂膜具有40~60%的20℃下的伸長(zhǎng)率、400~600kgf/m2的20℃下的抗張強(qiáng)度和0.04~0.06的-20℃下的粘性項(xiàng)與彈性項(xiàng)之比(tan?δ)。
2.?權(quán)利要求1的多層涂膜形成方法,其中,所述第一水性基底涂料含有水分散性聚氨酯組合物(A),所述水分散性聚氨酯組合物(A)含有多異氰酸酯成分(a1)、多元醇成分(a2)、胺成分(a3)、羧基中和成分(a4)和水(a5)。
3.?權(quán)利要求2的多層涂膜形成方法,其中,所述多元醇成分(a2)含有聚碳酸酯二醇(a2-1)和含有羧基的二醇(a2-2)。
4.?權(quán)利要求3的多層涂膜形成方法,其中,所述聚碳酸酯二醇(a2-1)具有1,500~5,000的重均分子量。
5.?權(quán)利要求3或4的多層涂膜形成方法,其中,所述水分散性聚氨酯組合物以1:0.8~1:2的摩爾比(a2-1:a2-2)含有所述聚碳酸酯二醇(a2-1)和所述含有羧基的二醇(a2-2)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于日本油漆株式會(huì)社;本田技研工業(yè)株式會(huì)社,未經(jīng)日本油漆株式會(huì)社;本田技研工業(yè)株式會(huì)社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201380026789.1/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 一種數(shù)據(jù)庫(kù)讀寫(xiě)分離的方法和裝置
- 一種手機(jī)動(dòng)漫人物及背景創(chuàng)作方法
- 一種通訊綜合測(cè)試終端的測(cè)試方法
- 一種服裝用人體測(cè)量基準(zhǔn)點(diǎn)的獲取方法
- 系統(tǒng)升級(jí)方法及裝置
- 用于虛擬和接口方法調(diào)用的裝置和方法
- 線程狀態(tài)監(jiān)控方法、裝置、計(jì)算機(jī)設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)
- 一種JAVA智能卡及其虛擬機(jī)組件優(yōu)化方法
- 檢測(cè)程序中方法耗時(shí)的方法、裝置及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 函數(shù)的執(zhí)行方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)





