[發(fā)明專利]層疊體

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201380026125.5
• 申請日: 2013-07-03
• 公開（公告）號: CN104379340A
• 公開（公告）日: 2015-02-25
• 發(fā)明（設計）人: 福本晴彥;小田川健二;臼井英夫;高橋英一;高木斗志彥;高野雅子;中村修;進藤清孝
• 申請（專利權）人: 三井化學株式會社;三井化學東賽璐株式會社
• 主分類號: B32B9/00
• 分類號: B32B9/00;B32B27/00;B32B37/00;H01L31/048
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 楊宏軍

1.一種層疊體，其包括基材(A)、在所述基材(A)的至少一個面上依次層疊的含硅層(B)、和由具有聚合性基團的有機酸金屬鹽得到的聚合物層(C)，

所述含硅層(B)具有含有硅原子和氮原子、或硅原子和氮原子和氧原子、或硅原子和氮原子和氧原子和碳原子的氮高濃度區(qū)域，

所述氮高濃度區(qū)域是通過在氧濃度為5％以下及/或室溫23℃下的相對濕度為30％以下的條件下，對在所述基材(A)上形成的聚硅氮烷膜進行能量射線照射，將該膜的至少一部分改性而形成的。

2.如權利要求1所述的層疊體，其中，所述氮高濃度區(qū)域的利用X射線光電子能譜法測得的下式(1)表示的氮原子的組成比為0.01以上、1以下的范圍，

式(1)：氮原子的組成比/(氧原子的組成比+氮原子的組成比)。

3.如權利要求1或2所述的層疊體，其中，所述聚硅氮烷膜是通過利用選自棒式涂布法、輥式涂布法、凹版涂布法、噴霧涂布法、氣刀涂布法、旋轉(zhuǎn)涂布法、浸漬涂布法中的方法將含有聚硅氮烷的溶液涂布到所述基材(A)上而形成的。

4.如權利要求1～3中任一項所述的層疊體，其中，所述聚合物層(C)是在形成于所述基材(A)上的具有所述氮高濃度區(qū)域的所述含硅層(B)上形成所述具有聚合性基團的有機酸金屬鹽膜，利用紫外線、電子束或熱將所述有機酸金屬鹽膜聚合而得到的。

5.如權利要求1～4中任一項所述的層疊體，其中，所述能量射線照射是通過等離子體照射進行的。

6.如權利要求5所述的層疊體，其中，所述等離子體照射是在選自非活性氣體、稀有氣體或還原氣體中的氣氛下進行的。

7.如權利要求5或6所述的層疊體，其中，所述等離子體照射是在氧濃度為5000ppm以下、且水蒸氣濃度(室溫23℃下的水蒸氣分壓/大氣壓)為8400ppm以下的條件下進行的。

8.如權利要求1～7中任一項所述的層疊體，其中，所述聚硅氮烷膜是選自全氫聚硅氮烷、有機聚硅氮烷、及它們的衍生物中的1種以上。

9.如權利要求1～8中任一項所述的層疊體，其中，所述有機酸金屬鹽是選自羧酸、磺酸、巰基酸中的1種以上的有機酸的金屬鹽。

10.如權利要求1～9中任一項所述的層疊體，其中，所述聚合性基團是選自乙烯基、環(huán)氧基、巰基、脲基、硫醚基、異氰酸酯基、氨基、羥基、鹵素原子、噁唑啉基、碳二亞胺基或它們的衍生物中的1種以上的聚合性基團。

11.如權利要求1～10中任一項所述的層疊體，其特征在于，形成所述有機酸金屬鹽的金屬是選自鋰、鈉、鎂、鈣、鋅及鋇中的至少1種以上的金屬。

12.如權利要求1～11中任一項所述的層疊體，其中，所述有機酸金屬鹽是具有乙烯基作為聚合性基團的羧酸化合物的金屬鹽。

13.如權利要求12所述的層疊體，其中，所述有機酸金屬鹽是選自丙烯酸、甲基丙烯酸、馬來酸、衣康酸中的有機酸的金屬鹽。

14.如權利要求1～11中任一項所述的層疊體，其中，所述有機酸金屬鹽是具有乙烯基作為聚合性基團的磺酸化合物的金屬鹽。

15.如權利要求14所述的層疊體，其中，所述磺酸化合物選自乙烯基磺酸、烯丙基磺酸、甲基烯丙基磺酸、磺酸丙烯酸酯、磺酸丙烯酰胺、磺酸甲基丙烯酸酯、苯乙烯磺酸、異戊二烯磺酸。

16.如權利要求1～15中任一項所述的層疊體，其中，所述聚合物層(C)還包含硅烷偶聯(lián)劑。

17.一種電子構件，其包括：包含選自有機電致發(fā)光元件、電子紙顯示元件、液晶顯示元件中的元件的構件，和以聚合物層(C)在該構件側的方式配設的權利要求1～16中任一項所述的層疊體。