[發明專利]使用系統性缺陷過濾器的光罩缺陷檢驗有效
| 申請號: | 201380023868.7 | 申請日: | 2013-03-08 |
| 公開(公告)號: | CN104272185B | 公開(公告)日: | 2019-05-07 |
| 發明(設計)人: | 李冰;偉敏·馬;約瑟夫·布萊謝 | 申請(專利權)人: | 科磊股份有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/84 | 分類號: | G03F1/84 |
| 代理公司: | 北京律盟知識產權代理有限責任公司 11287 | 代理人: | 江葳 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 美國;US |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 使用 系統性 缺陷 過濾器 檢驗 | ||
1.一種檢驗光學光刻光罩的方法,所述方法包括:
從光罩檢驗系統接收缺陷數據流,其中所述缺陷數據識別針對所述光罩的多個不同部分所檢測的多個缺陷;
在檢視所述缺陷數據以確定所述光罩是否通過檢驗之前且在繼續接收所述缺陷數據流時,將所述缺陷中的一些缺陷與其它最近一或多個所接收缺陷自動分組在一起以便形成匹配缺陷的群組;及
在檢視所述缺陷數據以確定所述光罩是否通過檢驗之前且在接收到所述光罩的所有所述缺陷數據之后,從所述缺陷數據自動過濾所述缺陷群組中的具有高于預定閾值的數目的一或多個缺陷群組以便形成經過濾缺陷數據,其中所述預定閾值具有經調整值,所述經調整值取決于環繞此特定群組的缺陷的區的均勻性水平;及
將所述經過濾缺陷數據提供到檢視站以確定所述光罩是否合格。
2.根據權利要求1所述的方法,其中人工地執行檢視所述缺陷數據以確定所述光罩是否通過檢驗。
3.根據權利要求1所述的方法,其中一次一個缺陷圖像地接收所述缺陷數據且通過以下操作實現自動分組:
當接收到每一缺陷圖像時,如果存在現有種子群組,那么確定此缺陷圖像是否匹配所述現有種子群組且將此缺陷圖像添加到此匹配的現有種子群組,否則,形成包括此缺陷圖像的新種子群組。
4.根據權利要求3所述的方法,其中如果存在現有種子群組,那么確定每一缺陷圖像是否匹配所述現有種子群組且將此缺陷圖像添加到此匹配的現有種子群組是通過以下操作實現的:一次一個地將此缺陷圖像與多個種子群組進行比較直到在存在匹配的情況下找出所述匹配。
5.根據權利要求3所述的方法,其中一次一個地將此缺陷圖像與多個種子群組進行比較直到在存在匹配的情況下找出所述匹配是通過以下操作實現的:首先確定此缺陷圖像是否具有與所述種子群組中的一者匹配的形狀,且僅在存在匹配形狀的情況下,逐像素地將此缺陷圖像與具有所述匹配形狀的所述種子群組進行比較。
6.根據權利要求5所述的方法,其中當所述逐像素比較產生小于2×2像素差時,確定將此缺陷圖像與所述種子群組中的特定一者分組在一起。
7.根據權利要求1所述的方法,其中以最后所接收缺陷數據到第一所接收缺陷數據的時間次序實現自動分組。
8.根據權利要求1所述的方法,其中在沒有人為干預的情況下執行自動分組及過濾。
9.根據權利要求1所述的方法,其中所述預定閾值具有經調整值,所述經調整值經設定使得如果特定群組的缺陷由空白背景環繞,那么不過濾此特定群組。
10.根據權利要求9所述的方法,其中所述預定閾值具有經調整值,所述經調整值針對具有一維缺陷的第一群組比針對具有二維缺陷的第二群組高。
11.根據權利要求1所述的方法,其中特定群組的缺陷類型的所述預定閾值與1/log(A)成比例,其中A為獨特背景圖案的面積。
12.一種用于檢驗光學光刻光罩的檢驗系統,所述檢驗系統包括經配置以執行以下操作的至少一個存儲器及至少一個處理器:
從光罩檢驗系統接收缺陷數據流,其中所述缺陷數據識別針對所述光罩的多個不同部分所檢測的多個缺陷;
在檢視所述缺陷數據以確定所述光罩是否通過檢驗之前且在繼續接收所述缺陷數據流時,將所述缺陷中的一些缺陷與其它最近一或多個所接收缺陷自動分組在一起以便形成匹配缺陷的群組;及
在檢視所述缺陷數據以確定所述光罩是否通過檢驗之前且在接收到所述光罩的所有所述缺陷數據之后,從所述缺陷數據自動過濾所述缺陷群組中的具有高于預定閾值的數目的一或多個缺陷群組以便形成經過濾缺陷數據,其中所述預定閾值具有經調整值,所述經調整值取決于環繞此特定群組的缺陷的區的均勻性水平;及
將所述經過濾缺陷數據提供到檢視站以確定所述光罩是否合格。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于科磊股份有限公司,未經科磊股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201380023868.7/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:汽車空調系統壓縮機
- 下一篇:無油活塞二級壓縮裝置
- 同類專利
- 專利分類
G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





