[發明專利]成膜方法有效
| 申請號： | 201380023865.3 | 申請日： | 2013-04-04 |
| 公開（公告）號： | CN104271796A | 公開（公告）日： | 2015-01-07 |
| 發明（設計）人： | 吉田隆;松本昌弘;谷典明;池田進;久保昌司 | 申請（專利權）人： | 株式會社愛發科 |
| 主分類號： | C23C14/54 | 分類號： | C23C14/54;C23C14/12;G06F3/041;B05D7/24 |
| 代理公司： | 北京德琦知識產權代理有限公司 11018 | 代理人： | 康泉;王珍仙 |
| 地址： | 日本神*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種成膜方法，所述成膜方法在基板形成由含氟樹脂構成的有機層，其特征在于，具有：
蒸鍍膜形成工序，形成所述有機層作為蒸鍍膜；
膜厚測定工序，測定所述蒸鍍膜的膜厚；以及
判斷工序，根據所述膜厚的測定結果，判斷用于反饋的參數，以便修改所述蒸鍍膜形成工序的條件。
2.根據權利要求1所述的成膜方法，其特征在于，在所述基板預先形成無機層。
3.根據權利要求2所述的成膜方法，其特征在于，在形成所述有機層之前，將等離子體暴露于所述無機層。
4.根據權利要求3所述的成膜方法，其特征在于，進一步包括：
絕緣層形成工序，通過使用水蒸氣作為反應性氣體的反應性濺射，在所述基板上形成所述無機層。
5.根據權利要求1至4中任一項所述的成膜方法，其特征在于，進一步具有：精加工處理工序，用于實現所述蒸鍍膜的穩定化和固定化。
6.根據權利要求1至4中任一項所述的成膜方法，其特征在于，在所述膜厚測定工序中，以光學方式測定所述膜厚。
7.根據權利要求5所述的成膜方法，其特征在于，在所述膜厚測定工序中，以光學方式測定所述膜厚。
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