[發(fā)明專(zhuān)利]用于處理前級(jí)真空管線(xiàn)中廢氣的設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201380021125.6
• 申請(qǐng)日: 2013-04-15
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN104247575B
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-12-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 邁克爾·S·考克斯;科林·約翰·迪金森
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 應(yīng)用材料公司
• 主分類(lèi)號(hào): H05H1/46
• 分類(lèi)號(hào): H05H1/46;H01L21/3065;H01L21/205
• 代理公司: 北京律誠(chéng)同業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11006
• 代理人: 徐金國(guó);趙靜

在一些實(shí)施方式中，一種用于處理在基板處理系統(tǒng)的前級(jí)真空管線(xiàn)中的廢氣的設(shè)備，所述設(shè)備可包括介電管，所述介電管經(jīng)配置以耦接至基板處理系統(tǒng)的前級(jí)真空管線(xiàn)，以允許廢氣從前級(jí)真空管線(xiàn)流動(dòng)通過(guò)介電管；射頻線(xiàn)圈，所述射頻線(xiàn)圈圍繞介電管的外表面卷繞，所述射頻線(xiàn)圈具有第一端以提供射頻輸入至射頻線(xiàn)圈，射頻線(xiàn)圈的第一端靠近介電管的第一端，且射頻線(xiàn)圈的第二端靠近介電管的第二端；分接頭，所述分接頭耦接至射頻線(xiàn)圈以提供射頻回程路徑，所述分接頭位于介電管的第一端與介電管的中央部分之間。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明的各實(shí)施方式大體涉及基板處理裝備。

背景技術(shù)

一些廢氣處理系統(tǒng)使用提供至位于介電管附近的射頻線(xiàn)圈的中央部分的射頻(RF)能量，促進(jìn)流動(dòng)通過(guò)介電管的廢氣點(diǎn)燃，以形成等離子體。然而，本發(fā)明人已經(jīng)觀察到，介電管的內(nèi)壁的一些部分可能隨時(shí)間產(chǎn)生不良的腐蝕情況。

因此，本發(fā)明人提供一種改良的廢氣處理系統(tǒng)，用于處理前級(jí)真空管線(xiàn)(foreline)中的工藝廢氣。

發(fā)明內(nèi)容

在此提供一種用于處理基板處理系統(tǒng)的前級(jí)真空管線(xiàn)中的廢氣的設(shè)備。在一些實(shí)施方式中，一種用于處理基板處理系統(tǒng)的前級(jí)真空管線(xiàn)中的廢氣的設(shè)備可包括介電管，所述介電管配置成耦接至基板處理系統(tǒng)的前級(jí)真空管線(xiàn)，以允許廢氣從前級(jí)真空管線(xiàn)流動(dòng)通過(guò)介電管；射頻線(xiàn)圈，所述射頻線(xiàn)圈圍繞介電管的外表面卷繞，所述射頻線(xiàn)圈具有第一端以提供射頻輸入至射頻線(xiàn)圈，所述射頻線(xiàn)圈的第一端設(shè)置成靠近介電管的第一端，且射頻線(xiàn)圈的第二端設(shè)置成靠近介電管的第二端；分接頭(tap)，所述分接頭耦接至射頻線(xiàn)圈，以提供射頻回程路徑，所述分接頭位于介電管的第一端與介電管的中央部分之間。

在一些實(shí)施方式中，一種基板處理系統(tǒng)可包括處理腔室；前級(jí)真空管線(xiàn)，所述前級(jí)真空管線(xiàn)耦接至處理腔室，以允許廢氣從處理腔室流出；真空泵，所述真空泵耦接至前級(jí)真空管線(xiàn)，以通過(guò)前級(jí)真空管線(xiàn)排出來(lái)自處理腔室的廢氣；和介電管和分接頭，所述介電管耦接至前級(jí)真空管線(xiàn)并與前級(jí)真空管線(xiàn)串聯(lián)(in line)，并且介電管位于真空泵與處理腔室之間，以允許廢氣從前級(jí)真空管線(xiàn)流動(dòng)通過(guò)介電管，介電管具有射頻線(xiàn)圈，射頻線(xiàn)圈圍繞介電管的外表面卷繞，射頻線(xiàn)圈具有第一端以提供射頻輸入至射頻線(xiàn)圈，所述第一端設(shè)置成靠近介電管的第一端，且射頻線(xiàn)圈的第二端設(shè)置成靠近介電管的第二端，所述分接頭耦接至射頻線(xiàn)圈以提供射頻回程路徑，所述分接頭位于介電管的第一端與介電管的中部之間。

本發(fā)明的其他和進(jìn)一步的實(shí)施方式描述如下。

附圖說(shuō)明

可參照附圖中所描繪的本發(fā)明的說(shuō)明性實(shí)施方式來(lái)理解以上簡(jiǎn)要概述的并于下文更詳細(xì)地討論的本發(fā)明的各個(gè)實(shí)施方式。然而，要注意這些附圖僅圖示本發(fā)明的典型實(shí)施方式，并因此不被視為對(duì)本發(fā)明范圍的限制，因?yàn)楸景l(fā)明可以允許其他等效的實(shí)施方式。

圖1為處理系統(tǒng)，所述處理系統(tǒng)適合與根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施方式的用于處理前級(jí)真空管線(xiàn)中的廢氣的設(shè)備一起使用。

圖2為根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施方式的用于處理前級(jí)真空管線(xiàn)中的廢氣的設(shè)備。

為了便于理解，已經(jīng)盡可能使用相同的參考數(shù)字來(lái)標(biāo)示各附圖中共有的相同元件。這些附圖并未按比例繪制，并可能為了清楚而簡(jiǎn)化。預(yù)期一個(gè)實(shí)施方式的元件和特征結(jié)構(gòu)能夠有利地結(jié)合到其他實(shí)施方式中，而無(wú)需進(jìn)一步詳述。

具體實(shí)施方式

在此提供用于處理前級(jí)真空管線(xiàn)中的廢氣的設(shè)備。與傳統(tǒng)的利用等離子體驅(qū)動(dòng)氣體處理系統(tǒng)相比，本發(fā)明的設(shè)備的實(shí)施方式可有利地使部件(例如，介電管或陶瓷管)的腐蝕減少、減速或消除。

圖1為處理系統(tǒng)100的示意圖，處理系統(tǒng)100適合與根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施方式的用于處理前級(jí)真空管線(xiàn)中的廢氣的設(shè)備一起使用。處理系統(tǒng)100通常包括處理腔室102、耦接至處理腔室102的前級(jí)真空管線(xiàn)108和耦接至前級(jí)真空管線(xiàn)的用于處理廢氣的設(shè)備104。