[發(fā)明專利]淡水化系統(tǒng)中所使用的測定系統(tǒng)、淡水化系統(tǒng)、以及淡水化方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201380018182.9 | 申請日: | 2013-12-25 |
| 公開(公告)號: | CN104220382A | 公開(公告)日: | 2014-12-17 |
| 發(fā)明(設計)人: | 脅田由實;美濃規(guī)央;竹內宏樹;中田干也 | 申請(專利權)人: | 松下電器產業(yè)株式會社 |
| 主分類號: | C02F1/04 | 分類號: | C02F1/04;B01D1/00;B01D5/00 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 張寶榮 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 水化 系統(tǒng) 使用 測定 以及 方法 | ||
1.一種測定系統(tǒng),其用于淡水化系統(tǒng),所述淡水化系統(tǒng)具備:
水槽;
疏水粒子層,其位于所述水槽的下部,且由疏水粒子構成;
液化層,其位于所述疏水粒子層的下方,
在所述淡水化系統(tǒng)中,向所述水槽導入液體,通過對所述液體進行加熱而使其蒸發(fā)成為水蒸氣,所述水蒸氣通過所述疏水性粒子層并在所述液化層中液化,從而從所述液體獲得淡水,其中,
所述疏水粒子層具有第一粒子層和第二粒子層,所述第一粒子層由第一疏水粒子構成,所述第二粒子層位于所述第一粒子層的下方,且由能夠與所述第一疏水粒子識別開的第二疏水粒子構成,
所述測定系統(tǒng)具備:
粒子測定部,其位于所述液體中,并對所述第二疏水粒子的量進行測定;
判斷部,其判斷由所述粒子測定部測定出的所述第二疏水粒子的量是否在規(guī)定值以上;
控制部,其在所述判斷部判斷為所述第二疏水粒子的量在規(guī)定值以上時,輸出警告的信號、停止液體向所述水槽導入的信號、或與所述判斷部進行判斷前的液體向所述水槽的導入速度相比降低液體向所述水槽的導入速度的信號。
2.根據(jù)權利要求1所述的測定系統(tǒng),其中,
所述第一粒子層的所述第一疏水粒子以及所述第二粒子層的所述第二疏水粒子分別由不同顏色的粒子構成。
3.根據(jù)權利要求1或2所述的測定系統(tǒng),其中,
所述粒子測定部是對所述液體層的上表面以及所述上表面附近的內部進行拍攝、并對位于所述液體層中的所述第二疏水粒子的量進行測定的照相機。
4.根據(jù)權利要求1或2所述的測定系統(tǒng),其中,
所述粒子測定部是以對所述液體層的內部進行拍攝的方式配置于所述水槽的側壁的照相機,所述照相機通過所述液體層的內部而對與配置有所述照相機的所述側壁對置的側壁進行拍攝,并對位于所述液體層中的所述第二疏水粒子的量進行測定。
5.根據(jù)權利要求1或2所述的測定系統(tǒng),其中,
所述粒子測定部將所述第二疏水粒子的量與測定時的時刻建立對應關系并向所述判斷部輸出。
6.根據(jù)權利要求1或2所述的測定系統(tǒng),其中,
所述疏水粒子層還具有第三粒子層,所述第三粒子層位于所述第二粒子層的下方,且由能夠與所述第一疏水粒子和所述第二疏水粒子識別開的第三疏水粒子構成,
所述粒子測定部分別對位于所述液體層中的所述第二疏水粒子的量和所述第三疏水粒子的量進行測定,
所述判斷部判斷所述測定出的所述第二疏水粒子的量是否在規(guī)定值以上,并且判斷所述測定出的所述第三疏水粒子的量是否在規(guī)定值以上,
所述控制部在所述判斷部判斷為所述第二疏水粒子的量是否在規(guī)定值以上時,輸出警告的信號、或與所述判斷部進行判斷前的液體向所述水槽的導入速度相比降低液體向所述水槽的導入速度的信號,在所述判斷部判斷為所述第三疏水粒子的量是否在規(guī)定值以上時,停止液體向所述水槽的導入。
7.根據(jù)權利要求1或2所述的測定系統(tǒng),其中,
所述判斷部在判斷為所述測定出的所述第二疏水粒子的量在規(guī)定的第一基準值以上時,將所述測定出的所述第二疏水粒子的量的信息設為第一測定信息,求出該第一測定信息與預先保持的測定信息之間的疏水粒子的量的變化量,在求出的所述疏水粒子的變化量比第二基準值大時,進一步判斷所述第一測定信息與在所述第一測定信息之后測定出的所述第二疏水粒子的量的信息即第二測定信息的變化量是否比第三基準值小,在判斷為所述變化量在第三基準值以上時,再次進行所述粒子測定部的測定,
在判斷為所述變化量比第三基準值小時,所述控制部輸出警告的信號、停止液體向所述水槽的導入的信號、或與所述判斷部進行判斷前的液體向所述水槽的導入速度相比降低液體向所述水槽的導入速度的信號。
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