[發(fā)明專利]多晶硅及其鑄造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201380017179.5 | 申請(qǐng)日: | 2013-03-01 |
| 公開(公告)號(hào): | CN104169475B | 公開(公告)日: | 2018-01-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 八木大地;安部貴裕 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 勝高股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | C30B29/06 | 分類號(hào): | C30B29/06;C30B28/06;H01L31/028;H01L31/18 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 張桂霞,劉力 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 多晶 及其 鑄造 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及多晶硅及其鑄造方法,特別是涉及適于提高太陽能電池的轉(zhuǎn)換效率的多晶硅及其鑄造方法。
背景技術(shù)
目前,作為太陽能電池用的基板,主要使用硅晶體。該硅晶體中存在單晶硅和多晶硅,與使用多晶硅作為基板的太陽能電池相比,使用單晶硅作為基板的太陽能電池將入射的光能轉(zhuǎn)換成電能的轉(zhuǎn)換效率高。
但是,單晶硅例如是通過直拉法制造成無位錯(cuò)的高品質(zhì)晶體,但利用該直拉法制造單晶硅時(shí),生產(chǎn)成本高,對(duì)于用作太陽能電池用的基板并不實(shí)用。因此,通常是使用可由廉價(jià)材料鑄造的多晶硅來制造太陽能電池。
作為鑄造這種多晶硅的方法之一,有電磁鑄造法(例如參照專利文獻(xiàn)1)。電磁鑄造法是指,通過高頻感應(yīng)(high frequency induction)將坩堝內(nèi)的硅原料加熱熔融,同時(shí)在強(qiáng)電磁力的作用下使熔融硅漂浮,使鑄錠連續(xù)地生長(zhǎng)。此時(shí),由于是在不使熔融硅與坩堝接觸的情形下來完成,所以可以鑄造高品質(zhì)的鑄錠。由如此鑄造的多晶硅鑄錠得到的多晶硅晶片具有以下特征:可以制造在鑄造方向上品質(zhì)均勻性高、而且轉(zhuǎn)換效率的偏差小、且具有穩(wěn)定特性的太陽能電池。
且說,為了提高太陽能電池的轉(zhuǎn)換效率,重要的是適當(dāng)控制多晶硅晶片中所含的氧、碳、氮等雜質(zhì)。其中,碳會(huì)促進(jìn)氧的析出,析出的氧起到位錯(cuò)增殖源的作用。所形成的位錯(cuò)起到載體的再結(jié)合中心的作用,使太陽能電池的轉(zhuǎn)換效率降低,所以認(rèn)為晶片中的碳越低越好。例如,專利文獻(xiàn)2中記載著:通過控制碳濃度在1×1017原子/cm3以下(晶格間的氧濃度為2×1017原子/cm3以上)來實(shí)現(xiàn)太陽能電池的高轉(zhuǎn)換效率的技術(shù)。
現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)1:日本特開2007-051026號(hào)公報(bào);
專利文獻(xiàn)2:國際公開2006/104107號(hào)小冊(cè)子。
發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明所要解決的課題
但是,在實(shí)際鑄造滿足專利文獻(xiàn)2中規(guī)定的碳濃度要件的、碳濃度極低的多晶硅以制作太陽能電池時(shí),明確了其轉(zhuǎn)換效率竟然降低。
因此,本發(fā)明的目的在于:提供適合提高太陽能電池的轉(zhuǎn)換效率的多晶硅及其鑄造方法。
解決課題的方法
發(fā)明人對(duì)解決上述課題的方法進(jìn)行了深入研究。如上所述,發(fā)明人在實(shí)際鑄造碳濃度極低的多晶硅以制作太陽能電池并測(cè)定轉(zhuǎn)換效率時(shí),接受了轉(zhuǎn)換效率竟然降低,并鑄造了具有各種碳濃度的多晶硅,以研究太陽能電池的轉(zhuǎn)換效率。其結(jié)果,發(fā)明人發(fā)現(xiàn):與過度降低碳濃度相比,在控制多晶硅中的氧和氮的濃度在適當(dāng)范圍的情況下,通過適量添加碳以將其調(diào)整至規(guī)定的濃度范圍,使得轉(zhuǎn)換效率提高,從而完成了本發(fā)明。
即,本發(fā)明的要旨構(gòu)成如下。
(1) 多晶硅晶片,其中,碳濃度為4.0×1017原子/cm3以上且6.0×1017原子/cm3以下、氧濃度為0.3×1017原子/cm3以上且5.0×1017原子/cm3以下、并且氮濃度為8.0×1013原子/cm3以上且1.0×1018原子/cm3以下。
(2) 多晶硅的鑄造方法,其特征在于:在導(dǎo)入了惰性氣體的室的感應(yīng)線圈(induction coil)內(nèi)配置軸方向的至少一部分在周方向被分割成幾段、且內(nèi)表面涂布有含氮脫模材料的無底冷卻坩堝,通過上述感應(yīng)線圈的電磁感應(yīng)加熱將裝入上述無底冷卻坩堝內(nèi)的多晶硅的原料熔融,依次冷卻熔融硅使其凝固,同時(shí)向下方牽拉,其中,將上述熔融硅中的碳濃度調(diào)整至4.0×1017原子/cm3以上且6.0×1017原子/cm3以下、將氧濃度調(diào)整至0.3×1017原子/cm3以上且5.0×1017原子/cm3以下、以及將氮濃度調(diào)整至8.0×1013原子/cm3以上且1.0×1018原子/cm3以下。
(3) 上述(2)所述的多晶硅的鑄造方法,其中,上述碳濃度的調(diào)整是通過向上述室內(nèi)供給一氧化碳?xì)怏w以調(diào)整該一氧化碳?xì)怏w相對(duì)于上述惰性氣體的分壓來進(jìn)行的。
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