[發(fā)明專利]用于處理和用于運輸高純度和超高純度化學(xué)品的容器

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201380016820.3
• 申請日: 2013-02-11
• 公開（公告）號: CN104185602A
• 公開（公告）日: 2014-12-03
• 發(fā)明（設(shè)計）人: E.米;H.勞萊德爾;B.諾維茨基;H.克萊因
• 申請（專利權(quán)）人: 贏創(chuàng)德固賽有限公司
• 主分類號: B67D7/02
• 分類號: B67D7/02
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 楊國治;宣力偉

1.一種空容器(1)，用于容納高純度和超高純度的對空氣和/或水分敏感的液體或可冷凝的化合物，具有柱形殼體(3)和處于柱形殼體兩側(cè)的底部(4a)以及上封閉件(4b、4b')、含有關(guān)斷/多路和清洗系統(tǒng)(5)和所分配的浸入管(7)的所分配的連接單元(2)，其特征在于，

浸入管的下端部(7a)被斜切，并且被斜切的浸入管的頂端(7b)與底部(4a)的最深點接近直到小于2mm，或其與被斜切的浸入管的頂端(7b)接觸；

或者

浸入管的下端部(7a)伸入到凹陷(4c)(凹腔)中，所述凹陷（4c）被置入在底部(4a)中并且是底部的最深部位，并且浸入管的下端部(7a)與底部(4a)的最深點接近直到小于2mm；

或者

浸入管的下端部(7a)伸入到凹陷(4c)(凹腔)中，所述凹陷（4c）被置入在底部(4a)中并且是底部的最深部位，并且浸入管的下端部(7a)被斜切，并且被斜切的浸入管的頂端(7b)與底部(4a)中的最深點接近直到小于2mm，或其與被斜切的浸入管的頂端(7b)接觸。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的空容器，

其特征在于，

浸入管的下端部(7a)相對于關(guān)于浸入管的直徑(d)的橫截面成1至60°、優(yōu)選地2°至45°、特別優(yōu)選地3°至30°、非常特別優(yōu)選地4°至25°、尤其5°至20°的角(α)被斜切，其中浸入管的內(nèi)徑(di)選擇性地是1至50mm、優(yōu)選地是2至40mm、特別優(yōu)選地是3至30mm、非常特別優(yōu)選地是4至25mm、尤其是5至15mm。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2中任一項所述的空容器，

其特征在于，

連接單元(2)具有帶有兩個或更多個關(guān)斷或清洗機構(gòu)(5或6)的關(guān)斷/多路和清洗系統(tǒng)(5)，其中這些閥優(yōu)選為膜片閥(6a、6b或6c)和/或活栓(5a、5b或5c)、優(yōu)選為兩路活栓(5b)或三路活栓(5a、5c)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的空容器，

其特征在于，

所述連接單元(2)通過法蘭系統(tǒng)(2e、4b')與上封閉件(4b)相連。

5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的空容器，

其特征在于，

所述連接單元(2)布置在保護裝置(2c、2d)中。

6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項所述的空容器，

其特征在于，

所述空容器具有支架(8)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項所述的空容器，

其特征在于，

制造空容器和/或連接單元的材料包括不銹鋼。

8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項所述的空容器，

其特征在于，

不銹鋼選取自下述系列：316L、1.4404、1.4432、1.4435、1.4301、1.4401?和1.4571。

9.根據(jù)權(quán)利要求1至8中任一項所述的空容器，

其特征在于，

不銹鋼是電拋光的并且不銹鋼表面具有小于等于1.0?μm的粗糙度(Ra)。

10.根據(jù)權(quán)利要求1至9中任一項所述的空容器，

其特征在于，

所述空容器具有0.1?至?1000?l的內(nèi)部體積、優(yōu)選地?0.5?至500?l的內(nèi)部體積、特別優(yōu)選地1至300?l的內(nèi)部體積、非常特別優(yōu)選地5至250?l的內(nèi)部體積、尤其是10至100?l的內(nèi)部體積。

11.根據(jù)權(quán)利要求1至10中任一項所述的空容器，

其特征在于，

所述空容器是針對至50bar、優(yōu)選地從0.1mbar至25bar、特別優(yōu)選地從0.1bar至25bar、非常特別優(yōu)選地從0.5bar至12bar、尤其從1bar至8bar的內(nèi)壓設(shè)計的。

12.根據(jù)權(quán)利要求1至11中任一項所述的空容器，

其特征在于，

連接單元(2)通過至少兩個連接部(2a、2b)與蒸餾塔、轉(zhuǎn)運站或測量站、和/或反應(yīng)設(shè)備能相接，其中在連接單元和蒸餾塔、轉(zhuǎn)運站或反應(yīng)設(shè)備之間，優(yōu)選地布置有具有開關(guān)功能以及針對最低液位和/或最高液位的警報功能的液位測量裝置以及采樣單元。

13.一種將根據(jù)權(quán)利要求1至12中任一項所述的空容器用于存放、處理和/或運輸高純度和超高純度的對空氣和/或水分敏感的液體或可冷凝的化合物的應(yīng)用，所述化合物尤其是從高純度和超高純度硅化合物和/或鍺化合物以及有機金屬化合物的系列中選取，優(yōu)選從下述系列中選取：四氯化硅、三氯硅烷、二氯硅烷、一氯硅烷、六氯二硅烷、八氯三硅烷、甲硅烷、乙硅烷、丙硅烷、六甲基二硅氮烷、三甲硅烷基胺、四乙氧基硅烷、硅酸乙酯、甲基三乙氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、四氯化鍺、單鍺烷、硼酸三乙酯、硼酸三甲酯、磷酸三甲酯、磷酸三乙酯、四甲基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、八甲基環(huán)四硅氧烷、四甲基環(huán)四硅氧烷、甲基吡咯烷鋁烷、四[二甲基氨基]鈦、叔丁基酰氨基[三(二乙基氨基)]鉭、叔丁基酰氨基[三(二乙基氨基)]鈮、四乙醇鉭、四[乙基甲基氨基]鉿、三甲基鋁、四[乙基甲基氨基]鋯、環(huán)戊二烯基三[二甲基氨基]鋯、五(二甲基氨基)鉭、乙基酰氨基[三(二乙基氨基)]鉭、四(二乙基氨基)鋯、二甲基氨基乙氧基三乙氧基鋯。