[發明專利]攝像裝置

有效

• 申請號: 201380016805.9
• 申請日: 2013-02-26
• 公開（公告）號: CN104220928A
• 公開（公告）日: 2014-12-17
• 發明（設計）人: 青木貴嗣;近藤茂;巖崎洋一
• 申請（專利權）人: 富士膠片株式會社
• 主分類號: G03B13/06
• 分類號: G03B13/06;H04N5/225
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 王成坤;胡建新

技術領域

本發明涉及具有光學取景器的攝像裝置。

背景技術

在將對從固體攝像元件輸出的拍攝圖像信號進行數字處理而得到的拍攝圖像數據保存在記錄介質中的數字照相機等攝像裝置中，為了目視被攝體的構圖等，有時搭載光學取景器。

作為這種光學取景器，公知有如下的取景器裝置：內置顯示部，能夠從目鏡窗觀察在通過物鏡光學系統得到的光學像上重疊了該顯示部中顯示的圖像后的像(例如參照專利文獻1)。

由于專利文獻1所記載的取景器裝置兼具有光學取景器和電子取景器的便利性，所以其便利性較高。但是，與一般照相機所使用的光學取景器相比，需要追加用于將顯示部中顯示的圖像引導至目鏡窗的光學系統等新結構，所以成本升高。

作為兼具有光學取景器和電子取景器的便利性的攝像裝置，公知有專利文獻2所公開的攝像裝置。

專利文獻2公開了可以設定能夠從目鏡窗觀察被攝體的光學像的OVF模式和能夠從目鏡窗觀察顯示部中顯示的圖像的EVF模式中的任意一方的攝像裝置。

專利文獻2所記載的攝像裝置在OVF模式時，通過使顯示部和用于將顯示部中顯示的圖像光引導至目鏡窗的光學系統從取景器光路上退避，由此，能夠通過目鏡光學系統、從目鏡窗觀察通過物鏡光學系統得到的光學像。

另一方面，在EVF模式時，使目鏡光學系統的一部分從取景器光路上退避，并且，將用于將顯示部中顯示的圖像引導至目鏡窗的光學系統插入到目鏡光學系統的一部分退避的位置，由此，能夠從目鏡窗觀察顯示部中顯示的圖像。

專利文獻2所記載的攝像裝置也需要在一般照相機所使用的光學取景器的結構中追加EVF模式所需要的光學系統，所以，與專利文獻1同樣，成本增加成為課題。

在專利文獻3中記載了如下的攝像裝置：在位于通過拍攝光學系統形成光學像的位置的焦點板與五棱鏡之間，以插拔自如的方式設置顯示部，從而能夠切換OVF模式和EVF模式。

由于專利文獻3所記載的攝像裝置采用在焦點板與五棱鏡之間插拔顯示部的結構，所以，不需要EVF模式用的其他光學系統，不用擔心成本增加。

在先技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開平3-292067號公報

專利文獻2：日本特開2010-263538號公報

專利文獻3：日本特開2008-158441號公報

發明的概要

發明所要解決的課題

但是，在專利文獻3所記載的攝像裝置中，雖然不用擔心成本增加，但是，由于顯示部出沒于焦點板與五棱鏡之間的狹窄空間，所以，顯示部的插拔時產生的塵埃等異物可能附著于焦點板和五棱鏡，可能由于該異物而使取景器的視覺辨認性降低。

發明內容

本發明是鑒于上述情況而完成的，其目的在于，提供如下的攝像裝置：兼具有光學取景器和電子取景器的便利性，并且能夠防止取景器的視覺辨認性降低，能夠將制造成本抑制為較低。

解決課題所采用的技術手段

本發明的攝像裝置具有光學取景器，該光學取景器具有物鏡光學系統，能夠對通過所述物鏡光學系統成像在成像面上的被攝體進行觀察，其中，光學取景器包括設置在比成像面更靠目鏡窗側的位置固定的目鏡光學系統、以及以插拔自如的方式設置在成像面的位置的顯示裝置，攝像裝置具有：顯示裝置控制部，對顯示裝置的插拔進行控制；以及物鏡光學系統控制部，對構成物鏡光學系統的光學部件的位置進行控制，物鏡光學系統控制部進行如下的位置控制：在從目鏡窗觀察顯示裝置中顯示的圖像的電子取景器模式中，將物鏡光學系統的最靠成像面側的光學部件的位置改變為從目鏡窗觀察成像在成像面上的被攝體的光學取景器模式中的該位置，使成像面和位于與成像面垂直且在被攝體側的方向上的構成物鏡光學系統的光學部件之間的距離比光學取景器模式中的該距離大，顯示裝置控制部進行如下控制：在電子取景器模式中，在通過物鏡光學系統控制部的位置控制使距離增大的狀態下，將顯示裝置插入到成像面的位置。

發明效果

根據本發明，能夠提供如下的攝像裝置：兼具有光學取景器和電子取景器的便利性，并且能夠防止取景器的視覺辨認性降低，能夠將制造成本抑制為較低。

附圖說明

圖1是用于說明本發明的第一實施方式的數字照相機10的外觀立體圖。

圖2是圖1所示的數字照相機10的內部結構框圖。

圖3是示出圖2所示的數字照相機10中的取景器裝置15的內部結構的圖。

圖4是用于說明圖1所示的數字照相機10的EVF模式時的動作的圖。