[發(fā)明專利]攝像裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201380016805.9
• 申請日: 2013-02-26
• 公開（公告）號: CN104220928A
• 公開（公告）日: 2014-12-17
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 青木貴嗣;近藤茂;巖崎洋一
• 申請（專利權(quán)）人: 富士膠片株式會社
• 主分類號: G03B13/06
• 分類號: G03B13/06;H04N5/225
• 代理公司: 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002
• 代理人: 王成坤;胡建新

1.一種攝像裝置，具有光學(xué)取景器，該光學(xué)取景器具有物鏡光學(xué)系統(tǒng)，能夠?qū)νㄟ^所述物鏡光學(xué)系統(tǒng)成像在成像面上的被攝體進(jìn)行觀察，其中，

所述光學(xué)取景器包括設(shè)置在比所述成像面更靠目鏡窗側(cè)的位置固定的目鏡光學(xué)系統(tǒng)、以及以插拔自如的方式設(shè)置在所述成像面的位置的顯示裝置，

所述攝像裝置具有：

顯示裝置控制部，對所述顯示裝置的插拔進(jìn)行控制；以及

物鏡光學(xué)系統(tǒng)控制部，對構(gòu)成所述物鏡光學(xué)系統(tǒng)的光學(xué)部件的位置進(jìn)行控制，

所述物鏡光學(xué)系統(tǒng)控制部進(jìn)行如下的位置控制：在從所述目鏡窗觀察所述顯示裝置中顯示的圖像的電子取景器模式中，將所述物鏡光學(xué)系統(tǒng)的最靠所述成像面?zhèn)鹊墓鈱W(xué)部件的位置改變?yōu)閺乃瞿跨R窗觀察成像在所述成像面上的被攝體的光學(xué)取景器模式中的該位置，使所述成像面和位于與所述成像面垂直且在被攝體側(cè)的方向上的構(gòu)成所述物鏡光學(xué)系統(tǒng)的光學(xué)部件之間的距離比所述光學(xué)取景器模式中的該距離大，

所述顯示裝置控制部進(jìn)行如下控制：在所述電子取景器模式中，在通過所述物鏡光學(xué)系統(tǒng)控制部的所述位置控制使所述距離增大的狀態(tài)下，將所述顯示裝置插入到所述成像面的位置。

2.如權(quán)利要求1所述的攝像裝置，其中，

所述物鏡光學(xué)系統(tǒng)的最靠所述成像面?zhèn)鹊墓鈱W(xué)部件是在所述光學(xué)取景器模式中配置在所述成像面附近的場透鏡。

3.如權(quán)利要求2所述的攝像裝置，其中，

在所述電子取景器模式中，與所述光學(xué)取景器模式中的狀態(tài)相比，所述物鏡光學(xué)系統(tǒng)控制部使所述場透鏡在所述光軸方向上向被攝體側(cè)移動，從而增大所述距離。

4.如權(quán)利要求2所述的攝像裝置，其中，

在所述電子取景器模式中，所述物鏡光學(xué)系統(tǒng)控制部使所述場透鏡從所述物鏡光學(xué)系統(tǒng)的光軸上退避，從而增大所述距離。

5.如權(quán)利要求1所述的攝像裝置，其中，

在所述電子取景器模式中，與所述光學(xué)取景器模式中的狀態(tài)相比，所述物鏡光學(xué)系統(tǒng)控制部使所述物鏡光學(xué)系統(tǒng)的最靠所述成像面?zhèn)鹊墓鈱W(xué)部件在所述物鏡光學(xué)系統(tǒng)的光軸方向上向被攝體側(cè)移動，從而增大所述距離。

6.如權(quán)利要求1所述的攝像裝置，其中，

在所述電子取景器模式中，與所述光學(xué)取景器模式中的狀態(tài)相比，所述物鏡光學(xué)系統(tǒng)控制部使所述物鏡光學(xué)系統(tǒng)的最靠所述成像面?zhèn)鹊墓鈱W(xué)部件在與所述物鏡光學(xué)系統(tǒng)的光軸交叉的方向上移動，從而增大所述距離。

7.如權(quán)利要求1～6中的任意一項所述的攝像裝置，其中，

所述物鏡光學(xué)系統(tǒng)包括能夠在光軸方向上移動的變焦透鏡。