[發(fā)明專利]制備用于有機(jī)電子器件的基板的方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201380015611.7
• 申請(qǐng)日: 2013-03-25
• 公開（公告）號(hào): CN104205406B
• 公開（公告）日: 2019-04-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 金榮銀;金鐘碩;文英均;黃珍夏
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 樂(lè)金顯示有限公司
• 主分類號(hào): H01L51/56
• 分類號(hào): H01L51/56;H05B33/10
• 代理公司: 北京律誠(chéng)同業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11006
• 代理人: 徐金國(guó);劉亞娟

本發(fā)明涉及制造用于有機(jī)電子器件的基板的方法以及制造有機(jī)電子器件的方法。本發(fā)明可提供用于形成器件的基板或該器件的制造方法，該器件在用于形成有機(jī)電子器件如有機(jī)發(fā)光器件時(shí)，確保優(yōu)異的光萃取效率，防止?jié)駳饣蚩諝鉂B透至裝置中，而改善可靠性。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種制備用于有機(jī)電子器件的基板或制造有機(jī)電子器件的方法，以及一種有機(jī)電子器件。

背景技術(shù)

有機(jī)電子器件(OED；Organic Electronic Device)是一種通過(guò)電極層與有機(jī)材料之間的電子交換而顯示各種功能的器件，其包括有機(jī)發(fā)光器件(OLED)、有機(jī)太陽(yáng)能電池、有機(jī)光導(dǎo)體(OPC)和有機(jī)晶體管。

有機(jī)發(fā)光器件是代表性的有機(jī)電子器件，通常依序包括基板、第一電極層、包括發(fā)光層的有機(jī)層和第二電極層。

在被稱為底部發(fā)光裝置(bottom emitting device)的結(jié)構(gòu)中，第一電極層可以為透明電極層，第二電極層可以為反射電極層。此外，在被稱為頂部發(fā)光裝置(top emittingdevice)的結(jié)構(gòu)中，第一電極層可以為反射電極層，第二電極層可以為透明電極層。

借助這兩個(gè)電極層分別注入電子(electron)和空穴(hole)，并在發(fā)光層中將注入的電子和空穴重組(recombination)從而產(chǎn)生光。在底部發(fā)光裝置中，光可發(fā)射至基板，在頂部發(fā)光裝置中，光可發(fā)射至第二電極層。

在有機(jī)發(fā)光器件結(jié)構(gòu)中，通常使用作為透明電極層的銦錫氧化物(ITO)，有機(jī)層和通常由玻璃形成的基板，分別具有約2.0、1.8和1.5的折射率。在這樣的折射率關(guān)系中，例如，由于全內(nèi)反射現(xiàn)象(total internal reflection phenomenon)，在底部發(fā)光裝置的有機(jī)發(fā)光層中所產(chǎn)生的光會(huì)被有機(jī)層和第一電極層之間的界面或基板所捕獲，僅有極少量光被射出。

為了解決此問(wèn)題，已知的方法有使用能夠?qū)⒐馍⑸浠蚵渲令A(yù)定部位，例如基板和電極層之間的結(jié)構(gòu)。然而，該結(jié)構(gòu)會(huì)提供從外部環(huán)境滲透濕氣或氧氣的路徑，從而成為大幅降低二極體可靠性的原因。

發(fā)明內(nèi)容

技術(shù)問(wèn)題

本發(fā)明提供一種制造用于有機(jī)電子器件的基板或制造有機(jī)電子器件的方法，以及一種有機(jī)電子器件。

技術(shù)方案

本發(fā)明的一個(gè)方面提供一種制造用于有機(jī)電子器件的基板的方法，其可包括處理在基底層上形成的光學(xué)功能層。該光學(xué)功能層可通過(guò)，例如，激光來(lái)處理。通過(guò)激光處理光學(xué)功能層，使其具有比基底層小的投射面積。在此使用的術(shù)語(yǔ)“投射面積”意指當(dāng)從所述基板表面的法線方向的上方觀察該基板時(shí)，可辨識(shí)的目標(biāo)物如基底層、光學(xué)功能層或電極層的投射面積。因此，例如，由于光學(xué)功能層的表面以凹凸形狀形成等原因，在該光學(xué)功能層的實(shí)際表面積大于電極層的情況下，如果從上方辨識(shí)的所述光學(xué)功能層的面積小于從上方辨識(shí)的所述電極層的面積，則應(yīng)被理解為該光學(xué)功能層具有小于該電極層的投射面積。通過(guò)激光可移除至少一部分的光學(xué)功能層，使該光學(xué)功能層具有比該基底層小的投射面積。在一個(gè)實(shí)例中，光學(xué)功能層實(shí)質(zhì)上可在基底層的全部表面上形成。在基底層上形成的光學(xué)功能層例如可通過(guò)上述處理被圖案化(patterning)。

例如，可使用激光進(jìn)行上述處理。當(dāng)使用激光進(jìn)行處理時(shí)，已處理的光學(xué)功能層的切斷部分并未出現(xiàn)翹起等現(xiàn)象，因此可將之后所形成的電極層的表面電阻維持在一個(gè)合適的水平。此外，當(dāng)提供高度變化被最小化的表面時(shí)，可解決例如該裝置的短路或不良的電氣性連接。