[發明專利]相移板的制造方法

有效

• 申請號: 201380014626.1
• 申請日: 2013-02-27
• 公開（公告）號: CN104246550B
• 公開（公告）日: 2017-04-05
• 發明（設計）人: 角張祐一;渡部賢一
• 申請（專利權）人: 株式會社有澤制作所
• 主分類號: G02B5/30
• 分類號: G02B5/30;G02F1/1337
• 代理公司: 北京路浩知識產權代理有限公司11002
• 代理人: 謝順星,張晶

技術領域

本發明涉及一種相移板(phase-shift?plate)的制造方法。

背景技術

已知一種形成光學部件的技術，該技術是對形成有取向方向不同的多個區域的掩模照射直線偏光，從而形成具有取向圖案的光學部件的技術，所述取向圖案具有取向方向彼此不同的多個區域(例如，參照專利文獻1)。

專利文獻1：日本專利公開平成9-33914號公報

發明內容

(一)要解決的技術問題

然而，在掩模的多個區域中，根據所照射的直線偏光的偏光方向與區域的取向方向之間的角度，使區域的退化程度會有所不同。由此，會造成在光學部件的多個區域間，取向的散亂程度不規則的問題。

(二)技術方案

在本發明的第一方式中提供一種相移板的制造方法，該相移板具有形成有在彼此不同方向上取向的光軸的多個區域的取向圖案，該方法包括：在基材的一面上配置能夠由光進行取向的未取向的光取向層的工序；準備具有取向圖案的相移掩模的工序，該取向圖案上形成有與相移板的取向圖案的多個區域相對應并具有1/4波長板的相移功能的多個區域；及向相移掩模照射橢圓偏光，使從相移掩模射出的偏光照射光取向層，從而將光取向層取向的工序。

在本發明的第二方式中提供一種相移板的制造方法，該相移板上重復出現形成有在彼此不同方向上取向的光軸的多個區域的取向圖案，該方法包括：在基材的一面上配置能夠由光進行取向的未取向的光取向層的工序；準備使多個具有取向圖案的相移板并排排列的相移掩模的工序，該取向圖案上形成有與相移板的取向圖案的多個區域的至少一部分相對應的多個區域；向相移掩模照射偏光，使從相移掩模射出的偏光照射光取向層，從而將光取向層取向的工序。

另外，上述發明內容并未列舉出本發明的全部必要特征，特征組的子組合也有可能構成發明。

附圖說明

圖1為由本實施方式制造的相移板100的整體平面圖。

圖2為沿圖1的II-II線的縱截面圖。

圖3為本實施方式的相移板制造裝置10的整體結構圖。

圖4為曝光部18的整體立體圖。

圖5為相移掩模38的縱截面圖。

圖6為說明使用相移掩模38的掩模板58而進行薄膜90的曝光的立體圖。

圖7為表示掩模板58的退化與累計照射能量之間關系的圖。

圖8為表示掩模板58的退化與累計照射能量之間關系的圖。

圖9為相移掩模38的截面圖。

圖10為表示形成了保護膜64的掩模板58的退化與累計照射能量之間關系的圖。

圖11為說明使用變更的相移掩模338進行取向而得的相移板300的取向圖案306的平面圖。

圖12為相移掩模338的掩模部件370及掩模部件372的縱截面圖。

圖13為表示相移掩模338的分解立體圖與薄膜90的關系的圖。

圖14為變更的相移掩模438的平面圖。

圖15為變更了掩模部件370、372的實施方式的說明圖。

具體實施方式

以下通過發明實施方式對本發明進行說明，但以下實施方式并非對權利要求書所涉及的發明進行限定。并且，實施方式中說明的特征的全部組合對于本發明的解決方案來說也不一定是必需的。

圖1為根據本實施方式的制造方法制造的相移板100的整體平面圖。將圖1中箭頭所示的垂直及水平作為相移板100的垂直方向及水平方向。

相移板100被設置為例如光學低通濾波器的衍射光柵的一部分。相移板100形成為一邊為數十厘米(cm)～數米(m)的長方形。如圖1所示，相移板100具備樹脂基材102和取向圖案106。

樹脂基材102通過將后述樹脂制的長條狀的薄膜切割成一定長度而形成。樹脂基材102使光透過。樹脂基材102的厚度的一例為50μm～100μm。樹脂基材102支承取向圖案106。