[發明專利]相移板的制造方法

有效

• 申請號: 201380014626.1
• 申請日: 2013-02-27
• 公開（公告）號: CN104246550B
• 公開（公告）日: 2017-04-05
• 發明（設計）人: 角張祐一;渡部賢一
• 申請（專利權）人: 株式會社有澤制作所
• 主分類號: G02B5/30
• 分類號: G02B5/30;G02F1/1337
• 代理公司: 北京路浩知識產權代理有限公司11002
• 代理人: 謝順星,張晶

1.一種相移板的制造方法，其特征在于，該相移板具有形成有光軸在彼此不同方向上取向的多個區域的取向圖案，該方法包括：

在基材的一面上配置由光進行取向的未取向光取向層的工序；

準備具有取向圖案的相移掩模的工序，該取向圖案形成有與所述相移板的所述取向圖案的所述多個區域相對應并具有1/4波長板的相移功能的多個區域；

向所述相移掩模照射橢圓偏光，從而使從所述相移掩模射出的偏光照射所述光取向層，由此使所述光取向層取向的工序。

2.根據權利要求1所述的相移板的制造方法，所述相移掩模的所述多個區域的寬度等于所述相移板的所述多個區域的寬度。

3.根據權利要求1或2所述的相移板的制造方法，所述相移掩模的相鄰區域的光軸間的角度差等于所述相移板的相鄰區域的光軸間的角度差。

4.根據權利要求1～3中任一項所述的相移板的制造方法，

所述相移掩模具備保持所述取向圖案的掩模基材；

所述取向圖案具有取向膜、液晶膜以及形成有所述取向膜的基材；

所述液晶膜配置于所述光取向層側。

5.根據權利要求1～4中任一項所述的相移板的制造方法，在所述相移掩模的所述取向圖案的一面上，形成有防止所述相移掩模的所述取向圖案發生氧化的保護膜。

6.根據權利要求1～5中任一項所述的相移板的制造方法，所述橢圓偏光為紫外線。

7.根據權利要求1～6中任一項所述的相移板的制造方法，所述相移掩模具有使形成有所述相移掩模的所述取向圖案的多個相移板排列的結構。

8.一種相移板的制造方法，其特征在于，該相移板上重復出現形成有光軸在彼此不同方向上取向的多個區域的取向圖案，該方法包括：

在基材的一面上配置由光進行取向的未取向光取向層的工序；

準備使多個具有取向圖案的相移板排列而成的相移掩模的工序，該取向圖案形成有與所述相移板的所述取向圖案的所述多個區域的至少一部分相對應的多個區域；

向所述相移掩模照射偏光，從而使從所述相移掩模射出的偏光照射所述光取向層，由此使所述光取向層取向的工序。

9.根據權利要求8所述的相移板的制造方法，進一步包括輸送所述光取向層的工序；

所述相移掩模具有使多個形成有不同取向圖案的相移板排列的第一掩模部件及第二掩模部件；

所述第一掩模部件及所述第二掩模部件被配置于在所述光取向層的輸送方向上的不同位置上。

10.根據權利要求9所述的相移板的制造方法，所述第一掩模部件及所述第二掩模部件的所述取向圖案的各區域的寬度大于所述相移板的所述取向圖案的各區域的寬度。

11.根據權利要求10所述的相移板的制造方法，從所述偏光的照射方向觀察，在所述第一掩模部件及所述第二掩模部件在所述相移板間的邊界處形成有遮光膜。

12.根據權利要求11所述的相移板的制造方法，與所述遮光膜相比，所述第一掩模部件及所述第二掩模部件的所述取向圖案被配置于更加靠近所述光取向層的位置上。