[發明專利]校正用掩模及校正方法有效
| 申請號: | 201380014388.4 | 申請日: | 2013-03-13 |
| 公開(公告)號: | CN104169802A | 公開(公告)日: | 2014-11-26 |
| 發明(設計)人: | 野村義昭;松本隆德;竹下琢郎 | 申請(專利權)人: | 株式會社V技術 |
| 主分類號: | G03F9/00 | 分類號: | G03F9/00;G03F1/00 |
| 代理公司: | 北京瑞盟知識產權代理有限公司 11300 | 代理人: | 劉昕 |
| 地址: | 日本神奈川縣橫*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 校正 用掩模 方法 | ||
1.一種校正用掩模,用于曝光裝置,其特征在于,具有:
掩模部,其具有用于取得圖像的圖像取得窗;
玻璃面部,其位于所述掩模部的下方側,并由通過粘合層粘合在所述圖像取得窗附近的玻璃材料構成;
遮蔽線組,其在所述圖像取得窗及所述玻璃面部上分別設置由遮蔽材料構成的遮蔽線。
2.根據權利要求1所述的校正用掩模,其特征在于,
在所述遮蔽線組中,使以橫向截斷所述圖像取得窗的方式配置在所述玻璃面部上的、由遮蔽材料構成的至少兩個以上的遮蔽線,和以橫向截斷所述圖像取得窗的方式配置在所述掩模部的下方側的表面的、由遮蔽材料構成的至少兩個以上的遮蔽線分別平行設置。
3.根據權利要求1或2所述的校正用掩模,其特征在于,
所述校正用掩模在所述掩模部的表面上具有多個對準標志。
4.根據權利要求2或3所述的校正用掩模,其特征在于,
當配置在所述玻璃面部上的遮蔽線的數量為3個以上時,所述遮蔽線以等間隔配置。
5.根據權利要求2~4中任意一項所述的校正用掩模,其特征在于,
當配置在所述掩模部的下方側的表面上的遮蔽線的數量為3個以上時,所述遮蔽線以等間隔配置。
6.一種校正方法,用于測定曝光裝置的分辨率,其特征在于,
使光透過校正用掩模,該校正用掩模包括:具有用于取得圖像的圖像取得窗的掩模部;位于所述掩模部的下方側,并由通過粘合層粘合在所述圖像取得窗附近的玻璃材料構成的玻璃面部;和在所述圖像取得窗及所述玻璃面部上分別設置由遮蔽材料構成的遮蔽線的遮蔽線組;
接受從除所述遮蔽線組以外的部分透過的光,并根據所接受的光的信息轉換為圖像信息;
根據所述圖像信息測定分辨率信息。
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