[發明專利]蒸鍍數據處理裝置、有機EL器件的制造裝置以及制造方法

無效

• 申請號: 201380013335.0
• 申請日: 2013-03-05
• 公開（公告）號: CN104160784A
• 公開（公告）日: 2014-11-19
• 發明（設計）人: 垣內良平;山本悟;山野隆義
• 申請（專利權）人: 日東電工株式會社
• 主分類號: H05B33/10
• 分類號: H05B33/10;C23C14/24;H01L51/50;H05B33/12
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會華

本申請主張日本特愿2012-52975號和日本特愿2013-30034號的優先權，通過引用而將這些編入本申請說明書的記載。

技術領域

本發明涉及用于對形成于基材的有機EL(電致發光)元件的蒸鍍數據進行處理的蒸鍍數據處理裝置。另外，本發明涉及用于制造有機EL器件的有機EL器件的制造裝置，進一步涉及有機EL器件的制造方法。

背景技術

以往，作為有機EL器件的制造方法，公知有卷對卷工藝。該卷對卷工藝是這樣的工藝：連續地放出被卷取成了卷狀的帶狀的基材并輸送，而且，多個蒸鍍源朝向輸送著的基材噴出氣化材料，并使噴出來的氣化材料蒸鍍在基材的蒸鍍面，由此，在基材上形成有機EL元件的結構層，之后，將基材卷取成卷狀(參照專利文獻1)。

專利文獻1：日本特開2008-287996號公報

發明內容

發明要解決的問題

然而，在專利文獻1的制造裝置、制造方法中，因為多個蒸鍍源連續噴出氣化材料，各結構層連續被層疊，所以無法完全掌握各結構層的蒸鍍狀況。因此，對于連續地形成于輸送著的基材上的有機EL元件，有想要確認規定的有機EL元件的各結構層的蒸鍍狀況的要求。

于是，本發明鑒于這樣的情況，其課題在于，提供一種能夠對連續地形成于輸送著的基材的有機EL元件確認各結構層的蒸鍍狀況的蒸鍍數據處理裝置、有機EL器件的制造裝置以及制造方法。

用于解決問題的方案

本發明的蒸鍍數據處理裝置是一種對通過在被輸送的帶狀的基材上蒸鍍氣化材料而沿上述基材的長度方向并列形成的多個有機EL元件的蒸鍍數據進行處理的蒸鍍數據處理裝置，其特征在于，該蒸鍍數據處理裝置具有：讀取裝置，其用于讀取構成上述各有機EL元件的多個結構層中的、至少2個以上的結構層；處理部，其進行將利用該讀取裝置讀取到的、位于上述基材的長度方向的相同位置的各結構層的數據作為規定的有機EL元件的數據集中起來的處理。

另外，本發明的有機EL器件的制造裝置具有：輸送裝置，其用于輸送上述基材；多個蒸鍍源，其用于將氣化材料噴到被輸送的上述基材上，通過將自上述各蒸鍍源噴出來的氣化材料蒸鍍到上述基材上，而形成由多個結構層構成的上述有機EL元件，其特征在于，該有機EL器件的制造裝置具有上述的蒸鍍數據處理裝置。

另外，在本發明的有機EL器件的制造裝置中，也可以是，該有機EL器件的制造裝置具有遮蔽裝置，該遮蔽裝置具有用于遮蔽上述基材的遮蔽構件，為了在上述基材的、作為形成結構層的位置的結構層形成位置蒸鍍氣化材料，上述遮蔽構件具有使上述基材的上述結構層形成位置暴露的第1開放部，為了形成成為上述讀取裝置讀取結構層的契機的讀取契機部，進而為了在上述基材的、作為形成上述讀取契機部的位置的契機部形成位置蒸鍍氣化材料，上述遮蔽裝置具有使上述基材的上述契機部形成位置暴露的第2開放部，上述讀取裝置基于對上述讀取契機部的檢測來讀取結構層。

另外，在本發明的有機EL器件的制造裝置中，也可以是，上述處理裝置具有：蒸鍍控制部，其用于控制上述各蒸鍍源噴出氣化材料的情況；蒸鍍檢查部，其基于由上述讀取裝置讀取到的結構層的數據來檢查該結構層的蒸鍍狀態，上述蒸鍍控制部基于上述蒸鍍檢查部的檢查結果，使上述各蒸鍍源停止噴出氣化材料。

另外，本發明的有機EL器件的制造方法的特征在于，利用上述的有機EL器件的制造裝置來制造有機EL器件。

附圖說明

圖1表示本發明的一實施方式的有機EL器件的制造裝置的整體俯視圖。

圖2表示該實施方式的有機EL器件的制造裝置的主要部件俯視圖。

圖3表示作為該實施方式的有機EL器件的制造裝置的主要部件圖的、規定的遮蔽構件位于遮蔽位置的狀態的俯視圖。

圖4表示作為該實施方式的有機EL器件的制造裝置的主要部件圖的、規定的遮蔽構件位于遮蔽位置的狀態的縱剖視圖。

圖5表示作為該實施方式的有機EL器件的制造裝置的主要部件圖的、規定的遮蔽構件位于遮蔽位置的狀態的側面展開圖。

圖6表示作為該實施方式的有機EL器件的制造裝置的主要部件圖的、規定的遮蔽構件位于遮蔽解除位置的狀態的俯視圖。

圖7表示作為該實施方式的有機EL器件的制造裝置的主要部件圖的、規定的遮蔽構件位于遮蔽解除位置的狀態的縱剖視圖。

圖8表示該實施方式的有機EL器件的制造裝置的系統概要圖。