[發明專利]蒸鍍數據處理裝置、有機EL器件的制造裝置以及制造方法

無效

• 申請號: 201380013335.0
• 申請日: 2013-03-05
• 公開（公告）號: CN104160784A
• 公開（公告）日: 2014-11-19
• 發明（設計）人: 垣內良平;山本悟;山野隆義
• 申請（專利權）人: 日東電工株式會社
• 主分類號: H05B33/10
• 分類號: H05B33/10;C23C14/24;H01L51/50;H05B33/12
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會華

1.一種蒸鍍數據處理裝置，其對通過在被輸送的帶狀的基材上蒸鍍氣化材料而沿上述基材的長度方向并列形成的多個有機EL元件的蒸鍍數據進行處理，其特征在于，

該蒸鍍數據處理裝置具有：

讀取裝置，其用于讀取構成上述各有機EL元件的多個結構層中的、至少2個以上的結構層；處理部，其進行將利用該讀取裝置讀取到的、位于上述基材的長度方向的相同位置的各結構層的數據作為規定的有機EL元件的數據集中起來的處理。

2.一種有機EL器件的制造裝置，其具有：輸送裝置，其用于輸送上述基材；多個蒸鍍源，其用于將氣化材料噴到被輸送的上述基材上，通過將自上述各蒸鍍源噴出來的氣化材料蒸鍍到上述基材上，而形成由多個結構層構成的上述有機EL元件，其特征在于，

該有機EL器件的制造裝置具有權利要求1所述的蒸鍍數據處理裝置。

3.根據權利要求2所述的有機EL器件的制造裝置，其特征在于，

該有機EL器件的制造裝置具有遮蔽裝置，該遮蔽裝置具有用于遮蔽上述基材的遮蔽構件，

為了在上述基材的、作為形成結構層的位置的結構層形成位置蒸鍍氣化材料，上述遮蔽構件具有使上述基材的上述結構層形成位置暴露的第1開放部，

為了形成成為上述讀取裝置讀取結構層的契機的讀取契機部，進而為了在上述基材的、作為形成上述讀取契機部的位置的契機部形成位置蒸鍍氣化材料，上述遮蔽裝置具有使上述基材的上述契機部形成位置暴露的第2開放部，

上述讀取裝置基于對上述讀取契機部的檢測來讀取結構層。

4.根據權利要求2或3所述的有機EL器件的制造裝置，其特征在于，

上述處理裝置具有：蒸鍍控制部，其用于控制上述各蒸鍍源噴出氣化材料的情況；蒸鍍檢查部，其基于由上述讀取裝置讀取到的結構層的數據來檢查該結構層的蒸鍍狀態，

上述蒸鍍控制部基于上述蒸鍍檢查部的檢查結果，使上述各蒸鍍源停止噴出氣化材料。

5.一種有機EL器件的制造方法，其特征在于，

利用權利要求2～4中任一項所述的有機EL器件的制造裝置來制造有機EL器件。