[發明專利]曝光描繪裝置及曝光描繪方法

有效

• 申請號: 201380013189.1
• 申請日: 2013-02-25
• 公開（公告）號: CN104169799A
• 公開（公告）日: 2014-11-26
• 發明（設計）人: 橋口昭浩
• 申請（專利權）人: 株式會社阿迪泰克工程
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H01L21/027
• 代理公司: 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219
• 代理人: 熊傳芳;蘇卉

技術領域

本發明涉及曝光描繪裝置及曝光描繪方法，特別是涉及通過對被曝光基板曝光光束來描繪電路圖案的曝光描繪裝置、由曝光描繪裝置執行的程序及通過對被曝光基板曝光光束來描繪電路圖案的曝光描繪方法。

背景技術

以往，在對圖像記錄裝置及曝光描繪裝置等裝置連續進行多個處理要求的情況下，將一次要求的各關聯的多個處理要求總括而作為1個作業，按照處理要求所發生的順序連續地依次執行多個作業。此時，在結束了在執行中的作業中設定的處理張數的處理的階段，結束執行中的作業而開始執行下一個作業。

然而，在執行多個作業時，在作為處理對象的記錄介質變得不足、或傳送來的記錄介質的種類、尺寸與作業中設定的記錄介質不同的情況下，無法繼續處理，因此發生錯誤而使處理停止。特別是，在裝置是曝光描繪裝置的情況下，若因錯誤等而使曝光處理暫且停止，則恢復需要一定的時間，因此希望盡可能不停止曝光處理而繼續直到最后。

作為解決該問題的方法，在日本特開平11－162827號公報(專利文獻1)中，公開了如下技術：在預先實施處理設定的作業不同的情況下對虛擬作業曝光處理進行登記，從而對因錯誤發生而產生的生產線停止、二次損害發生進行抑制。該技術中，在從上游傳送來的作業登記數據即配方不是配方文件中的配方的情況下，對虛擬作業進行登記，并將登記了虛擬作業這一情況向操作員通知，進入到事件等待。被通知已經對虛擬作業進行了登記這一情況的操作員將該虛擬作業替換為正常的作業，從而即使到達了執行該作業的階段，也能夠正常地繼續曝光處理，并能夠在不中斷曝光處理的情況下繼續。

發明內容

發明要解決的課題

上述專利文獻1的技術中，需要在登記虛擬作業之后到執行該虛擬作業之前將虛擬作業替換為正常的作業，在來不及替換的情況下，即使能夠不使曝光處理中斷而繼續，也存在會產生因虛擬作業引起的無用的曝光處理的問題。

本發明鑒于上述問題而提出，目的在于提供在連續進行多個作業時能夠極力不進行不需要的曝光處理而抑制不必要的生產線停止的曝光描繪裝置、程序及曝光描繪方法。

用于解決課題的手段

為了達到上述目的，本發明的一方式所涉及的曝光描繪裝置具備：曝光處理執行單元，分別設定表示被曝光基板的種類的基板信息，基于要求與曝光信息對應的曝光處理的多個曝光處理要求，對被曝光基板依次執行各曝光處理；檢測單元，檢測曝光處理對象的被曝光基板的基板信息；比較單元，對由所述檢測單元檢測出的檢測基板信息和執行中的曝光處理要求所設定的執行中基板信息進行比較；及切換單元，基于所述比較單元的比較結果，對由所述曝光處理執行單元執行的曝光處理要求進行切換，使得在接下來成為曝光處理對象的被曝光基板的檢測基板信息與執行中基板信息相同的情況下，對所述接下來成為曝光處理對象的被曝光基板繼續執行執行中的曝光處理要求，并且在檢測基板信息與執行中基板信息不同且與下一曝光處理要求所設定的基板信息相同的情況下，結束所述執行中的曝光處理要求而開始執行所述下一曝光處理要求。

根據該曝光描繪裝置，利用曝光處理執行單元分別設定表示被曝光基板的種類的基板信息，基于要求與曝光信息對應的曝光處理的多個曝光處理要求，對被曝光基板依次執行各曝光處理。

這里，本發明的一方式中，利用檢測單元對曝光處理對象的被曝光基板的基板信息進行檢測，并利用比較單元對由所述檢測單元檢測出的檢測基板信息和執行中的曝光處理要求所設定的執行中基板信息進行比較。

另外，本發明的一方式中，利用切換單元，基于所述比較單元的比較結果，對由所述曝光處理執行單元執行的曝光處理要求進行切換，使得在接下來成為曝光處理對象的被曝光基板的檢測基板信息與執行中基板信息相同的情況下，對所述接下來成為曝光處理對象的被曝光基板繼續執行執行中的曝光處理要求，并且在檢測基板信息與執行中基板信息不同且與下一曝光處理要求所設定的基板信息相同的情況下，結束所述執行中的曝光處理要求而開始執行所述下一曝光處理要求。

如此，根據本發明的一方式所涉及的曝光描繪裝置，在連續進行多個曝光處理要求(作業)時，根據接下來作為處理對象的被曝光基板的基板信息，在該被曝光基板不是執行中的作業所使用的基板而是下一個作業所使用的被曝光基板的情況下，結束執行中的作業而開始下一個作業，結果能夠極力地不進行不需要的曝光處理而抑制不必要的生產線停止。