[發明專利]曝光描繪裝置及曝光描繪方法

有效

• 申請號: 201380013189.1
• 申請日: 2013-02-25
• 公開（公告）號: CN104169799A
• 公開（公告）日: 2014-11-26
• 發明（設計）人: 橋口昭浩
• 申請（專利權）人: 株式會社阿迪泰克工程
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H01L21/027
• 代理公司: 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219
• 代理人: 熊傳芳;蘇卉

1.一種曝光描繪裝置，具備：

曝光處理執行單元，分別設定表示被曝光基板的種類的基板信息，基于要求與曝光信息對應的曝光處理的多個曝光處理要求，對被曝光基板依次執行各曝光處理；

檢測單元，檢測曝光處理對象的被曝光基板的基板信息；

比較單元，對由所述檢測單元檢測出的檢測基板信息和執行中的曝光處理要求所設定的執行中基板信息進行比較；及

切換單元，基于所述比較單元的比較結果，對由所述曝光處理執行單元執行的曝光處理要求進行切換，使得在接下來成為曝光處理對象的被曝光基板的檢測基板信息與執行中基板信息相同的情況下，對所述接下來成為曝光處理對象的被曝光基板繼續執行執行中的曝光處理要求，并且在檢測基板信息與執行中基板信息不同且與下一曝光處理要求所設定的基板信息相同的情況下，結束所述執行中的曝光處理要求而開始執行所述下一曝光處理要求。

2.根據權利要求1所述的曝光描繪裝置，其中，

在所述多個曝光處理要求的各曝光處理要求中分別設定表示基板的處理張數的張數信息，

所述切換單元在由所述曝光處理執行單元執行的曝光處理張數為根據執行中的曝光處理要求所設定的處理張數而規定的預定張數時，基于所述比較單元的比較結果，對由所述曝光處理執行單元執行的曝光處理要求進行切換，使得在接下來成為曝光處理對象的被曝光基板的檢測基板信息與執行中基板信息相同的情況下，對所述接下來成為曝光處理對象的被曝光基板繼續執行執行中的曝光處理要求，并且在檢測基板信息與執行中基板信息不同且與下一曝光處理要求所設定的基板信息相同的情況下，結束所述執行中的曝光處理要求而開始執行所述下一曝光處理要求。

3.一種曝光描繪裝置，具備：

曝光處理執行單元，分別設定表示被曝光基板的種類的基板信息，基于要求與曝光信息對應的曝光處理的多個曝光處理要求，對被曝光基板依次執行各曝光處理；

檢測單元，檢測曝光處理對象的被曝光基板的基板信息；

比較單元，對由所述檢測單元檢測出的檢測基板信息和切換后的曝光處理要求所設定的切換基板信息進行比較；及

切換單元，在以結束執行中的曝光處理要求而開始執行下一曝光處理要求的方式進行切換后，基于所述比較單元的比較結果，對由所述曝光處理執行單元執行的曝光處理要求進行切換，使得在接下來成為曝光處理對象的被曝光基板的檢測基板信息與切換基板信息相同的情況下，對所述接下來成為曝光處理對象的被曝光基板執行切換后的曝光處理要求，并且在檢測基板信息與切換基板信息不同且與切換前所執行的曝光處理要求所設定的基板信息相同的情況下，對所述接下來成為曝光處理對象的被曝光基板繼續執行切換前所執行的曝光處理要求。

4.根據權利要求1所述的曝光描繪裝置，其中，

在所述多個曝光處理要求的各曝光處理要求中分別設定表示基板的處理張數的張數信息，

所述切換單元在以結束執行中的曝光處理要求而開始執行下一曝光處理要求的方式進行切換后，在由所述曝光處理執行單元執行的曝光處理張數為根據執行中的曝光處理要求所設定的處理張數而規定的預定張數時，基于所述比較單元的比較結果，對由所述曝光處理執行單元執行的曝光處理要求進行切換，使得在接下來成為曝光處理對象的被曝光基板的檢測基板信息與切換基板信息相同的情況下，對所述接下來成為曝光處理對象的被曝光基板執行切換后的曝光處理要求，并且在檢測基板信息與切換基板信息不同且與切換前所執行的曝光處理要求所設定的基板信息相同的情況下，對所述接下來成為曝光處理對象的被曝光基板繼續執行切換前所執行的曝光處理要求。

5.根據權利要求2或4所述的曝光描繪裝置，其中，

還具備接受單元，接受容許曝光處理要求的切換的所述被曝光基板的張數的輸入，

根據執行中的曝光處理所設定的處理張數及由所述接受單元接受到的張數來規定所述預定張數。