[發明專利]信息記錄介質用玻璃基板的制造方法和信息記錄介質

有效

• 申請號: 201380011741.3
• 申請日: 2013-03-06
• 公開（公告）號: CN104170012B
• 公開（公告）日: 2017-09-29
• 發明（設計）人: 小松隆史
• 申請（專利權）人: HOYA株式會社
• 主分類號: G11B5/84
• 分類號: G11B5/84;B24B37/08;B24B37/28;C03C19/00
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司11127
• 代理人: 李輝,黃綸偉

1.一種信息記錄介質用玻璃基板的制造方法，所述信息記錄介質在圓盤形狀的玻璃基板的主表面上形成有磁薄膜層，在所述信息記錄介質用玻璃基板的制造方法中，

具有表面研磨工序，在該表面研磨工序中，利用具備行星齒輪機構的雙面研磨裝置，一邊供給研磨劑一邊研磨所述玻璃基板的主表面，

所述雙面研磨裝置具備：

上平臺，其位于所述玻璃基板的上側，且在該上平臺的所述玻璃基板側具有上側研磨墊；

下平臺，其位于所述玻璃基板的下側，且在該下平臺的所述玻璃基板側具有下側研磨墊；以及

圓盤狀的載具，其設有多個保持所述玻璃基板的貫穿保持孔，所述載具被所述上側研磨墊和所述下側研磨墊夾著，并且通過所述行星齒輪機構進行規定的旋轉運動，

所述貫穿保持孔具有：被配置在所述載具的中心位置附近的唯一的第1貫穿保持孔；和圍繞所述第1貫穿保持孔呈環狀地配置的多個第2貫穿保持孔，

在將所述玻璃基板的直徑設為Dmm、并將從所述載具的中心位置至所述第1貫穿保持孔的中心位置的距離設為rmm的情況下，所述第1貫穿保持孔的中心位置被設置在滿足[(D/4)≤r≤(D/2)]的關系式的位置處。

2.根據權利要求1所述的信息記錄介質用玻璃基板的制造方法，其中，

在所述載具的、比圍繞所述第1貫穿保持孔呈環狀地配置的所述第2貫穿保持孔靠所述載具的半徑方向內側的位置處，還具有直徑比所述貫穿保持孔小的輔助貫穿孔。

3.一種研磨用載具，所述研磨用載具在信息記錄介質用基板的制造方法中使用，所述信息記錄介質在圓盤形狀的基板的主表面上形成有磁薄膜層，其中，

所述研磨用載具設有多個保持所述基板的貫穿保持孔，

所述貫穿保持孔具有：被配置在所述研磨用載具的中心位置附近的唯一的第1貫穿保持孔；和圍繞所述第1貫穿保持孔呈環狀地配置的多個第2貫穿保持孔，

在將所述基板的直徑設為Dmm、并將從所述研磨用載具的中心位置至所述第1貫穿保持孔的中心位置的距離設為rmm的情況下，所述第1貫穿保持孔的中心位置被設置在滿足[(D/4)≤r≤(D/2)]的關系式的位置處。

4.根據權利要求3所述的研磨用載具，其中，

在所述研磨用載具的、比圍繞所述第1貫穿保持孔呈環狀地配置的所述第2貫穿保持孔靠所述研磨用載具的半徑方向內側的位置處，還具有直徑比所述貫穿保持孔小的輔助貫穿孔。