[發明專利]信息記錄介質用玻璃基板的制造方法和信息記錄介質

有效

• 申請號: 201380011741.3
• 申請日: 2013-03-06
• 公開（公告）號: CN104170012B
• 公開（公告）日: 2017-09-29
• 發明（設計）人: 小松隆史
• 申請（專利權）人: HOYA株式會社
• 主分類號: G11B5/84
• 分類號: G11B5/84;B24B37/08;B24B37/28;C03C19/00
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司11127
• 代理人: 李輝,黃綸偉

技術領域

本發明涉及信息記錄介質用玻璃基板的制造方法和信息記錄介質，特別是涉及在信息記錄介質的制造中使用的信息記錄介質用玻璃基板的制造方法、和具備該信息記錄介質用玻璃基板的信息記錄介質。

背景技術

磁盤等信息記錄介質作為硬盤被搭載于計算機等。信息記錄介質是在基板的表面上形成包含記錄層的磁薄膜層來制造的，所述記錄層利用了磁、光、或者光磁等的性質。記錄層通過磁頭被磁化，由此將規定的信息記錄于信息記錄介質中。

信息記錄介質逐年在不斷提高記錄密度。與此相伴，對于信息記錄介質所使用的基板的質量，也要求高質量。作為信息記錄介質用的基板，一直以來使用鋁基板，但是，隨著記錄密度的提高，正在逐漸替換為基板表面的平滑性和強度比鋁基板優異的玻璃基板。

在信息記錄介質用的玻璃基板的制造方法中，具有用于確保較高的表面形狀精度的磨削工序/研磨工序。為了實現玻璃基板的高精度的形狀品質，采用了將加工處理能力不同的漿料以及磨削/研磨墊有效地組合起來的、2個階段以上的磨削/研磨工序。例如在日本特開2007-015105號公報(專利文獻1)中公開有以往的與玻璃基板的制造相關的技術。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2007-015105號公報

發明內容

發明要解決的課題

對于作為信息記錄介質使用的玻璃基板，一般將多個玻璃基板保持于載具(carrier)上設置的貫穿保持孔，進行玻璃基板的磨削/研磨。近年來，為了削減成本，存在這樣的趨勢：增加在磨削/研磨中使用的每一個載具上的玻璃基板數。

另外，為了提高每一個玻璃基板的記錄密度，甚至將玻璃基板的至外周側的端面附近的區域都用作信息記錄區域，因此，玻璃基板的外周側端面的形狀精加工精度也要求較高的精度。

如果針對載具以最密的方式設置貫穿保持孔，則在載具的中心位置附近也放置有玻璃基板。如果將玻璃基板配置于載具的中心，則在研磨工序中驅動雙面研磨裝置時，配置在中心的玻璃基板集中通過處于研磨墊的平臺內周附近和平臺外周附近中間的區域(以下，稱作中間帶區域。)的相同位置。

玻璃基板集中通過研磨墊的相同位置這一情況使得在研磨工序中，在研磨墊上的、玻璃基板通過的部分產生研磨墊的不均勻磨損，從而導致研磨墊的中間帶區域處的研磨墊的硬度降低。

如果平臺的中間帶區域處的研磨墊的硬度降低，則在玻璃基板通過硬度降低后的區域時，玻璃基板傾斜并沉降，從而玻璃基板的端面形狀變得不均勻。

本發明是鑒于上述課題而完成的，提供一種信息記錄介質用玻璃基板的制造方法和信息記錄介質，在使用了雙面研磨裝置的研磨工序中，能夠抑制在平臺的研磨墊上產生硬度不均勻的區域。

用于解決問題的手段

在基于本發明的信息記錄介質用玻璃基板的制造方法中，所述信息記錄介質在圓盤形狀的玻璃基板的主表面上形成有磁薄膜層，在所述信息記錄介質用玻璃基板的制造方法中，具有表面研磨工序，在該表面研磨工序中，利用具備行星齒輪機構的雙面研磨裝置，一邊供給研磨劑一邊研磨上述玻璃基板的主表面。

上述雙面研磨裝置具備：上平臺，其位于上述玻璃基板的上側，且在該上平臺的上述玻璃基板側具有上側研磨墊；下平臺，其位于上述玻璃基板的下側，且在該下平臺的上述玻璃基板側具有下側研磨墊；以及圓盤狀的載具，其設有多個保持上述玻璃基板的貫穿保持孔，上述載具被上述上側研磨墊和上述下側研磨墊夾著，并且通過上述行星齒輪機構進行規定的旋轉運動。

上述貫穿保持孔具有：被配置在上述載具的中心位置附近的一個第1貫穿保持孔；和圍繞上述第1貫穿保持孔呈環狀地配置的多個第2貫穿保持孔。

在將上述玻璃基板的直徑設為Dmm、并將從上述載具的中心位置至上述第1貫穿保持孔的中心位置的距離設為rmm的情況下，上述第1貫穿保持孔的中心位置被設置在滿足[(D/4)≤r≤(D/2)]的關系式的位置處。

在另一方式中，在上述載具的、比圍繞上述第1貫穿保持孔呈環狀地配置的上述第2貫穿保持孔靠上述載具的半徑方向內側的位置處，還具有直徑比上述貫穿保持孔小的輔助貫穿孔。

在基于本發明的信息記錄介質中具備：玻璃基板，其是通過上述任意一個方式所述的信息記錄介質用玻璃基板的制造方法得到的；和磁薄膜層，其形成在上述玻璃基板的主表面上。

發明效果