[實用新型]一種真空式激光刻蝕吸附平臺有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201320893368.6 | 申請日： | 2013-12-25 |
| 公開（公告）號： | CN203636212U | 公開（公告）日： | 2014-06-11 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 施心星;龔楷峰;劉俊輝;邵西河 | 申請（專利權(quán)）人： | 蘇州鐳明激光科技有限公司 |
| 主分類號： | B23K26/70 | 分類號： | B23K26/70 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 215000 江蘇省蘇州市吳中區(qū)*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 真空 激光 刻蝕 吸附 平臺 | ||
1.一種真空式激光刻蝕吸附平臺，包括真空泵(1)和工作臺(2)，所述真空泵(1)設(shè)置在工作臺(2)的下方，其特征在于，所述真空泵(1)為復(fù)合分子泵，所述工作臺(2)包括金屬底板(4)，所述金屬底板(4)上開設(shè)有溝槽，所述金屬底板(4)上設(shè)有聚甲醛板(3)，所述聚甲醛板(3)上設(shè)置有多個吸附孔(5)，所述吸附孔(5)和溝槽相互貫通并和真空泵(1)的吸風(fēng)口相連。
2.如權(quán)利要求1所述的真空式激光刻蝕吸附平臺，其特征在于，所述吸附孔(5)按陣列方式均勻排列。
3.如權(quán)利要求2所述的真空式激光刻蝕吸附平臺，其特征在于，所述吸附孔(5)是孔徑為0.5mm～4mm的圓孔，相鄰兩個吸附孔(5)之間的間距為2mm～20mm。
4.如權(quán)利要求2所述的真空式激光刻蝕吸附平臺，其特征在于，所述工作臺(2)的平面度為0.05mm以內(nèi)。
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1、專利原文基于中國國家知識產(chǎn)權(quán)局專利說明書；
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