[實用新型]用于曝光機的對位曬架有效
| 申請號： | 201320890618.0 | 申請日： | 2013-12-31 |
| 公開（公告）號： | CN203689009U | 公開（公告）日： | 2014-07-02 |
| 發明（設計）人： | 李炬;佘瑞峰;肖麗;彭永杰;李輝;王金鵬;李松凌 | 申請（專利權）人： | 四川聚能核技術工程有限公司 |
| 主分類號： | G03F9/00 | 分類號： | G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知識產權代理事務所(普通合伙) 11371 | 代理人： | 吳開磊 |
| 地址： | 621700 四*** | 國省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 曝光 對位 | ||
1.一種用于曝光機的對位曬架，其特征在于，包括底座、底片移動板、上蓋和PCB移動板；
所述PCB移動板、底片移動板及所述上蓋從下至上依次設置在所述底座上；
所述底片移動板上安裝有下玻璃，下玻璃上加工有真空吸附槽，下底片通過真空吸附在下玻璃上面；底片移動板下部安裝了三個固定軸，大伺服系統推動固定軸帶動下底片移動，使下底片與上蓋的上底片對位；
所述PCB移動板設置有三個固定軸，小伺服系統推動該固定軸來驅動PCB板與上底片或下底片對位。
2.根據權利要求1所述的用于曝光機的對位曬架，其特征在于，所述上底片通過真空吸附在所述上蓋的上玻璃下面。
3.根據權利要求2所述的用于曝光機的對位曬架，其特征在于，還包括升降裝置；
所述升降裝置驅動所述上蓋上下移動。
4.根據權利要求3所述的用于曝光機的對位曬架，其特征在于，還包括升降裝置；所述升降裝置為四個氣缸；
四個所述氣缸分別位于所述上蓋的四角。
5.根據權利要求4所述的用于曝光機的對位曬架，其特征在于，所述底座上設置有兩個定位銷；
兩個所述定位銷與所述上蓋的兩個定位銷孔一一配合。
6.根據權利要求1所述的用于曝光機的對位曬架，其特征在于，還包括CCD照明燈；
所述CCD照明燈位于所述上蓋的上部且朝向下方。
7.根據權利要求1所述的用于曝光機的對位曬架，其特征在于，還包括兩塊擋光快門；
兩塊所述擋光快門分別位于所述底座的兩側。
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