[實用新型]PECVD鍍膜裝置的電極結構有效
| 申請號: | 201320858578.1 | 申請日: | 2013-12-24 |
| 公開(公告)號: | CN203653694U | 公開(公告)日: | 2014-06-18 |
| 發明(設計)人: | 呂旭東;陳立國;李海燕;張受業;陳偉岸;賀艷;趙萌;朱惠欽 | 申請(專利權)人: | 北京北印東源新材料科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/50 | 分類號: | C23C16/50 |
| 代理公司: | 北京慶峰財智知識產權代理事務所(普通合伙) 11417 | 代理人: | 劉元霞 |
| 地址: | 101407 北京市懷柔*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | pecvd 鍍膜 裝置 電極 結構 | ||
1.一種PECVD鍍膜裝置的電極結構,其特征在于,包括:
第一電極對,所述第一電極對包括相對設置的第一電極輥和第二電極輥,所述第一電極輥內設置有第一內磁路,所述第二電極輥內設置有第二內磁路;
第二電極對,所述第二電極對的兩個電極的中心連線與所述第一電極輥和第二電極輥的中心連線相互垂直并對稱布置。
2.根據權利要求1所述的電極結構,其特征在于,所述第二電極對包括第一電極和第二電極,所述第一電極內置有第三內磁路,所述第二電極內置有第四內磁路。
3.根據權利要求2所述的電極結構,其特征在于,所述第一電極輥內設置有四個磁極,所述第二電極輥內設置有四個磁極,所述第一電極輥內的四個磁極與所述第二電極輥內的四個磁極一一對應設置,所述第一電極輥內的各磁極與所述第二電極輥內的相應的磁極之間形成磁回路。
4.根據權利要求3所述的電極結構,其特征在于,所述第一電極內設置有四個磁極,所述第二電極內設置有四個磁極,所述第一電極內的四個磁極與所述第二電極內的四個磁極一一對應設置,所述第一電極內的朝向所述第一電極輥的磁極與所述第一電極輥內的相應的磁極之間形成磁回路,所述第一電極內的朝向所述第二電極輥的磁極與所述第二電極輥內的相應的磁極之間形成磁回路,所述第二電極內的朝向所述第一電極輥的磁極與所述第一電極輥內的相應的磁極之間形成磁回路,所述第二電極內的朝向所述第二電極輥的磁極與所述第二電極輥內的相應的磁極之間形成磁回路。
5.根據權利要求1所述的電極結構,其特征在于,所述第二電極對包括第一電極和第二電極,所述第一電極和所述第二電極沿所述第一電極輥和所述第二電極輥的中心連線對稱設置,且所述第一電極和所述第二電極的中心連線經過所述第一電極輥和所述第二電極輥的中心連線的中心。
6.根據權利要求5所述的電極結構,其特征在于,所述第一電極輥內設置有四個磁極,所述第二電極輥內設置有四個磁極,所述第一電極輥內的四個磁極與所述第二電極輥內的四個磁極一一對應設置,所述第一電極輥內的各磁極與所述第二電極輥內的相應的磁極之間形成磁回路。
7.根據權利要求1至6中任一項所述的電極結構,其特征在于,所述第一電極對的兩個電極輥為同電位,所述第二電極對的兩個電極為同電位,放電在所述電極與所述電極輥之間進行。
8.根據權利要求1至6中任一項所述的電極結構,其特征在于,所述電極結構包括四個進氣管,所述四個進氣管分別設置在相鄰的所述電極輥和所述電極之間,且所述四個進氣管均位于所述電極輥和所述電極所形成的放電區域外,各所述進氣管的開口朝向所述放電區域。
9.根據權利要求8所述的電極結構,其特征在于,所述四個進氣管沿所述第一電極輥和所述第二電極輥的對稱中心周向均勻設置。
10.根據權利要求1至6中任一項所述的電極結構,其特征在于,所述電極結構包括進氣管,所述進氣管設置在所述第一電極輥和所述第二電極輥的對稱中心。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





