[實用新型]磁控濺射設備

有效

• 申請號: 201320833018.0
• 申請日: 2013-12-17
• 公開（公告）號: CN203923364U
• 公開（公告）日: 2014-11-05
• 發明（設計）人: 董斌;趙欣凱;張立星;付艷強;車奉周;贠向南;金相起;李正勛
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243
• 代理人: 黃燦;呂品

1.一種磁控濺射設備，包括用于容納靶材以及工件的濺射腔室，所述濺射腔室的內部設置有防著板，其特征在于，所述濺射腔室內設置有用于照射所述靶材以及所述防著板以使所述靶材以及所述防著板的表面發生光致脫附的光源，所述光源的光子能量達到跨越勢壘的高度，以使靶材以及防著板的表面氣團的逸出，由此減少粒子在靶材以及防著板上吸附。

2.根據權利要求1所述的磁控濺射設備，其特征在于，所述濺射腔室的內部設置有用于安放靶材的靶材安裝區域以及與所述靶材安裝區域相對設置的用于安裝工件的承載基板，所述防著板包括設置于所述承載基板與所述靶材安裝區域之間的中空防著板，所述光源包括設置于所述承載基板外側的第一光源。

3.根據權利要求2所述的磁控濺射設備，其特征在于，所述承載基板的上方設置有磁鐵，所述第一光源的下邊緣低于所述磁鐵的下邊緣。

4.根據權利要求2所述的磁控濺射設備，其特征在于，所述中空防著板通過面向所述承載基板的銅板安裝于所述濺射腔室的內部，所述第一光源高于所述銅板的上邊緣。

5.根據權利要求4所述的磁控濺射設備，其特征在于，所述光源包括設置于所述承載基板外側的第二光源。

6.根據權利要求5所述的磁控濺射設備，其特征在于，所述濺射腔室的內部設置有用于帶動所述承載基板移動的滾輪以及承托所述滾輪的導軌，所述第二光源的上邊緣高于所述導軌的上邊緣。

7.根據權利要求6所述的磁控濺射設備，其特征在于，所述第二光源低于所述銅板的下邊緣。

8.根據權利要求5所述的磁控濺射設備，其特征在于，所述第一光源為用于發射紫外線的第一紫外燈，所述第二光源為用于發射紫外線的第二紫外燈。

9.根據權利要求8所述的磁控濺射設備，其特征在于，所述第一紫外燈、所述紫外燈均為氙燈。