[實用新型]一種用于脈沖激光刻蝕的真空吸附平臺

有效

• 申請號: 201320825096.6
• 申請日: 2013-12-03
• 公開（公告）號: CN203599718U
• 公開（公告）日: 2014-05-21
• 發明（設計）人: 龔楷峰;劉俊輝;施心星
• 申請（專利權）人: 蘇州鐳明激光科技有限公司
• 主分類號: B23K26/70
• 分類號: B23K26/70;B23K26/362
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本實用新型涉及一種真空吸附平臺，尤其涉及一種用于脈沖激光刻蝕的真空吸附平臺，屬于激光微加工技術領域。

背景技術

在PET薄膜導電膜層放置固定并加工的放料平臺中，現有技術是利用“潮汐原理”通過采用真空發生器排空平臺內的氣體，從而使平臺內部形成負壓來吸附待加工材料。所謂真空發生器足利用噴管高速噴射壓縮空氣，在噴管出口形成射流，產生卷吸流動.在卷吸作用下，使得噴管出口周圍的空氣不斷地被抽吸走，使吸附腔內的壓力降至大氣壓以下，形成一定真空度。由于真空發生器一般流量均比較小，這就導致工作過程中，平臺吸附反應慢、吸附力小等缺陷，造成生產效率及成品率均比較低。因此，針對現有的不足，有必要提供一種新的技術以提高生產效率和成品率。

實用新型內容

本實用新型所要解決的技術問題是提供一種用于脈沖激光刻蝕的真空吸附平臺，加大吸附力，提高生產效率。

本實用新型為解決上述技術問題而采用的技術方案是提供一種用于脈沖激光刻蝕的真空吸附平臺，包括真空泵和平臺，所述真空泵設置在平臺的下方，其中，所述平臺包括裝配在一起的POM板和金屬底板，所述POM板上設置有多個吸附孔，所述金屬底板上設置有與所述吸附孔相對應的溝槽，所述溝槽位于吸附孔的下方。

上述的用于脈沖激光刻蝕的真空吸附平臺，其中，所述吸附孔按陣列方式均勻排列。

上述的用于脈沖激光刻蝕的真空吸附平臺，其中，所述吸附孔是孔徑為0.5mm～4mm的圓孔，相鄰兩個吸附孔之間的間距為5mm～20mm。

上述的用于脈沖激光刻蝕的真空吸附平臺，其中，所述平臺的平面度為0.05mm以內。

本實用新型對比現有技術有如下的有益效果：本實用新型提供的用于脈沖激光刻蝕的真空吸附平臺，通過在POM板和金屬底板上分別設置吸附孔和溝槽，以便真空泵抽取平臺內部氣體后形成一個負壓空間，從而加大吸附力，大幅降低了因平臺吸力不足造成加工材料浪費過多、加工偏位以及產品不良等缺陷。此外，本實用新型通過縮小吸附孔孔徑、增加吸附孔數量、增大平臺底板內部氣路的截面面積，并且利用真空泵的流量及壓力均較大的優點，從而更好地將待加工材料牢牢地吸附在真空平臺上，進一步提高了生產效率。

附圖說明

圖1為本實用新型的用于脈沖激光刻蝕的真空吸附平臺整體結構示意圖；

圖2為本實用新型的吸附平臺結構示意圖。

圖中：

1?真空泵???????2?平臺?????3?POM板

4?金屬底板?????5?吸附孔

具體實施方式

下面結合附圖和實施例對本實用新型作進一步的描述。

圖1為本實用新型的用于脈沖激光刻蝕的真空吸附平臺整體結構示意圖；圖2為本實用新型的吸附平臺結構示意圖。

請參見圖1和圖2，本實用新型提供的用于脈沖激光刻蝕的真空吸附平臺包括真空泵1和平臺2，所述真空泵1設置在平臺2的下方，其中，所述平臺2包括裝配在一起的POM板3和金屬底板4，所述POM板3上設置有多個吸附孔5，所述金屬底板4上設置有與所述吸附孔5相對應的溝槽，所述溝槽位于吸附孔5的下方。

本實用新型提供的用于脈沖激光刻蝕的真空吸附平臺，通過在POM板3和金屬底板4上分別設置吸附孔5和溝槽，以便真空泵抽取平臺內部氣體后形成一個負壓空間，從而吸附待加工物料。POM板(聚甲醛板)：英文名稱Polyoxymethylene，俗稱賽鋼板，是用POM塑料粒子通過擠出機高溫擠出，經過相應的模具口擠出得到不同厚度的板材，是一種高熔點、高結晶性的熱塑性工程塑料。因POM板所具有的良好特性，非常適合在脈沖激光刻蝕中作為加工平臺，用來進行精密定位。

本實用新型提供的用于脈沖激光刻蝕的真空吸附平臺，所述吸附孔5優選按陣列方式均勻排列；比如所述吸附孔5優選孔徑為0.5mm～4mm的圓孔，相鄰兩個吸附孔5之間的間距為5mm～20mm；所述平臺2的表面盡量光滑，如平面度為0.05mm以內。通過縮小吸附孔5孔徑、增加吸附孔5數量、增大平臺金屬底板4內部氣路的截面面積，并且利用真空泵的流量及壓力均較大的優點，從而更好地將待加工材料牢牢地吸附在真空平臺上。

雖然本實用新型已以較佳實施案例揭示如上，然其并非用以限定本實用新型，任何本領域技術人員，在不脫離本實用新型的精神和范圍內，當可作些許的修改和完善，因此本實用新型的保護范圍當以權利要求書所界定的為準。