[實用新型]一種用于脈沖激光刻蝕的真空吸附平臺有效

申請號：	201320825096.6	申請日：	2013-12-03
公開（公告）號：	CN203599718U	公開（公告）日：	2014-05-21
發明（設計）人：	龔楷峰;劉俊輝;施心星	申請（專利權）人：	蘇州鐳明激光科技有限公司
主分類號：	B23K26/70	分類號：	B23K26/70;B23K26/362
代理公司：	暫無信息	代理人：	暫無信息
地址：	215000 江蘇省蘇州市吳中區***	國省代碼：	江蘇;32
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摘要：
搜索關鍵詞：	一種用于脈沖激光刻蝕真空吸附平臺
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【權利要求書】：

1.一種用于脈沖激光刻蝕的真空吸附平臺，包括真空泵(1)和平臺(2)，所述真空泵(1)設置在平臺(2)的下方，其特征在于，所述平臺(2)包括裝配在一起的POM板(3)和金屬底板(4)，所述POM板(3)上設置有多個吸附孔(5)，所述金屬底板(4)上設置有與所述吸附孔(5)相對應的溝槽，所述溝槽位于吸附孔(5)的下方。?

2.如權利要求1所述的用于脈沖激光刻蝕的真空吸附平臺，其特征在于，所述吸附孔(5)按陣列方式均勻排列。?

3.如權利要求2所述的用于脈沖激光刻蝕的真空吸附平臺，其特征在于，所述吸附孔(5)是孔徑為0.5mm～4mm的圓孔，相鄰兩個吸附孔(5)之間的間距為2mm～20mm。?

4.如權利要求2所述的用于脈沖激光刻蝕的真空吸附平臺，其特征在于，所述平臺(2)的平面度為0.05mm以內。?

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