[實用新型]用于沉積工藝的防護罩有效
| 申請號: | 201320816022.6 | 申請日: | 2013-12-11 |
| 公開(公告)號: | CN203700513U | 公開(公告)日: | 2014-07-09 |
| 發明(設計)人: | 金慶泰 | 申請(專利權)人: | 應用材料公司 |
| 主分類號: | C23C16/04 | 分類號: | C23C16/04 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人: | 陸嘉 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 美國;US |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 沉積 工藝 防護罩 | ||
技術領域
本實用新型的實施例涉及一種用于沉積工藝的防護罩,所述沉積工藝諸如是在電子器件制造中所使用的化學汽相沉積(CVD)工藝。特別地,本實用新型的實施例涉及一種在有機發光二極管(OLED)顯示設備的制造中用于封裝工藝的防護罩。
背景技術
OLED在電視屏幕、計算機顯示器、移動電話、其他手持設備等的制造中用于顯示信息。典型的OLED可包括位于兩個電極之間的有機材料層,所述有機材料層都以某種方式沉積在基板上,從而形成具有個別可激勵像素的矩陣顯示板。所述OLED通常放置在兩個玻璃板之間,并且所述玻璃板的邊緣是密封的,從而將OLED封裝在玻璃板之間。
在這樣的顯示設備的制造中遇到了許多問題。在一些制造步驟中,將OLED材料封裝在一個或多個層中,以阻止濕氣損壞OLED材料。在這些工藝期間,一個或多個防護罩用于防護基板中不包括OLED材料的部分。在這些工藝中使用的防護罩必須承受顯著的溫差。溫度極限會導致所述防護罩的熱膨脹和收縮,從而可能導致防護罩的破裂、彎折或損壞,這些結果中的任何一個都會導致基板的部分受污染。另外,在這些沉積工藝期間可能存在和/或產生顯著的靜電放電(ESD)。不受控制的ESD可能會損壞OLED材料。
因此,對在形成OLED顯示裝置時使用防護罩的新穎和改良的裝置和處理方法存在持續需要。
實用新型內容
本實用新型的實施例提供一種用于沉積工藝的防護罩和處理套件。在一個實施例中,提供了一種用于沉積工藝的防護罩。所述防護罩包含矩形框架構件,所述矩形框架構件具有兩個相對的主要側面和兩個相對的次要側面,所述主要側面和次要側面中的每一個包含第一側面、第二側面、第二外部側壁和內部側壁,所述第二側面與所述第一側面相對并且經由第一外部側壁連接到所述第一側面,所述第二外部側壁設置在所述第一外部側壁內部并界定從所述第二側面的平面凸出的上升區域,所述內部側壁連接所述上升區域和所述第一側面。所述防護罩還包含矩形條狀物,所述矩形條狀物設置在所述上升區域的表面上,所述矩形條狀物包含第一末端和第二末端,所述第二末端耦合到所述第一末端并且延伸進入所述框架構件的內部區域內。
在另一實施例中,提供了一種用于沉積工藝的防護罩。所述防護罩包含矩形框架構件。所述矩形框架構件具有兩個相對的主要側面和兩個相對的次要側面。所述主要側面和次要側面中的每一個包括第一側面、第二側面、第二外部側壁和內部側壁,所述第二側面與所述第一側面相對并且經由第一外部側壁連接到所述第一側面,所述第二外部側壁設置在所述第一外部側壁內部并界定從所述第二側面的平面凸出的上升區域,所述內部側壁連接所述上升區域和所述第一側面。所述防護罩還包含矩形條狀物,所述矩形條狀物設置在所述上升區域的表面上,所述矩形條狀物經由緊固組件耦合到所述框架構件,所述矩形條狀物環繞所述框架構件的內表面。所述矩形條狀物包含第一末端和第二末端,所述第二末端耦合到所述第一末端并且延伸經過所述內部側壁而進入所述框架構件的內部區域內。
在另一實施例中,提供了一種用于沉積腔室的處理套件。所述處理套件包含陰影框架和防護罩。所述防護罩包含矩形框架構件,所述矩形框架構件具有兩個相對的主要側面和兩個相對的次要側面,所述主要側面和次要側面中的每一者包含第一側面、第二側面、第二外部側壁和內部側壁,所述第二側面與所述第一側面相對并且經由第一外部側壁連接到所述第一側面,所述第二外部側壁設置在所述第一外部側壁內部并界定從所述第二側面的平面凸出的上升區域,所述內部側壁連接所述上升區域和所述第一側面。所述防護罩還包含矩形條狀物,所述矩形條狀物設置在所述上升區域的表面上,所述矩形條狀物包含第一末端和第二末端,所述第二末端耦合到所述第一末端并且延伸進入所述框架構件的內部區域內。
附圖說明
因此,可詳細地理解本實用新型的上述特征結構的方式,即上文簡要概述的本實用新型的更具體描述可參照實施例進行,其中一些實施例圖示在附圖中。然而,應注意,附圖僅圖示本實用新型的典型實施例,且因此不應被視為本實用新型范圍的限制,因為本實用新型可允許其他等效的實施例。
圖1是根據一個實施例的CVD裝置的示意性剖視圖。
圖2是圖1所示裝置的腔室主體中所使用的內部腔室部件的分解等軸視圖。
圖3A是圖1所示的基板支撐件的側視剖視圖,所述基板支撐件上具有在處理位置的基板。
圖3B是圖3A所示防護罩的框架的一部分的放大剖視圖。
圖4A是防護罩的一個實施例的等軸視圖,所述防護罩可用于圖1所示裝置中。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于應用材料公司,未經應用材料公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201320816022.6/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種熔融電解提純金屬鈉的裝置
- 下一篇:一種薄膜鍍鋁機收卷氣漲軸
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





