[實用新型]極紫外光刻反射式光學(xué)元件溫控裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201320807402.3 | 申請日: | 2013-12-10 |
| 公開(公告)號: | CN203643742U | 公開(公告)日: | 2014-06-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王魁波;吳曉斌;王宇;陳進新;張羅莎;羅艷;謝婉露 | 申請(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院光電研究院 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20;G05D23/20 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 宋焰琴 |
| 地址: | 100094*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 紫外 光刻 反射 光學(xué) 元件 溫控 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及一種溫控裝置,特別是一種適用于極紫外光刻反射式光學(xué)元件的溫控裝置。
背景技術(shù)
極紫外光刻(EUVL)是目前國際上最具潛力、可以滿足CD32/22/16nm等節(jié)點IC量產(chǎn)的光刻技術(shù)。由于大部分氣體都吸收13.5nm的極紫外光,尤其是碳氫化合物、水蒸汽等對極紫外光具有強烈吸收作用,因此需要提供給光刻機清潔的真空環(huán)境。
圖1顯示了極紫外光刻系統(tǒng)的原理示意圖。如圖1所示,極紫外光刻系統(tǒng)包括真空腔10和在真空腔10內(nèi)的專用的反射式光學(xué)元件11(掩模和光學(xué)系統(tǒng)),反射式光學(xué)元件11依靠多層膜涂層技術(shù)在極紫外光波段可以獲得60%以上的反射率,也即真空腔10內(nèi)的反射式光學(xué)元件受到EUV輻照光12的幅照時,會吸收大約30%~40%的入射能量,從而產(chǎn)生加熱效應(yīng)。
一般光學(xué)材料的導(dǎo)熱系數(shù)比較小,在散熱時會產(chǎn)生一定的溫度梯度,從而引起光學(xué)元件的熱變形。極紫外(EUV)光學(xué)系統(tǒng)對光學(xué)元件11的反射面的形變要求極為苛刻,一般僅允許在0.1nm范圍內(nèi)。制造光學(xué)元件11的玻璃具有很低的熱膨脹系數(shù),其在某一溫度時,熱膨脹系數(shù)為零,該溫度稱為零膨脹溫度,也即最佳工作溫度。只要保證工作中的光學(xué)元件11溫度在此溫度,便不會發(fā)生形變。一般的,該溫度與室溫(22℃)相差無幾。因此,必須對光學(xué)元件11進行高精度的溫控,以使其工作在零膨脹溫度,從而盡可能減小其熱變形。
與此同時,光學(xué)元件11的振動也會對光刻精度產(chǎn)生極大影響,在進行溫控時,不能引入振動源。
實用新型內(nèi)容
(一)要解決的技術(shù)問題
為了保證極紫外光刻反射式光學(xué)元件的正常工作,必須解決以下幾個問題:(1)在真空環(huán)境下進行有效、高精度溫控,保證其工作溫度盡可能接近零膨脹溫度;(2)在進行溫控時,不能給光學(xué)元件引入振動源;(3)在進行溫控時,不能給真空環(huán)境引入污染性氣體,如碳氫化合物、水蒸汽、溴化氫等。
(二)技術(shù)方案
為解決上述技術(shù)問題,本實用新型提出一種極紫外光刻反射式光學(xué)元件溫控裝置,包括測溫單元、控制單元和冷卻單元,測溫單元用于檢測極紫外光刻反射式光學(xué)元件的溫度分布或熱變形,為控制單元提供決策依據(jù);控制單元用于接收測溫單元傳輸?shù)膶崟r監(jiān)測數(shù)據(jù),將控制命令發(fā)送給冷卻單元;冷卻單元用于根據(jù)控制單元發(fā)出的控制命令可控地對極紫外光刻反射式光學(xué)元件進行冷卻,所述冷卻單元包括環(huán)路熱管,所述環(huán)路熱管包括用于傳遞所述光學(xué)元件產(chǎn)生的熱量的柔性管路,該柔性管路還用于隔絕由液冷系統(tǒng)產(chǎn)生的振動傳遞至所述光學(xué)元件。
根據(jù)本實用新型的一種具體實施方式,所述柔性管路是細長而有柔性的光滑管道。
根據(jù)本實用新型的一種具體實施方式,所述環(huán)路熱管還包括蒸發(fā)器和冷凝器,
根據(jù)本實用新型的一種具體實施方式,所述冷卻單元還包括擴熱板,所述擴熱板安裝在所述光學(xué)元件的底部,用于均勻化所述光學(xué)元件的溫度和強化導(dǎo)熱,所述環(huán)路熱管的蒸發(fā)器與該擴熱板連接。
根據(jù)本實用新型的一種具體實施方式,所述冷卻單元還包括半導(dǎo)體制冷器,所述半導(dǎo)體制冷器具有冷端和熱端。
根據(jù)本實用新型的一種具體實施方式,所述冷卻單元還包括冷卻套和液冷系統(tǒng)。
根據(jù)本實用新型的一種具體實施方式,所述控制單元為控制器,所述半導(dǎo)體制冷器、控制器以及冷卻套置于全金屬密封的真空密封件內(nèi)。
(三)有益效果
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實用新型提出的溫控裝置能夠在真空環(huán)境下對極紫外光學(xué)元件進行有效、高精度溫控,并且不會引入振動源和污染性氣體。
附圖說明
圖1為極紫外光刻系統(tǒng)的原理示意圖;
圖2為本實用新型極紫外光刻反射式光學(xué)元件的溫控裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
本實用新型提出一種應(yīng)用于極紫外光刻系統(tǒng)的極紫外光刻反射式光學(xué)元件的溫控裝置。總的來說,其包括測溫單元、控制單元和冷卻單元。測溫單元通過各種傳感器(紅外熱像儀、接觸式溫度傳感器或者鏡面形變傳感器等)來檢測極紫外光刻反射式光學(xué)元件的溫度分布或熱變形,從而為控制單元提供決策依據(jù)。控制單元接收測溫單元傳輸?shù)膶崟r監(jiān)測數(shù)據(jù),根據(jù)控制策略做出決策,并將控制命令發(fā)送給冷卻單元。冷卻單元用于根據(jù)控制單元發(fā)出的控制命令可控地對極紫外光刻反射式光學(xué)元件進行冷卻,其主要包括擴熱板、環(huán)路熱管、半導(dǎo)體制冷器和液冷系統(tǒng)。
為使本實用新型的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點更加清楚明白,以下結(jié)合具體實施例,并參照附圖,對本實用新型作進一步的詳細說明。
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