[實(shí)用新型]一種ITO鍍膜生產(chǎn)線

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201320807172.0
• 申請(qǐng)日: 2013-12-11
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN203700486U
• 公開(kāi)（公告）日: 2014-07-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 郭衛(wèi)軍
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 湖北優(yōu)泰顯示技術(shù)有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): C23C14/24
• 分類(lèi)號(hào): C23C14/24;C23C14/56
• 代理公司: 北京鼎佳達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11348
• 代理人: 王偉鋒;劉鐵生

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及ITO鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種ITO鍍膜生產(chǎn)線。

背景技術(shù)

氧化銦錫（ITO）是一種N型半導(dǎo)體，常溫下具有良好的導(dǎo)電性能，對(duì)可見(jiàn)光有很好的透過(guò)率，是生產(chǎn)液晶屏及觸摸屏的關(guān)鍵材料之一。液晶顯示器之所以能顯示特定的圖形，就是利用導(dǎo)電玻璃上的透明導(dǎo)電膜，經(jīng)蝕刻制成特定外形的電極，上下導(dǎo)電玻璃制成液晶盒后，在這些電極上加適當(dāng)電壓信號(hào)，使具有偶極矩的液晶分子在電場(chǎng)作用下特定的方面排列，僅而顯示出與電極波長(zhǎng)相對(duì)應(yīng)的圖形。隨著液晶屏及觸摸屏技術(shù)的高速發(fā)展，如何使得ITO鍍膜生產(chǎn)效率更高，產(chǎn)品穿透率和阻抗特性更理想，成為函待解決的問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容

本實(shí)用新型的目的在于針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足而提供一種ITO鍍膜生產(chǎn)線，可大大提高ITO鍍膜生產(chǎn)效率，使得產(chǎn)品穿透率和阻抗特性更理想。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用以下技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn)。

一種ITO鍍膜生產(chǎn)線，它包括玻璃基片輸送線、基片夾具、夾具機(jī)械手和真空鍍膜機(jī)，真空鍍膜機(jī)設(shè)置于玻璃基片輸送線的右端；所述基片夾具用于裝夾玻璃基片，所述基基片夾具放置在玻璃基片輸送線上進(jìn)行輸送，夾具機(jī)械手夾持基片夾具并將基片夾具放置于真空鍍膜機(jī)內(nèi)；所述真空鍍膜機(jī)包括有從左至右依次設(shè)置的SiO₂膜真空鍍膜室、ITO膜真空鍍膜室、穿透率檢驗(yàn)室和阻抗特性檢驗(yàn)室，真空鍍膜機(jī)還設(shè)置有穿設(shè)所述SiO₂膜真空鍍膜室、ITO膜真空鍍膜室、穿透率檢驗(yàn)室和阻抗特性檢驗(yàn)室的輸送帶。

本實(shí)用新型的有益效果為：本實(shí)用新型所述一種ITO鍍膜生產(chǎn)線，可大大提高ITO鍍膜生產(chǎn)效率，使得產(chǎn)品穿透率和阻抗特性更理想。

附圖說(shuō)明

圖1為本實(shí)用新型的原理框圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的說(shuō)明。

如圖1所示，一種ITO鍍膜生產(chǎn)線，它包括玻璃基片輸送線1、基片夾具2、夾具機(jī)械手3和真空鍍膜機(jī)4，真空鍍膜機(jī)4設(shè)置于玻璃基片輸送線1的右端；所述基片夾具2用于裝夾玻璃基片，所述基片夾具2放置在玻璃基片輸送線1上進(jìn)行輸送，夾具機(jī)械手3夾持基片夾具2并將基片夾具2放置于真空鍍膜機(jī)4內(nèi)；所述真空鍍膜機(jī)4包括有從左至右依次設(shè)置的SiO₂膜真空鍍膜室40、ITO膜真空鍍膜室41、穿透率檢驗(yàn)室42和阻抗特性檢驗(yàn)室43，真空鍍膜機(jī)4還設(shè)置有穿設(shè)所述SiO2膜真空鍍膜室40、ITO膜真空鍍膜室41、穿透率檢驗(yàn)室42和阻抗特性檢驗(yàn)室43的輸送帶44。

上述一種ITO鍍膜生產(chǎn)線的工作原理是，工作時(shí)，將玻璃基片裝夾于基片夾具2，基片夾具放置在玻璃基片輸送線1上進(jìn)行輸送，夾具機(jī)械手3夾持基片夾具2并將基片夾具2放置于真空鍍膜機(jī)4的SiO₂膜真空鍍膜室40，?SiO2膜真空鍍膜室40對(duì)玻璃基片進(jìn)行真空鍍膜，在玻璃基片的鍍膜面上鍍上一層30μm厚的SiO₂膜；輸送帶44將玻璃基片輸送到ITO膜真空鍍膜室41，ITO膜真空鍍膜室41的蒸發(fā)源將第一步所配置的ITO膜膠液蒸發(fā)鍍于玻璃基片的SiO₂膜上，形成一層25μm厚的ITO膜；輸送帶44將玻璃基片輸送到穿透率檢驗(yàn)室42，穿透率檢驗(yàn)室42對(duì)玻璃基片的穿透率進(jìn)行檢驗(yàn)并得到穿透率檢驗(yàn)數(shù)據(jù)；輸送帶44將玻璃基片輸送到阻抗特性檢驗(yàn)室43，阻抗特性檢驗(yàn)室43對(duì)玻璃基片的阻抗特性進(jìn)行檢驗(yàn)并得到阻抗特性檢驗(yàn)數(shù)據(jù)；根據(jù)穿透率檢驗(yàn)數(shù)據(jù)和阻抗特性檢驗(yàn)數(shù)據(jù)判斷產(chǎn)品是否為良品，良品即包裝起來(lái)。所述一種ITO鍍膜生產(chǎn)線可大大提高ITO鍍膜生產(chǎn)效率，使得產(chǎn)品穿透率和阻抗特性更理想。

上述一種ITO鍍膜生產(chǎn)線的的ITO鍍膜生產(chǎn)工藝，包括如下步驟：

第一步，配置ITO膜膠液：將一定量的銦溶解在濃酸鹽中得到InCl₃溶液，取出一定量的InCl₃溶液，與乙酰丙酮按1:2—1:3的摩爾比混合攪拌得到透明溶液；再按透明溶液與乙二醇甲醚的質(zhì)量比為80:5的比例加入乙二醇甲醚，在室溫下攪拌，得到In溶膠；按In：Sn質(zhì)量比為25:2的比例加入SnCl₄·5H₂O，攪拌20min得到In-Sn溶膠，然后按In-Sn溶膠與聚乙二醇的質(zhì)量比為80:20的比例加入聚乙二醇，靜置40min得到ITO膜膠液；