[實(shí)用新型]太陽能選擇性涂層法向發(fā)射率測(cè)試裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201320781953.7
• 申請(qǐng)日: 2013-12-03
• 公開（公告）號(hào): CN203688472U
• 公開（公告）日: 2014-07-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 鄧金雁;沈劍山;周福云;譚卓鵬;賀冬枚
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 康達(dá)新能源設(shè)備股份有限公司
• 主分類號(hào): G01N25/00
• 分類號(hào): G01N25/00
• 代理公司: 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 44224
• 代理人: 譚一兵;曾云騰

技術(shù)領(lǐng)域

?本實(shí)用新型涉及發(fā)射率測(cè)量技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種太陽能選擇性涂層法向發(fā)射率測(cè)試裝置。

背景技術(shù)

?熱輻射體表面的法線方向光譜輻射強(qiáng)度與相同溫度下黑體的法線方向光譜輻射強(qiáng)度之比稱為法向光譜發(fā)射率。若對(duì)法向發(fā)射率指定波長λ₁-λ₂范圍，則稱為法向波段發(fā)射率或法向積分發(fā)射率。法向積分發(fā)射率的測(cè)量結(jié)果僅為一數(shù)值，因此便于不同樣品測(cè)量結(jié)果間的比較，應(yīng)用廣泛。

能量法測(cè)物體發(fā)射率的原理是根據(jù)普朗克定律或斯蒂芬-玻耳茲曼定律和發(fā)射率定義，通過測(cè)量樣品的輻射能量計(jì)算出物體的發(fā)射率。由于絕對(duì)輻射能量的測(cè)量存在較大誤差，因此目前主要采用能量比較法進(jìn)行測(cè)量，即在同一溫度下，分別測(cè)量黑體與樣品的輻射能量，計(jì)算兩者的比值。傳統(tǒng)的能量法發(fā)射率測(cè)試裝置加熱不均勻，且升溫較慢，真空室的室壁在使用中會(huì)過熱，在使用一定時(shí)間后，需停機(jī)進(jìn)行冷卻，影響測(cè)試結(jié)果，且環(huán)境雜散輻射大。

發(fā)明內(nèi)容

基于此，有必要針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)的問題，提供一種太陽能選擇性涂層法向發(fā)射率測(cè)試裝置，實(shí)現(xiàn)波長范圍0.4～10.4μm、溫度300～600℃范圍內(nèi)的涂層法向發(fā)射率的測(cè)量，設(shè)備簡單，技術(shù)可靠，測(cè)試效率高。

一種太陽能選擇性涂層法向發(fā)射率測(cè)試裝置，包括真空加熱室、探測(cè)結(jié)構(gòu)、黑體、溫控結(jié)構(gòu)和處理結(jié)構(gòu)，所述探測(cè)結(jié)構(gòu)位于所述真空加熱室的上方，所述黑體位于所述探測(cè)結(jié)構(gòu)的一側(cè)，所述溫控結(jié)構(gòu)電性連接于所述真空加熱室，所述探測(cè)結(jié)構(gòu)和溫控結(jié)構(gòu)分別電性連接于所述處理結(jié)構(gòu)；所述真空加熱室包括真空室和加熱臺(tái)，所述加熱臺(tái)設(shè)于所述真空室的內(nèi)部，真空室的一側(cè)設(shè)有真空接口和電氣接口，所述真空接口連接有真空抽氣機(jī)組。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述真空室的室壁為水冷結(jié)構(gòu)，所述室壁上設(shè)有循環(huán)水入口、循環(huán)水出口和氟化鈣窗口。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述加熱臺(tái)上具有一均熱板，所述均熱板的正下方設(shè)有第一熱電偶。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述黑體為空腔式結(jié)構(gòu)，黑體的空腔內(nèi)設(shè)有硅碳加熱板和第二熱電偶，第二熱電偶固定在硅碳板加熱板中心。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述溫控結(jié)構(gòu)包括PID溫度控制器和繼電器。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述測(cè)量結(jié)構(gòu)包括探測(cè)器、鎖相放大器和數(shù)據(jù)采集卡，所述探測(cè)器位于所述真空室的正上方，所述鎖相放大器電性連接于所述探測(cè)器，所述數(shù)據(jù)采集卡電性連接于所述鎖相放大器。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述探測(cè)器的探測(cè)端外設(shè)有水冷光柵。

上述太陽能選擇性涂層法向發(fā)射率測(cè)試裝置，結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)合理、簡單、使用方便，加熱均勻，提高了測(cè)量精度和穩(wěn)定性。真空加熱室為水冷結(jié)構(gòu)，防止室壁過熱，其內(nèi)壁經(jīng)拋光處理，減少了環(huán)境雜散輻射。

本實(shí)用新型適用于涂層在溫度300～600℃范圍內(nèi)、波長0.4～10.6μm范圍內(nèi)的法向發(fā)射率測(cè)量，測(cè)試結(jié)果精度高，成本低廉，性能穩(wěn)定，測(cè)試效率高。

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖。

以下是本實(shí)用新型零部件符號(hào)標(biāo)記說明：

真空加熱室10、真空室11、加熱臺(tái)12、真空接口13、電氣接口14、循環(huán)水入口15、循環(huán)水出口16、氟化鈣窗口17、均熱板18、第一熱電偶19、探測(cè)結(jié)構(gòu)20、探測(cè)器21、鎖相放大器22、數(shù)據(jù)采集卡23、水冷光柵24、黑體30、第二熱電偶31、溫控結(jié)構(gòu)40、PID溫度控制器41、繼電器42、處理結(jié)構(gòu)50。

具體實(shí)施方式

為能進(jìn)一步了解本實(shí)用新型的特征、技術(shù)手段以及所達(dá)到的具體目的、功能，解析本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)與精神，藉由以下結(jié)合附圖與具體實(shí)施方式對(duì)本實(shí)用新型的詳述得到進(jìn)一步的了解。

一種太陽能選擇性涂層法向發(fā)射率測(cè)試裝置，包括真空加熱室10、探測(cè)結(jié)構(gòu)20、黑體30、溫控結(jié)構(gòu)40和處理結(jié)構(gòu)50。探測(cè)結(jié)構(gòu)20位于真空加熱室10的上方，黑體30位于探測(cè)結(jié)構(gòu)20的一側(cè)，溫控結(jié)構(gòu)40電性連接于真空加熱室10，探測(cè)結(jié)構(gòu)20和溫控結(jié)構(gòu)40分別電性連接于處理結(jié)構(gòu)50。真空加熱室10包括真空室11和加熱臺(tái)12，加熱臺(tái)12設(shè)于真空室11的內(nèi)部，真空室11的一側(cè)設(shè)有真空接口13和電氣接口14，真空接口13連接有真空抽氣機(jī)組。真空室11與真空抽氣機(jī)組通過快速接頭連接，在不做法向發(fā)射率測(cè)試時(shí)，真空抽氣機(jī)組可以進(jìn)行其他的真空抽氣工作，優(yōu)化了資源配置。