[實用新型]透過波長1700nm以上的火焰探測濾光片有效

申請號：	201320777760.4	申請日：	2013-11-29
公開（公告）號：	CN203551820U	公開（公告）日：	2014-04-16
發明（設計）人：	王繼平;呂晶;劉晶	申請（專利權）人：	杭州麥樂克電子科技有限公司
主分類號：	G02B5/20	分類號：	G02B5/20
代理公司：	杭州斯可睿專利事務所有限公司 33241	代理人：	周豪靖
地址：	311188 浙江省杭州市***	國省代碼：	浙江;33
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摘要：
搜索關鍵詞：	透過波長 1700 nm 以上火焰探測濾光
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【權利要求書】：

1.一種透過波長1700nm以上的火焰探測濾光片，包括以Si為原材料的基板，以Si、SiO2為第一鍍膜層和以Si、SiO2為第二鍍膜層，且所述基板位于第一鍍膜層和第二鍍膜層之間，其特征是：所述第一鍍膜層由內向外依次排列包含有：110nm厚度的Si層、64nm厚度的SiO2層、130nm厚度的Si層、156nm厚度的SiO2層、84nm厚度的Si層、253nm厚度的SiO2層、75nm厚度的Si層、227nm厚度的SiO2層、96nm厚度的Si層、182nm厚度的SiO2層、103nm厚度的Si層、217nm厚度的SiO2層、70nm厚度的Si層、267nm厚度的SiO2層、51nm厚度的Si層和514nm厚度的SiO2層；所述第二鍍膜層由內向外依次排列包含有：56nm厚度的Si層、57nm厚度的SiO2層、111nm厚度的Si層、108nm厚度的SiO2層、88nm厚度的Si層、103nm厚度的SiO2層、67nm厚度的Si層、106nm厚度的SiO2層、81nm厚度的Si層、169nm厚度的SiO2層、52nm厚度的Si層和494nm厚度的SiO2層。

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