[實用新型]用于真空鍍膜的磁導向裝置

有效

• 申請號: 201320747610.9
• 申請日: 2013-11-25
• 公開（公告）號: CN203593783U
• 公開（公告）日: 2014-05-14
• 發明（設計）人: 汪奇;陶道昌
• 申請（專利權）人: 安徽今上顯示玻璃有限公司
• 主分類號: C23C14/50
• 分類號: C23C14/50;C23C14/56
• 代理公司: 上海翼勝專利商標事務所(普通合伙) 31218
• 代理人: 翟羽

技術領域

本實用新型涉及機械制造技術領域，尤其涉及一種用于真空鍍膜生產線

的傳送工件裝置的磁導向裝置。

背景技術

現在真空鍍膜技術蓬勃發展，所有鍍膜過程都是在一個相對密閉的空間（箱體內真空壓力遠遠低于大氣壓力）完成。由于真空獲得設備的技術限制，真空空間的尺寸會相對狹小（一般空間的縫隙也就在20公分左右），這樣才能達到真空獲得設備的最理想抽氣空間，從而獲得真空鍍膜工藝要求的真空度。要獲得高的生產效率，傳送工件的裝置要做得較高（一般高度都在1.6米以上），這樣對傳送工件的裝置的控制和導向就顯得非常重要。

對真空密閉空間的工件的傳動就要求傳動平穩、可靠，又要求尺寸不能做得很大。而目前的傳動制導一般有如下三種模式獲得?：（1）傳統的齒輪、齒條模式，此模式傳動不平穩，且齒輪、齒條易磨損，已逐漸被淘汰。（2）傾斜6-10°角，再配滾動軸承傳動模式，此模式比較新穎，但一方面制造成本高，結構復雜，另一方面在真空室中，軸承沒有潤滑易損壞，隱患多。（3）磁導向與滑動摩擦配合的模式，這種模式結構簡單，傳動也較平穩，為目前大多數ITO廠家采用。第三種模式利用磁鐵的相互作用力，在磁導軌座的兩側及傳送構件上都裝上磁鐵，利用磁鐵同性相斥的原理，控制傳送工件裝置在磁導軌座內傳動，從而達到控制傳送工件裝置方向的目的。

圖1所示為現有技術中用于真空鍍膜的傳動制導裝置的結構示意圖，圖2所示為圖1中A部位的放大結構示意圖。參見圖1及圖2，所述傳動制導裝置100包括真空鍍膜箱101、磁導軌座102、傳送構件103、傳送座104。磁導軌座102開口向下安裝在所述真空鍍膜箱101?頂板上。在所述磁導軌座102兩側壁上，沿所述磁導軌座102軸線方向直線排列各設有多組第一磁導向單元105，所述磁導軌102兩側壁相對應的第一磁導向單元105極性相對，即一側壁的第一磁導向單元105的極性為S極，則另一側壁對應的第一磁導向單元的極性為N極。所述傳送構件103的頂端設置有一沿所述磁導軌座102軸向方向直線排列的第二磁導向單元106，所述傳送構件103的頂端插裝在磁導軌座102內的第一磁導向單元105?之間，所述第二磁導向單元106的N?極、S?極與所述第一磁導向單元的N極和S極分別相對應，即所述第二磁導向單元106的N極與磁導軌座102的一側壁的第二磁導向單元105的N極對應，第二磁導向單元106的S極與磁導軌座102的另一側壁的第二磁導向單元105的S極對應，以利用同性相斥的原理控制傳送構件103的方向。所述傳送座104設置在傳送構件103的底端，為傳送構件103提供一滑動摩擦力，以使得傳送構件103運動。

由于傳送構件103的頂端插入磁導軌座102中，使得傳送構件103在磁導軌座103里運動，且傳送構件103在加熱過程中存在變形，不可避免的會和磁導軌座102摩擦，會產生許多微小的粉塵和顆粒，這些粉塵和顆粒會墜入到真空箱體里或吸附在玻璃基板上，影響基板的膜層質量。同時由于磁導軌座102兩側壁的磁導向單元102的極性相反，則兩邊的磁力相互抵消，因此傳送構件103的所有重量均壓在下端的傳動座104上，加重了傳動座104的磨損。

實用新型內容

本實用新型所要解決的技術問題是，提供一種用于真空鍍膜的磁導向裝置，其能夠避免磁導軌座與傳送構件摩擦，提高鍍膜質量，而且還能夠減輕傳動座的磨損。

為了解決上述問題，本實用新型提供了一種用于真空鍍膜的磁導向裝置，包括磁導軌座、傳送構件及傳送座，所述磁導軌座安裝在真空鍍膜箱的頂板上，所述傳送構件一端朝向所述磁導軌座并與所述磁導軌座有一距離，另一端與所述傳送座相連，所述傳送座用于驅動傳送構件運動，所述磁導軌座朝向傳送構件的一端設置有第一磁導向單元，所述傳送構件朝向所述磁導軌座的一端設置有一第二磁導向單元，所述第一磁導向單元與所述第二磁導向單元相對的側面極性相反。

進一步，所述磁導軌座通過一磁導軌座固定裝置與所述真空鍍膜箱的頂板相連。

進一步，所述磁導軌座軸向中心與所述傳送構件的軸向中心在同一平面內。

進一步，所述第一磁導向單元通過一壓條固定在所述磁導軌座內。

進一步，所述第二磁導向單元通過一壓條固定在所述傳送構件內。

進一步，所述傳送構件通過一滾輪與所述傳送座相連，所述傳送座施加給傳送構件一滑動摩擦力。

本實用新型用于真空鍍膜的磁導向裝置的優點在于：